【課題】航空機の脚揚降装置に用いられ、エネルギー効率を高めることができるスナビング機構を実現した電気油圧式アクチュエータを提供する。
【解決手段】シリンダ式のアクチュエータ本体１と、アクチュエータ本体のシリンダ内を摺動するピストンロッドを有するピストン２と、モータ１８と、モータの回転に応じて流体を供給するポンプ１９と、ピストンの運動に応じてシリンダの流体の出入量を調整する機構と、ピストンの運動に応じて生ずる体積差に対応する流体の供給量を調整するリザーバ８とを有するスナビング性に優れる電気油圧式アクチュエータと、算出される負荷トルクに応じてモータの回転数を制御するコントローラ１７およびこれに用いられるスナビング制御方法である。 （もっと読む）

【課題】人体の自由な動きの中においても人体の動作及び／又は位置を検出できる検出装置を提供する。
【解決手段】角度・角速度検出装置１は、角速度を検出するジャイロスコープ２，２，…と、ジャイロスコープ２，２，…が配設され、人体の腕に装着される装着具３と、ジャイロスコープ２，２，…からの出力結果を処理する本体部４とを備えている。装着具３は、人体の特定の部位を基準にしてジャイロスコープ２，２，…を人体に対して位置決めした状態で取り付ける。 （もっと読む）

【課題】ワイドギャップ半導体基板を高精度にエッチングすることができるプラズマエッチング方法を提供する。
【解決手段】不活性ガスを処理チャンバ内に供給してプラズマ化するとともに、ワイドギャップ半導体基板が載置される基台にバイアス電位を与え、不活性ガスのプラズマ化により生成されたイオンを基台上の半導体基板に入射させて半導体基板を加熱し、半導体基板の温度が２００℃〜４００℃の温度でエッチング時の温度になった後、エッチングガスを処理チャンバ内に供給してプラズマ化するとともに、基台にバイアス電位を与え、半導体基板の温度を前記エッチング時の温度に維持しながら半導体基板をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】高純度で高濃度なオゾンガスを最初から安定して生成できるオゾンガス発生装置を提供する。
【解決手段】原料ガスに、高純度の酸素ガスを用いてオゾンガスを発生させるオゾンガス発生装置である。一対の電極１４，１４の各々の対向面側に、各々１つずつ誘電体１３が設けられている。一対の誘電体１３，１３の間には、原料ガス供給経路とオゾンガス取出経路とが接続された放電空隙２０が形成されている。一対の誘電体１３，１３には、放電空隙２０に面する機能膜１７が設けられている。機能膜１７には酸化クロムが含まれている。 （もっと読む）

【課題】 積層型燃料電池におけるセルスタックに圧縮荷重を付加する加圧機構の構造の簡略化、小型化を図り、合わせて経済性、耐久性の向上を図る。
【解決手段】 タイロッド２０により間隔が規定された一対の荷重受け板１０Ｈ，１０Ｌの間にセルスタックユニット３０を配置する。セルスタックユニット３０に積層方向の圧縮荷重を付加する加圧機構として、上側の荷重受け板１０Ｈとセルスタックユニット３０との間に、コイル状のセラミックスばね５０を圧縮状態で分散配置する。セラミックスばね５０は、コイルを構成する線材の断面形状が四角形である角ばねである。 （もっと読む）

【課題】増圧器を使用した圧力制御装置における増圧器の自動復帰回路が作動する際のオーバーシュート現象をなくすことにより連続圧力制御を可能とする圧力制御回路の提供。
【解決手段】本発明の圧力制御性に優れる油圧制御回路によれば、高圧シャットオフ弁８等からの油洩れに起因して、増圧器２の自動復帰回路が作動する場合でも、圧力容器３と増圧器２の高圧側の圧力偏差をなくす制御手段を装備することにより、増圧器２の自動復帰回路が作動する際の圧力容器の油圧がオーバーシュートする現象をなくすとともに、高圧シャットオフ弁が開いた際のＶＣロール側の圧力降下を最小限に止めることで、圧力容器の連続圧力制御が可能となる。これにより、圧力容器等の連続圧力制御装置にも広く適用できる。 （もっと読む）

【課題】小型化及び軽量化を達成しつつも、熱交換効率を高めて反応効率の低下を防止した触媒反応器１を実現する。
【解決手段】流体が流れる通路４を形成するように所定間隔を空けて並設される一対の区画平板２と、通路４内で区画平板２に接合されて各チャンネル３１を区画するチャンネル部材３と、各チャンネル３１に内挿されかつ、チャンネル３１に沿って延びる触媒坦持体７と、を備える。一対の区画平板の内の少なくとも一つは、通路内とは温度帯の異なる温度媒体に対し熱交換可能に接することによって、一次伝熱面を構成する。各チャンネル３１の横断面は、高さＨに対する幅Ｗのアスペクト比（Ｗ／Ｈ）が１以下に構成され、各触媒坦持体７は、単層構造でかつ波板状の基体７１と、基体７１表面に形成された触媒層とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】基板の種類に関係なく、基板の全面を均一にエッチングすることが可能なプラズマエッチング装置を提供する。
【解決手段】プラズマエッチング装置１は、上チャンバ１２の外径が下チャンバ１３よりも小さく形成されてこの下チャンバ１３の上面中央部に上チャンバ１２が設けられた処理チャンバ１１と、処理チャンバ１１の内部空間を仕切るように下チャンバ１３の天井面に設けられ、表裏に貫通した複数の貫通孔１４ａを有する、接地された平板状部材１４と、下チャンバ１３内に配設され、基板Ｋが載置される基台１６と、上チャンバ１２内にエッチングガスを供給するガス供給装置２０と、上チャンバ１２内及び下チャンバ１３内のエッチングガスをそれぞれプラズマ化するプラズマ生成装置２６，２９と、処理チャンバ１１内を減圧する排気装置３５と、基台１６に高周波電力を供給する高周波電源３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の空調機全体の空調能力を維持したまま、空調機全体の消費電力を簡便に低減可能な空調機制御システムを提供する。
【解決手段】空調機制御システム１００の演算装置３は、電力計１で測定した各空調機の消費電力を加算して全消費電力を算出する工程と、各空調機の消費電力と予め記憶された各空調機Ａ、Ｂの消費電力及び空調能力の関係とに基づき、各空調機の空調能力を算出し、加算して全空調能力を算出する工程と、複数の空調機の中から何れかを選択し、全空調能力を選択空調機のみで得るために必要な必要消費電力を、前記関係に基づいて算出する工程と、選択空調機の必要消費電力と全消費電力とを比較し、必要消費電力が全消費電力よりも小さくなる場合、選択空調機は駆動させたままとする一方、選択空調機以外の空調機は停止させる指示情報を制御装置２に出力する工程とを実行する。 （もっと読む）

【課題】揺動部の揺動範囲を制限するストッパを簡易に構成する。
【解決手段】角速度センサ１は、フレーム２と、フレーム２に対して揺動する振動子３と、振動子３の揺動を所定の揺動範囲に制限するためのストッパ５，５とを備えている。フレーム２、振動子３及びストッパ５，５は、同一基板上に複数の層が積層された１つの積層体として構成されている。ストッパ５，５は、フレーム２から延びており、反ることによって振動子３の揺動軌跡Ｔ上に位置している。 （もっと読む）