【課題】
本発明の目的は、エキシマランプ１の点灯時の内側管４の管軸方向への熱膨張による損傷や破損を防止し、エキシマランプ１の点灯開始時の外側電極８と内側電極３間の沿面放電を防止すると共に、エキシマ発光を開始することにある。
【解決手段】
本発明は、放電ガスが封入された放電容器と、前記放電容器内に配置し、放電容器と離隔した誘電体材料と、前記誘電体材料内に配置し、前記放電容器内の管軸方向に延在すると共に、一端を放電容器の端部で封止した内側電極と、前記内側電極と接続し、放電容器から突出した外部リードと、前記放電容器の外周面に配置された外側電極とからなるエキシマランプにおいて、導電部材が、放電容器の外周面に配置され、内側電極と電気的に接続されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 特定波長の紫外線を利用して、ポリジメチルシロキサンよりなる基板の表面に、荒れやクラックを発生させることなく、流路形成部分の表面の親水化処理を行うことができると共に２枚の基板を確実に貼り合わせることができ、従って、所期の性能を有するものを確実に製造することのできるマイクロチップの製造方法を提供すること。
【解決手段】 ポリジメチルシリコンよりなる一方の基板、および、ガラスまたはポリジメチルシリコンよりなる他方の基板の少なくとも一方に対して波長１７２ｎｍの光を含む紫外線を照射して両基板を貼り合わせることにより、内部に媒体が流れる流路を有するマイクロチップを製造する方法において、紫外線を照射する工程においては、基板の表面における流路形成部分および当該流路形成部分以外の接着面形成部分の各々に対して、互いに異なる照射エネルギー量で、紫外線が照射される。 （もっと読む）

【課題】製造時の作業が容易であり、かつマルチフィラメントランプから放射される光がリードによって妨げられることの少ない構造を有するマルチフィラメントランプを提供すること。
【解決手段】発光管１１の管軸方向に沿って順に配置された複数のフィラメント１４ｂ、１５ｂ、１６ｂおよび該複数のフィラメント１４ｂ、１５ｂ、１６ｂの各々に連結され個別に電力を供給するリード１４ａ〜１６ｃを有する複数のフィラメント体１４、１５、１６と、前記リードの各々に電気的に接続された導電性部材１８ａ〜１８ｆと、導電性部材１８ａ〜１８ｆが配置された発光管１１の両端に設けられた２つの封止部１２ａ、１２ｂと、を具備するマルチフィラメントランプ１において、少なくとも一方の封止部１２ａにおいて導電性部材１８ａ〜１８ｃがロッドシールされていることを特徴とするマルチフィラメントランプである。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネル基板、半導体ウエハ、磁気ディスク基板、光ディスク基板等が大型化しても、紫外光を照射して、洗浄，エッチング等を行う基板処理に好適に対応できると共に、ランプの長寿命化を実現できる、エキシマランプの構造を提供すること。
【解決手段】 誘電体からなる放電容器にエキシマ生成ガスが封入され、一対の電極が備わり、該一対の電極間には二つの誘電体部材が介在してなり、該一対の電極に高電圧が印加されて放電するエキシマランプにおいて、一方の誘電体部材には他方の誘電体部材に向けて延在する支持部材を有し、該支持部材と該他方の誘電体部材とが接触する、該支持部材または該他方の誘電体部材の部位に、緩衝材を具備したことを特徴とするエキシマランプとする。 （もっと読む）

【課題】太陽光の吸収に必要な膜厚の数倍の少数キャリヤ拡散長を持つ薄膜太陽電池材料を得ること。
【解決手段】基板上に形成された非晶質半導体膜または微結晶含有半導体膜を0.1秒以下かつ0.00001秒以上の短時間高エネルギー・ビーム照射による瞬間熱処理により、結晶粒が稠密に詰まった多結晶半導体膜となし、かつその膜の欠陥を１気圧以上の高圧水蒸気中での熱処理により消去したものを、太陽光を吸収し電子とホールを発生させる活性領域に用いる。 瞬間熱処理により非晶質シリコン膜を結晶化させて多結晶薄膜を作製し、さらに高圧水蒸気処理による欠陥消去法を施すことにより、可視光領域の光吸収係数が従来の結晶シリコンよりも高く、さらに少数キャリヤ拡散長が10μmを超える高品質多結晶シリコン膜を作製し、太陽電池の発電層に利用する。 （もっと読む）

【課題】エネルギービームを照射して原料を気化し、電極放電により高温プラズマを生成するＥＵＶ光源装置において、エネルギービームが電極に照射されることにより発生する電極のアブレーションを抑制すること。
【解決手段】プラズマ原料２ａが原料供給手段２によって、放電領域（放電電極１ａ，１ｂ間）の近傍（放電領域を除く空間であって、レーザビーム５により気化された原料が放電領域に到達できる空間）に滴下され、レーザビーム５が高温プラズマ原料２ａに対して照射される。レーザビーム５の照射により気化した高温プラズマ原料２ｂは放電領域の方向に広がる。この時点で一対の放電電極１ａ，１ｂに電力が印加されると、気化した高温プラズマ原料２ｂは加熱・励起されて高温プラズマ４となり、ＥＵＶ光を放射する。当該ＥＵＶ光放射は、ＥＵＶ集光鏡３により集光され不図示の露光装置に送られる。 （もっと読む）

【課題】 複数のフィラメントの発光状態が独立に制御されて所望の放射照度分布が得られ、しかも、大電力をフィラメントに投入した場合であっても、隣り合うフィラメント体における互いに接近する部分で不所望な放電の発生が確実に防止されるフィラメントランプおよび被処理体を均一に加熱することのできる光照射式加熱処理装置の提供。
【解決手段】 フィラメントランプは、発光管の内部に、各々フィラメントとリードとからなるフィラメント体の複数が管軸方向に順次に並設されてなり、隣り合うフィラメント体の互いに接近する端部同士が同位相となるよう各フィラメントにそれぞれ独立に交流電力が供給される構成、あるいは隣り合うフィラメント体の互いに接近する端部同士が同極性となるよう各フィラメントにそれぞれ独立に直流電力が供給される構成とされている。光照射式加熱処理装置は、当該フィラメントランプを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】 基板の大型化に好適に対応できると共にランニングコストを低減でき、基板表面の処理を確実に行うことができる、エキシマランプ装置を提供すること。
【解決手段】 本発明に係るエキシマランプ装置は、エキシマランプが収納されたランプハウスと、ランプハウス内に配置されてエキシマランプに対して平行かつ交互に位置されたガス噴出口が設けられてなるガス供給用配管と、ガス供給用配管に水蒸気を含む不活性気体を導入するガス供給手段とを具備し、前記ガス供給手段により絶対湿度が所定に制御された不活性気体が前記ガス供給用配管に供給されることを特徴とする。また前記絶対湿度は重量絶対湿度に換算して０．５〜６．５ｇ／ｋｇであるのがよい。 （もっと読む）

【課題】電極からの熱放射特性を改善して、電極の温度を効率良く下げることである。
【解決手段】発光管（１１）に一組の電極（２０，３０）を有する構造であって、電極のうち少なくとも一方の電極（２０）は、側面の少なくとも一部に溝部が形成されており、この溝部の深さＤと溝部のピッチＰとの関係がＤ／Ｐ≧２であり、ピッチＰは１５０μｍ〜５００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数のフィラメントの点灯状態が独立に制御されて所望の光放射照度分布が得られ、しかも、大電力が投入可能であって各フィラメントについて急速な立ち上がり特性が得られるフィラメントランプおよび被処理体を均一に加熱することができる光照射式加熱処理装置を提供すること。
【解決手段】 フィラメントランプは、発光管の内部に、各々コイル状のフィラメントとリードとからなるフィラメント体の複数が管軸方向に並んで配設されてなり、各フィラメントに独立に給電される構成のものであって、各リードは、フィラメントのコイル軸方向に伸びるフィラメント連結部がフィラメントの端部の内部空間内に挿入されてその外周面がフィラメントに当接状態で配置されると共に、フィラメントの径方向に伸びる径方向部がフィラメントのコイルピッチ間に挟まれた状態で係止されて、フィラメントと連結されている。 （もっと読む）