【課題】 エアオペレートバルブの動作状態を確認すること。
【解決手段】
エアオペレートバルブ１０の動作状態を確認するためのエアオペレートバルブ診断方法であって、エアオペレートバルブ１０の初期状態において、エアオペレートバルブ１０にＡＥセンサ２を当接させて、エアオペレートバルブ１０の操作ポート７に操作流体を供給したとき、もしくは操作流体を排気したときに、開閉時に発する音を計測し、記録する事前工程と、エアオペレートバルブ１０が繰返し動作後に、エアオペレートバルブ１０にＡＥセンサ２を当接させて、エアオペレートバルブ１０の操作ポート７に操作流体を供給したときに、もしくは操作流体を排気したときに、開閉時に発する音を計測し、記録する第１工程と、第１工程で計測した値と、事前工程で計測した値とを比較して、エアオペレートバルブ１０の動作状態の変化を確認する確認工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】塩ビ管の透明性を維持しながら経費を抑えて簡単に補強可能に方法を提供する。
【解決手段】本発明は、透明塩ビ管の補強方法として、透明塩化ビ管の外周面に単一製品としての有機溶剤を塗布して該外周面を溶かすことを特徴としている。その場合、好ましくは、前記有機溶剤が前記塩化ビニル管に塗布乾燥された後も管内を目視可能な状態に維持する構成である。また、前記有機溶剤がアセトアルデヒド、アセトン、エチルベンゼン、エチルメチルエーテル、キシレン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの何れかである。 （もっと読む）

【課題】
半導体基板やガラス基板の洗浄液やエッチング液として、アンモニア、水酸化テトラメチルアンモニウムおよび水酸化ナトリウムなどの水溶液が用いられるが、アルカリ成分中の金属不純物が処理中に基板表面に吸着してしまうため、次工程として吸着した金属不純物を除去する工程が必要となる。また洗浄液の場合には、微粒子の除去には効果があるが、金属不純物は洗浄出来ないために酸洗浄を行う必要があり、工程が複雑となる。本発明では、アルカリ性水溶液で金属不純物の吸着がない、さらには洗浄能力を持つ基板処理用水溶液組成物を提供する。
【解決手段】
アルカリ成分と、特定のキレート剤とを組み合わせた基板処理用アルカリ性水溶液により、金属不純物の基板への吸着を防止し、さらには基板に付着した金属を洗浄除去する。必要に応じて、金属防食剤および界面活性剤を加えて、金属材料の腐食を抑え、あるいは基板への親和性および微粒子除去能力を高めることも可能である。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、液晶ディスプレイなどに使用されるＩＴＯ膜などの透明導電膜のエッチング処理において、シュウ酸インジウムの結晶析出の少ない透明導電膜用エッチング液組成物を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、シュウ酸と、アルカリ性化合物（ただし、トリエタノールアミンを除く）とを含む、透明導電膜用エッチング液組成物とすることにより、透明導電膜のエッチング工程においてエッチング液中のインジウムが高濃度であっても、シュウ酸インジウムの結晶析出を効果的に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】クロロホスホナゾ−ＩＩＩを用いたカルシウムの測定の測定において、ＭＲＩ造影剤の影響を軽減させる。
【解決手段】クロロホスホナゾ−ＩＩＩを含有する試薬を用いるカルシウムの測定において、クロロホスホナゾ−ＩＩＩとキレートを形成するカルシウム以外の物質に対しキレート形成するキレート剤を該試薬にさらに含有させて測定する。 （もっと読む）

【課題】簡便、迅速且つ高感度なタンパク質検出法を提供する。
【解決手段】本発明によれば、式Ｉ：


［式中、
Ｒ_１及びＲ_２は、同じか又は異なり、１個以上のアニオン性置換基で置換されたアリール基又はヘテロアリール基である。］
により表される水に易溶な蛍光化合物が提供される。 （もっと読む）

【課題】
硬質金めっきが可能であり、かつめっき液の安定性が良好な、シアン化合物を用いない電解合金めっき液およびそれを用いた電解合金めっき方法を提供する
【解決手段】
本発明の電解金合金めっき液は、金イオンと、ニッケルまたはコバルトを含む少なくとも１種の金以外の金属イオンと、金亜硫酸塩以外の亜硫酸塩と、チオ硫酸塩および／またはチオシアン酸塩とを含有し、浴組成物にシアン化合物を含有しない。 （もっと読む）

【課題】架橋前には有機溶媒に可溶であり、架橋後に有機溶媒に不溶となる正孔輸送性高分子を用い、発光効率が高く、素子寿命の長い有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板１上に、陽極２と、正孔注入層３と、発光層４、陰極５とがこの順序で積層されており、正孔注入層が、下記一般式（１）に示されるポリカルバゾール骨格を有する正孔輸送性高分子からなる有機ＥＬ素子。
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【課題】
本発明の課題は、半導体回路素子の製造工程において、銅配線を腐食することなく基板表面の金属不純物を除去することが可能な、半導体基板の洗浄液組成物を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、半導体基板を洗浄する洗浄液であって、脂肪族ポリカルボン酸類を１種または２種以上と、塩基性アミノ酸類を１種または２種以上を含む洗浄液組成物とすることにより、銅配線を有する半導体基板の洗浄工程、とくに化学的機械研磨（ＣＭＰ）後の銅配線が露出した半導体基板の洗浄工程において、銅配線を腐食することなく金属不純物を除去することができる。 （もっと読む）

【課題】銀及び／又は銀合金を含む基板に適用できるフォトレジスト剥離液組成物を提供する。
【解決手段】銀および／または銀合金を含む基板のフォトレジスト剥離液組成物であって、−式（Ｉ）ＮＨ_２−Ａ−Ｙ−Ｂ−Ｚ式中、Ａ、Ｂは、それぞれ相互に独立して、直鎖状または分枝鎖状の炭素数１〜５のアルキレン基であり、Ｙは、ＮＨまたはＯのいずれかであり、Ｚは、ＮＨ_２、ＯＨ、ＮＨ−Ｄ−ＮＨ_２（ここでＤは直鎖状または分枝鎖状の、炭素数１〜５のアルキレン基である、）で表される化合物、−式（ＩＩ）ＮＨ_２−Ａ−Ｎ(−Ｂ−ＯＨ)_２式中、Ａ，Ｂは式（Ｉ）と同じで表される化合物、−モルホリン、−Ｎ−置換モルホリン、−ピロカテコール、−ハイドロキノン、−ピロガロール、−没食子酸、及び−没食子酸エステルからなる群から選択される１種または２種以上と、１種または２種以上の極性有機溶剤とを含有する、前記フォトレジスト剥離液組成物。 （もっと読む）