システムは流体のマスフロー送給を遂行し、また、流体のマスフロー確証を遂行する。システムは室内への流体の流れを制御する入口弁と、室からの流体の流れを制御する出口弁と、室内の流体の圧力を測定する圧力トランスデューサと、室内の流体の温度を測定する温度センサと、コントローラとを含む。コントローラは、第１のモードにある場合には、装置による流体の流量の測定を確証し、第２のモードにある場合には、室から処理設備へ所望量の流体を送給するように、室内の圧力及び温度の変化の測定値を使用して、入口弁及び出口弁の開閉を制御するように形状づけられる。 （もっと読む）

【課題】迅速な応答と正確な補償とを比較的低コストで提供する。
【解決手段】補償型センサは、センサ（１０８）と、比較的高速のフィードスルー経路（１０２）と、比較的低速の補償経路（１０４）とを含む。比較的高速のフィードスルー経路は、加算増幅器などの加算器（１０６）及び出力回路（１１２）を含む。比較的低速の補償経路は、例えば温度依存性や非線形効果など、センサの短所に対する１又は複数の補正ファクタ（Ｃ１ーＣｎ）を生じる回路（１０９）を含む。これらの１又は複数の補正ファクタは、加算器（１０６）に与えられ、未補償のセンサ出力Ｓと加算される。更に、出力回路の出力Ａは、補償器（１１０）にフィードバックされ、補償経路（１０４）において生じる補償済のセンサ出力と差分回路(１１１)で比較され、差分Ｄもまた加算器（１０６）に与えられ、１又は複数の補正ファクタ（Ｃ１ーＣｎ）及び前記未補償のセンサ出力Ｓと加算される。 （もっと読む）

陰極としてのターゲット物質、陽極およびワークピースを有するスパッタリング室を備えるスパッタリングシステム。直流（ＤＣ）電源が、上記スパッタリング室内にプラズマを生成するのに十分な電力を上記陽極および上記陰極に供給する。検出モジュールが、上記プラズマの電気特性をモニタリングすることにより上記スパッタリング室内でのアークの発生を検出する。上記モニタリングされる電気特性は、一実施形態では、上記プラズマのインピーダンスであり、別の実施形態では、上記プラズマのコンダクタンスである。
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流体の流量を制御するマスフローコントローラのための弁システムが開示される。弁システムは流体の流量を所望の設定点に調整するように開位置と閉位置との間を移動できる弁と、弁コントローラとを含む。弁コントローラは、流体の実際の測定された流量が所望の設定点に実質上等しくなるまで、流体の流量を調整するように弁を通る弁電流を送る。弁コントローラは、弁電流、及び、弁が閉位置へ移動しているときの流量を監視し、流体がほぼゼロの流量を有するときの弁電流の値を決定し、更新される弁クラッキング電流をほぼゼロの流量での弁電流の値に設定することにより、次の運転のための弁クラッキング電流を更新する。 （もっと読む）

無線周波（ＲＦ）電力の発生器は、第１制御信号に従って第１ＲＦ信号を生成する第１スイッチモード増幅器と、第２制御信号に従って第２ＲＦ信号を生成する第２スイッチモード増幅器とを備えている。上記第１制御信号および上記第２制御信号は、上記第１ＲＦ信号と上記第２ＲＦ信号との間の位相差を決定する。出力信号包絡線は、上記第１ＲＦ信号および上記第２ＲＦ信号と上記位相差とに基づいている。上記第１制御信号および上記第２制御信号は、上記第１ＲＦ信号の位相と上記第２ＲＦ信号の位相とを交互に入れ替える。
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遠隔プラズマ源用粒子捕獲器は、遠隔プラズマ源のチェンバに結合する入口と、プロセス・チェンバの入口に結合する出口とを有する本体構造を含む。また、遠隔プラズマ源用粒子捕獲器は、本体構造内に形成されており、本体構造の入口と本体構造の出口と流体連通するガス・チャネルを含む。このガス・チャネルは、本体構造を貫通する経路を定めることができ、チャネルの第１部分から通過するガスの中にある粒子を、ガス・チャネルの第２部分を定める壁に、この壁の表面に対してある角度で衝突させる。冷却部材が、ガス・チャネルと熱連通することができる。 （もっと読む）

【課題】ＲＦ電流を測定する高周波（ＲＦ）センサを提供する。
【解決手段】高周波（ＲＦ）センサはプリント基板１２を含み、プリント基板１２は開口１８を規定する内周を有しており、開口１８を通って導線が延びている。開口１８の上には、センサパッド３０が配置されており、これらセンサパッド同士が接続されて、２つのセンサループを形成している。このループは、導線を流れるＲＦ電流の流れを示す電気信号を生成する。さらに、ＲＦセンサに複数の円状導電性リングを設けて、導線の電圧を示す信号を生成させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】圧力変動に対する感度を実質的に取り除いた質量流量コントローラを提供する。
【解決手段】質量流量コントローラは、圧力センサと組み合わされた熱質量流量センサを含んでおり、入力圧力における揺らぎに比較的敏感ではない質量流量コントローラを提供する。圧力センサと熱センサとは、それぞれが測定された入口流率とデッド・ボリュームの中の圧力とを示す信号を電子コントローラに提供する。電子コントローラは、測定された圧力を用いて測定された入口流率を補償して出口流率の補償された測度を生じ、これが質量流量コントローラの出口弁を動作させるのに用いられる。 （もっと読む）

低い流入圧力において広い流量検証範囲にわたって高い測定精度をもたらす高精度質量流量検証器（ＨＡＭＦＶ）が、流体送達デバイスによる流量測定値を検証するために開示される。ＨＡＭＦＶは、上流バルブを有する複数Ｎの流入口を画定するチャンバ、１つの下流バルブを有する１つの流出口、チャンバ内の流体圧力を測定するように構成される圧力センサ、およびチャンバ内の流体温度を測定するように構成される温度センサを備える。複数Ｎの臨界流ノズルが、対応する上流バルブに隣接して配設される。ＨＡＭＦＶは、所望の流量検証範囲および流体の種類に基づいて、対応する上流バルブを開き、他の全ての上流バルブを閉じることによって、複数Ｎの臨界流ノズルの１つを起動するように構成されるコントローラをさらに備える。複数Ｎの臨界流ノズルの少なくとも２つは、異なる断面積を有する。 （もっと読む）

プラズマ生成システムのためのアーク検出システムは、プラズマチェンバーに投入されている（ＲＦ）電力における各電気的特性に基づいて第１信号および第２信号を生成する無線周波数（ＲＦ）センサを備える。相関モジュールは、上記第１信号および上記第２信号に基づいてアーク検出信号を生成する。上記アーク検出信号は、上記プラズマチェンバー内でアークが発生しているか否かを示し、上記アークを消弧するために、上記ＲＦ電力を生成するための上記第１信号および上記第２信号を変化させるために用いられる。
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