電力を動的負荷（２６０）に搬送するシステム（２００）及び方法が提供される。このシステムは、実質的に一定の電力開ループ応答を有するＤＣ電力を提供する電源（２１０）と、前記ＤＣ電力をＲＦ電力に変換する電力増幅器（２２０）と、電圧と電流と前記ＲＦ電力と関連付けられた電圧ベクトルと電流ベクトルとの間の位相角とを測定するセンサ（２４０）と、動的負荷（２６０）のインピーダンスと少なくとも実質的に一致するように前記電力増幅器のインピーダンスを修正する電気的に制御可能なインピーダンス・マッチング・システム（２５０、２５２）と、前記電気的に制御可能なインピーダンス・マッチング・システムを制御するコントローラ（２３０）と、を備えている。このシステム（２００）は、更に、前記電力増幅器によって搬送される電力を決定するセンサ較正測定モジュールと、前記動的負荷（２６０）に搬送される電力を決定する電子的マッチング・システム較正モジュール（２５２）と、前記電気的に制御可能なインピーダンス・マッチング・システムにおいて消費される電力を計算する電力消費モジュールとを含む。
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オゾン発生のために共振電源装置（３００）が提供される。電源装置（３００）は、オゾン発生器のコストを低減し信頼性を向上させる。電源装置（３００）は、第１のＡＣ電圧を、電力源（３２０）から共振回路（３３０）に提供し、第２のＡＣ電圧をオゾン発生ユニット（１１０）に提供する。第２のＡＣ電圧は第１のＡＣ電圧よりも高い。電源装置（３００）のためのコントローラ（３４０）が、共振回路の共振値に適応し、共振回路のＱが高い回路コンポーネントに広い公差を提供する。
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搬送されるガス混合物のモル分率を正確に測定することによって、プロセス・チャンバに搬送される前駆体の量を制御するシステム及び方法が記載されている。ガス搬送システムは、搬送チャンバと、前駆体入口弁と、キャリア入口弁と、出口弁と、コントローラとを含む。コントローラは、前駆体入口弁とキャリア入口弁と出口弁との開閉を制御することにより、所望の量の前駆ガスとキャリア・ガスとを搬送チャンバに導き、所望のモル分率の前駆ガスを有するガス混合物を発生し、所望のモル分率の前駆ガスを有するガス混合物をプロセス・チャンバに搬送する。
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プロセスをモニタする方法及び装置が提供される。プロセス・モニタリングは、（ｉ）プロセス環境の多変量解析基準モデルを、プロセス環境のモニタされるパラメータに対応するデータから生成するステップと、（ｉｉ）モニタされるパラメータの少なくとも１つを、プロセス環境の成熟と相関するものとして指定するステップと、（ｉｉｉ）少なくとも１つの指定されたパラメータを含むモニタされるパラメータと対応する現在のプロセス・データを収集するステップと、（ｉｖ）少なくとも１つの指定されたパラメータの現在のプロセス・データに基づいて多変量解析基準モデルをスケーリングし、プロセス環境の成熟を説明するステップと、を含む。この方法は、更に、プロセス環境の現在の状態を表す１又は複数の現在の多変量解析プロセス計量を現在のデータから生成するステップと、現在のプロセス計量とスケーリングされた基準モデルとを比較して、プロセス環境の現在の状態が受入可能かどうかを判断するステップとを含む。
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マルチ・チャンバ・ツールとの関係でオゾン濃度を制御する改良型のシステム及び方法である。このシステム及び方法は、オゾン発生器と組み合わされた第１及び第２の濃度コントローラを含む。第１の濃度コントローラは、イベント（すなわち、マルチ・チャンバ・ツールにおける１つのチャンバがオン・ラインになる又はオフ・ラインになること）を検出し、それに応答して、予測制御アルゴリズムに従いオゾン発生器に電力指示を提供する。第１の濃度コントローラは、高速（すなわち、約１秒）の応答時間を有する。第２の濃度コントローラは、イベントの間はオゾン発生器からマスクされているが、それ以外の場合には、イベントの発生からある時間間隔が経過した後で発生器を制御する。第２の濃度コントローラは、第１の濃度コントローラよりも低速の応答時間を有するが、システムに長期的な安定性を提供し、予測制御アルゴリズムに更新されたデータを提供するのに用いられる。
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パルスガス送出装置によるガスの送出をセンサを使用して検出する。センサは、送出されるガスの振動数を吸収する所定のスペクトル範囲の放射線を発生する源を含む。放射線は、送出されたガスを受け取るレセプタクルを通して伝達される。検出器は、レセプタクル内のガスを通って伝達した後、源から検出器に到達した放射線の強さを検出する。制御装置が、レセプタクル内のガスによって吸収された放射線の量を、検出された強さから決定することによって、ガス送出装置が送出したガスの正確な量を計測する。制御装置は、送出されたガスの量を所望の量に合わせて適応調節することによって、ガスの送出を実時間で監視する。センサ及び制御装置は、更に、ガス送出装置の故障又は仕様外挙動を監視できる。
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センサハウジングと、センサハウジング内に配置されたヒータ殻体と、ヒータ殻体に作用可能に連結されたヒータと、ヒータ殻体内に受容されたセンサと、ヒータ殻体の外側にてセンサハウジング内に配置され且つ、センサから信号を受け取り得るようにされたエレクトロニクス組立体とを含む変換器組立体である。組立体は、また、ヒータ殻体の外側にてセンサハウジング内に配置された取り付け板４００も含む。取り付け板４００は、該取り付け板から伸びるアーム４０２と、エレクトロニクス組立体が取り付け板４００に固定される箇所である少なくとも１つの取り付け箇所４０４とを有している。アーム４０２は、センサハウジングに固定され、また、取り付け板４００は、アーム４０２と取り付け箇所４０４との間の熱伝導を妨害し得るようアーム４０２に隣接する開口４０６を含む。
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【課題】 質量流量計測装置を提供する。
【解決手段】 質量流量計測装置は、チューブ状側壁によって画成された流路、第１部分が流路内に配置され且つ第２部分が側壁の外に延びるように側壁を通って流路内に延びるプローブ、このプローブに固定されたヒーターエレメント、及び流路を通って流れる流体がヒーターエレメントと接触しないようにするシールを含む。 （もっと読む）

メッシュ反応部（３８）を有する二次反応室（３１）及び加熱アセンブリ（３４）が、ＣＶＤ反応室（１４）と真空ポンプ（１６）との間のフォアライン（１２）に配置され、すべての未反応前駆反応物を混合し且つ反応させることによって、未反応前駆反応物が、真空ポンプに到達して損傷を与える前に排出流体から除去される。 （もっと読む）

コントローラからの駆動信号によって駆動されると、電力源は、信号（ＲＦ又はマイクロ波）を発生する。センサは、電力源によって発生される信号の電圧と電流とを測定し、測定された電圧と電流とを表すセンサ信号を発生する。サンプラは、電力源を駆動する駆動信号と同期して、センサ信号をアンダーサンプリングするように構成されている。サンプリング周波数は、センサ信号の基本周波数のスカラ倍である。ＲＦ周波数では、同期的なアンダーサンプリング又は同期的なオーバーサンプリングが実行される。マイクロ波周波数では、同期的なアンダーサンプリングが実行される。
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