【課題】膜厚測定の対象測定領域内の絶縁性薄膜の膜厚の空間分布を得る。
【解決手段】試料と、カンチレバーに保持された探針との間に可変直流電圧を印加する原子間力顕微鏡を用いて、絶縁性薄膜の膜厚分布を測定する膜厚評価方法で、試料の測定領域に電圧を変化させて印加するとともに、発生電流および絶縁破壊電圧を測定し、前記測定領域のうち任意の１点の膜厚を基準値として、各測定点の絶縁破壊電圧および（１）式の関係に基づいて、前記測定領域内の相対膜厚の分布を求めることとする。
膜厚＝絶縁破壊電圧÷絶縁破壊電場強度 （１） （もっと読む）

【課題】スポット溶接された鋼材におけるナゲットの径を簡易に、しかも精度良く非破壊検査することのできるナゲット径測定方法を提供する。
【解決手段】一対の電流電極針および一対の電圧電極針を備えた探針プローブを用いてスポット溶接された鋼材の表面を所定のラインに沿って走査し、この走査に伴って前記一対の電圧電極針により検出される電圧変化のプロフィールから、その電圧が前記鋼材におけるスポット溶接領域を外れた部位での検出電圧を超える２つの特異点を検出し、これらの特異点を検出した走査位置から前記スポット溶接により前記鋼材に形成されたナゲットの径を求める。 （もっと読む）

本発明は、テストサンプルの表面のあるエリアの電気的特性を決定するためのプローブに関するもので、プローブは、テストサンプルに対して所定の向きになるようにしている。プローブは、第１表面を規定する支持本体を備えてもよい。複数のカンチレバーアーム（１２）が、第１表面と同一平面の関係で支持本体から延びてもよい。複数のカンチレバーアーム（１２）は、互いにほぼ平行に延びてもよく、各カンチレバーアーム（１２）は、テストサンプルの表面に対して所定の向きのプローブ運動によって、テストサンプルの該エリアと接触するための導電性チップを含んでもよい。プローブは、運動を行う際、複数のカンチレバーアーム（１２）の何れか１つがテストサンプルの表面と接触する前に、テストサンプルの表面と接触するように配置された、支持本体から延びる接触検出器（１４）をさらに備えてもよい。
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【課題】雑音を減少させ、感度を増大し、そして直線型可変差動トランス（ＬＶＤＴ）の時間応答を改良する変換器を提供する。
【解決手段】本装置は、従来型ＬＶＤＴの一次コイルおよび高透磁率強磁性コアを、非強磁性可動コア１４の周囲に巻いた一次巻線１５で置き換える。バルクハウゼン雑音を軽減または除去することに加えて、このアプローチは、コアの過度の渦電流加熱、高透磁率材料と関連する非線形性、および磁束回路の長さスケールを含む、従来型ＬＶＤＴの他の好ましくない効果を軽減または除去した。これらの改良は、改良型ＬＶＤＴの信号調整回路に連結される。本装置はアクチュエータでもあり、それを用いて差動電圧を力に変換することができる。これらの改良点を伴う装置は、分子力測定、原子間力顕微鏡、および操作技術、リソグラフィ製造、ナノメータースケールの表面形状測定、およびナノテクノロジーの他の局面を含め、多くの用途を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は高精度な測定を行うことのできる測定装置を提供することにある。
【解決手段】測定時において、ワーク２０に対して位置及び姿勢が変化しないように保持された基準部材１２と、該ワーク２０表面を走査しながら、該ワーク２０表面の凹凸に応じて上下方向に変位するスタイラス１４と、該スタイラス１４の特定部位３６の変位を該基準部材１２との比較において測定する変位計１６と、該スタイラス１４を該ワーク２０表面に沿って走査させる走査手段１８と、を備え、該基準部材１２は該走査によっても該ワーク２０に対する位置及び姿勢が変化せず、該スタイラス１４の特定部位３６の上下方向への変位を該基準部材１２を基準にして測定し、該測定されたスタイラス１４の特定部位３６の変位に基づき該ワーク２０の微細な形状を把握することを特徴とする測定装置１０。 （もっと読む）

【課題】ＭＲＩ像の理解を一層深めることのできる磁気共鳴力顕微鏡を提供する。
【解決手段】高周波磁場発生装置３１が試料２１の全体に均一に発生した高周波磁場中で、カンチレバー自己励振ループ部が前記カンチレバー２３を自己励振した状態で、試料２１（検体）のスピンを制御して磁気共鳴力を発生させ、周波数復調器２６が磁気共鳴力に基づいた前記カンチレバー変位計測器２９の検出信号から前記カンチレバーの共振周波数を計測し、かつカンチレバーの共振周波数シフトを計測し、カンチレバーの共振周波数のシフト量の直流成分Δνが一定となるようにスキャナー２２を制御して試料２１表面から探針２４先端までの距離Zを調整して、試料２１の原子間力像（ＡＦＭ）をスキャナー駆動電源２５が生成し、周波数復調器２６での前記カンチレバーの共振周波数シフト量の交流成分δνに応じて磁気共鳴力像（ＭＲＦＭ）を位相検波器３４が生成する。 （もっと読む）

【課題】走査型トンネル顕微鏡などにおいて、高分解能電子放出分布の測定も可能な電子放出分布測定装置測定方法を実現する。
【解決手段】 探針６と、探針６を試料７に対して移動させるピエゾ素子と、試料７にバイアス電圧を印加するバイアス電圧印加回路と、探針６と試料７との間を流れるトンネル電流を電圧変換するプリアンプ１０と、プリアンプ１０の出力側に順次設けられたＳＴＭ制御回路３と、を備えており、プリアンプ１０とＳＴＭ制御回路３との間にサンプルホールド回路２２を設け、ＳＴＭ像を計測（作成）するとともに、電子放出分布像を計測（作成）する。 （もっと読む）

【課題】
触針式段差計において探針を交換した後に行う力の較正を自動的に短時間で正確に行う方法及び該自動較正機能を備えた触針式段差計を提供する。
【解決手段】
本発明の方法は、針圧発生装置のコイルに流す電流と探針の針圧との関係を求め、求めた関係に基いて探針の針圧の変化を自動的に較正する。また本発明の自動較正機能を備えた触針式段差計においては、針圧発生装置のコイルに流す電流と探針の針圧との関係を求め、求めた関係に基いて探針の針圧の変化を自動的に較正するコンピュータ手段が設けられる。 （もっと読む）

【課題】 極めてサイズが小さく、高感度・高性能のセンサを少なくとも一部が弾性変形を生じる微細構造体の所望の位置に所望の形状・サイズで設けられるようにする。また、微細構造体の弾性変形を測定する際の部品の組立・調整の容易化、検出回路の小型化・簡略化を図るとともに、微細構造体の微細箇所の局所的変位を検知できるようにする。
【解決手段】 開示される微細構造体は、梁部１４が弾性変形を生じるカンチレバー１である。このカンチレバー１には、梁部１４の弾性変形をトンネル効果により検出するセンサ１２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 卵の品質（鮮度）を判定するために用いられる、例えば、濃厚卵白や卵黄等の卵内物質の高さを特段の熟練を要することなく、定量的に、かつ、高精度に測定することのできる卵内物質の高さ測定装置を提供する。
【解決手段】 割卵体２を保持する上面Ｓが略水平に形成された載置台３と、第１電極１１および第２電極１２からなる２本の接触子を先端部に備える測定用プローブ１と、前記測定用プローブ１の接触子が前記載置台３上の割卵体２と接触したことを検出し、該接触検出信号を出力する接触検出手段６と、前記接触検出手段６から接触検出信号が出力された時の、載置台３の上面Ｓと測定用プローブ１の接触子の先端部との距離ｈを測定するハイトゲージ４とで構成されている。 （もっと読む）

【課題】 ＦＩＢなどを使用して電気配線などを形成しても、スカム等の影響を受けることなく、絶縁膜の微細領域の電気的欠陥を測定することができる、絶縁膜の測定方法を提供する。
【解決手段】 測定すべき膜を有する素子の上に、前記膜の上に測定の障害となる不純物を付着させないための保護膜を形成する保護膜形成工程と、前記素子を測定するための測定用電気配線を形成すべき領域の前記保護膜を除去する保護膜加工工程と、前記領域内に前記測定用電気配線を形成する測定用電気配線形成工程と、前記膜の上に形成されている前記保護膜を除去する保護膜除去工程と、前記膜を電気的に測定する膜測定工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 試料を大気暴露させることなく、試料の設置から測定まで制御された環境下で試料の形状情報や物性情報を計測できる装置を提供すること。
【解決手段】 先端に微小な探針を有するカンチレバー６と、カンチレバー６を保持するためのプレート２と、試料７を設置するための試料固定台４と、筺体３などからなる気密性が保たれるロードロック室１と、カンチレバー６の変位を検出する変位検出機構８と、試料７を移動させる試料移動機構である微動機構１８、ＸＹ粗動機構１９、Ｚ粗動機構２０が設けられた密封容器１７と、密封容器１７を真空排気する真空排気機構２１とガス導入機構２２と、密封容器１７にロードロック室１を取付けるようにした。 （もっと読む）

【課題】 スタイラスの軸方向に対して有害な曲げ振動の発生を防止することで、微細な表面形状の測定を可能にするタッチセンサを提供する。
【解決手段】 スタイラス１は、その軸方向に略対称の構造である。スタイラス１とスタイラスホルダ５とを連結する支持部材６〜９のスタイラス側の支持部１０〜１３は、スタイラスの重心３に対してスタイラスの軸方向に対称となる複数個所で、更に、その各個所においてスタイラスの軸４に対称な複数個所である。スタイラスの軸方向同一個所における各組の支持部材の重心が略前記軸上にある。加振手段３１および検出手段３２の少なくとも一方は、重心３から等距離となる少なくともスタイラス上の２個所に橋渡しされるように設けられている。 （もっと読む）