【課題】所望の計測部分の幾何的な物理量を選択的にかつ容易に取得することが可能な画像処理装置および画像処理プログラムを提供する。
【解決手段】対象物画像データに基づいて対象物画像ＯＩが表示されるとともに、指定画像データに基づいて対象物画像の特定部分に対応する計測部分指定画像ＡＩが表示される。使用者による操作部の操作により、表示される計測部分指定画像ＡＩが対象物画像ＯＩに相対的に移動される。計測部分指定画像ＡＩが対象物画像ＯＩの特定部分に移動された場合、その特定部分に対応するように予め設定された計測対象物の計測部分の物理量が計測される。 （もっと読む）

【課題】画像から所望の領域を容易に抽出可能な画像処理装置および画像処理プログラムを提供する。
【解決手段】画像データに基づく初期画像ＩＭが表示部２６０に表示される。使用者が初期画像ＩＭにおいて抽出すべき領域を含む抽出範囲を指定することにより、抽出範囲内で設定された抽出条件に基づいて一または複数の領域が抽出される。抽出された一または複数の領域から、領域に関する特徴情報に基づいて特徴領域が選択される。選択された特徴領域が抽出領域として決定される。使用者が初期画像ＩＭにおいて抽出すべき他の領域を含む抽出範囲を指定することにより、抽出範囲内で設定された抽出条件に基づいて一または複数の領域が抽出される。抽出された一または複数の領域から、領域に関する特徴情報に基づいて特徴領域が選択される。選択された特徴領域は、既に決定された抽出領域に加えられる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ上に形成されたエピタキシャル層の層厚測定用試料を簡便に製造できる層厚測定用試料製造装置を提供する。
【解決手段】エピタキシャル層３が形成されたウエハ片１を、そのエピタキシャル層３の一部を残してエピタキシャル層３をエッチングして層厚測定用試料を製造し、エッチング後のウエハ片１上に段差として残ったエピタキシャル層３の層厚を測定するための層厚測定用試料製造装置１０において、ウエハ片１を挟み込む開閉自在の２枚の樹脂板１１，１２と、これら２枚の樹脂板１１，１２の一方に設けられ、ウエハ片１上に形成されたエピタキシャル層３の一部をエッチングから保護すべくエピタキシャル層３の一部と密着するエッチング防止ゴム１３とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイを用いた技術を適用したうえで、解像力を向上させることができ、且つ解像力を任意に変更させることができる顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】標本Ｓからの観察光を集光する観察光学系ＯＳ２と、観察光をそれぞれ受ける位置に配列された複数のマイクロレンズＭＬを有するマイクロレンズアレイ２６と、それぞれのマイクロレンズＭＬに対して複数の画素が割り当てられ、各マイクロレンズＭＬを介して複数の画素で受光した観察光に基づき撮像データを取得する撮像素子３０と、マイクロレンズアレイ２６に入射する前の観察光を受ける位置に配置され、観察光を偏向させて観察光が各マイクロレンズＭＬを介して撮像素子３０に受光される位置を相対的に移動させる像シフト装置４０と、撮像素子３０で取得された撮像データに対して所定の処理を施す画像処理部３１とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】 ワークの寸法を高い精度で測定することができるとともに、被写界深度を越える段差を有するワークであっても、測定対象とする箇所を容易に設定することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 可動ステージ１２上のワークＷを撮影する撮像手段と、可動ステージ１２のＺ方向の位置が異なる複数のワーク画像を深度合成し、深度合成画像を生成する深度合成手段と、マスターピースを撮影して得られる深度合成画像をマスター画像Ｍ１として画面表示するマスター画像表示手段と、マスター画像Ｍ１に対し測定対象箇所及び測定方法を指定し、測定箇所情報を生成する測定箇所情報生成手段と、測定箇所情報に基づいて、ワークＷを撮影して得られた深度合成画像から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を求める寸法値算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】 低倍率視野内のワークを高倍率視野内へ自動搬送してワークの寸法を高い精度で測定することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 ＸＹ方向に移動可能な可動ステージ１２と、特徴量情報及び測定箇所情報を保持する測定設定データ記憶手段と、ワークＷを低倍率で撮影し、低倍率画像を生成する低倍率撮像手段と、特徴量情報に基づいて、低倍率画像におけるワークＷの位置及び姿勢を特定するワーク検出手段と、特定された位置及び姿勢に基づいて、ワークＷの測定対象箇所が高倍率視野内に収まるように、可動ステージ１２を制御するステージ制御手段と、高倍率視野内に移動した測定対象箇所を高倍率で撮影し、高倍率画像を生成する高倍率撮像手段と、測定箇所情報に基づいて、高倍率画像から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出手段と、抽出されたエッジに基づいて、測定対象箇所の寸法値を求める寸法値算出手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】 複数のワークについて、輪郭の不一致度合いを容易に識別することができる画像測定装置を提供する。
【解決手段】 ワーク画像Ａ２からエッジを抽出するエッジ抽出手段と、ワーク画像Ａ２及び予め保持されたマスター画像Ａ１を比較する画像比較手段と、比較結果に基づいて、ワーク画像Ａ２のエッジ位置とこのエッジ位置に対応するマスター画像Ａ１上の位置との変位量を示す誤差を算出する誤差算出手段と、複数のワーク画像Ａ２について算出された誤差の統計情報をエッジ位置ごとに算出する統計情報算出手段と、統計情報を、その値に応じた表示態様でワーク画像Ａ２又はマスター画像Ａ１から抽出されたエッジ位置に沿って表示する統計情報表示手段により構成される。 （もっと読む）

【課題】 複数のワークについて、相対的な位置関係を把握し易く、測定結果を容易に識別することができる寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 特徴量情報、測定対象箇所情報及び設定値情報を保持する測定設定データ記憶部２１と、ワークの位置及び姿勢をそれぞれ検出する配置状態検出部２４と、ワーク画像Ａ１から測定対象箇所のエッジを抽出するエッジ抽出部２４と、抽出されたエッジに基づいて測定対象箇所の寸法値を算出し、測定対象箇所及びワークの良否判定を行う良否判定部２５と、ワークの良否判定の結果をワーク画像Ａ１上に表示する測定結果表示手段と、ワークのいずれかを選択するためのワーク選択部２７により構成される。測定結果表示部２６は、選択されたワークについて、測定対象箇所の良否判定の結果を表示する。 （もっと読む）

【課題】電力消費量が少なく高熱の発生を伴わずに太陽光に近い白色光で被測定物を照明できる照明手段を備えた二次元測定機を提供する。
【解決手段】
テーブル12に載置した被測定物Wに対して垂直を保持したままＸ−Ｙ方向に自在に移動する顕微鏡一体型ＣＣＤカメラ30と、顕微鏡光学系と同軸状の被測定物照明手段と、を備えた二次元測定機で、前記照明手段を、顕微鏡20の鏡筒21内のハーフミラー24と、ハーフミラー24に対応する鏡筒21側方延長位置に配置したクロスプリズム54と、該クロスプリズム54を取囲んで配置した赤,青,緑の単色ＬＥＤ52R,G,Bで構成し、単色ＬＥＤ52R,G,Bの発光がクロスプリズム54で合成されてハーフミラー24に導かれる。単色ＬＥＤ52R,G,Bの同時点灯で、太陽光に近い十分な光量の白色照明光が得られ、モニタ画面に映し出されるカラー画像が非常に見易い。照明用光源の電力消費量，発熱量が小さく、省エネルギー対策にも合致する。 （もっと読む）

【課題】撮影の動作を増加しない前提で、カラー情報を有する立体的輪郭映像を得ることができ、そしてカラー情報を有し奥行きがより深い平面的明瞭映像を得ることができる撮影装置とその撮影方法を提供する。
【解決手段】測量物に対してスキャンを行い、光源と、第１分光器と、顕微接物レンズ組と、第２分光器と、単色映像センシングデバイスと、映像センシングデバイスと、を含む撮影装置において、光源は、照射光ビームを射出するためのものであり、第１分光器は、照射光ビームを反射するためのものであり、顕微接物レンズ組は、測量物の上方に設けられ、反射基準面を含み、第２分光器は、第１分光器の上方に設けられ、工作光ビームを第１子光ビームと第２子光ビームとに分け、単色映像センシングデバイスは、第１子光ビームの行進経路に設けられ、映像センシングデバイスは、第２子光ビームの行進経路に設けられる。 （もっと読む）

【課題】プロファイルラインの指定と関心領域の指定との相互間の位置関係を容易に把握できるようにする。
【解決手段】画像表示領域１０８での試料の平面画像の表示に対してなされる、試料のプロファイルを表すプロファイル画像における当該プロファイルの表示範囲の指定を、演算部１０３が取得する。プロファイル描画部１０５は、当該表示範囲のプロファイル画像をプロファイル表示領域１０９に表示させる。演算部１０３は、画像表示領域１０８での平面画像の表示に対してなされる関心領域の指定を取得し、プロファイル描画部１０５でのプロファイル画像での表示において、当該関心領域に対応する範囲を判別する。プロファイル描画部１０５は、プロファイル表示領域１０９でのプロファイル画像における、当該関心領域の範囲内の画像と当該範囲外の画像とを、異なる態様にして表示させる。 （もっと読む）

【課題】分解能を高めた画像処理方法を提供する。
【解決手段】物体を撮像装置に対して相対移動させながら当該撮像装置により得られた、物体の表面の複数の画像に基づく画像処理方法であって、複数の画像から物体の表面における同一箇所に該当する部分を抽出するとともに、当該抽出した部分の信号強度から物体の表面高さを求めて、表面高さの度数分布を求めるステップ（Ｓ１０１〜Ｓ１０２）と、度数分布に基づいて表面高さの確率密度関数を算出し、確率密度関数が最大となる表面高さを表面高さの真値として求めるステップ（Ｓ１０３）とを有している。 （もっと読む）

【課題】ジョイスティックやトラックボールを使った煩雑な作業を簡易化することが出来、操作性を大幅に向上し得る試料検査装置を提供する。
【解決手段】試料検査装置は、ＣＣＤカメラ及び照明装置を備えた顕微鏡１、この顕微鏡１を制御する画像処理装置８、被検査対象３を検査位置に移動する検査ステージ２、この検査ステージ２を駆動・制御するステージ駆動・制御装置４及び検査システム全体を制御するシステム制御装置６で構成される。画像処理装置８は、マウス等の入力装置８ａ及び処理画像を表示するモニタ９を備え、モニタ画面上に表示された目標画像が入力装置８ａにより指定され、且つ目標画像の移動先が画面上で指定された際に、前記指定された２個所の座標の差分を求め、該差分だけ検査ステージ２を移動させて目標画像を指定位置に移動表示する。 （もっと読む）

【課題】安価で高精度且つ高速に高さ情報を測定可能な走査型レーザ顕微鏡を提供することを課題とする。
【解決手段】光偏向器９により被検物３上をライン状に走査して得られる１ライン分の高さプロファイルを、その走査方向に所定量だけずらしながら複数取得する。演算処理部１９は、取得した複数の高さプロファイルを繋ぎ合わせて１つのプロファイルを求める。 （もっと読む）

【課題】観察面の高さ（光軸方向位置）によらず高効率かつ略均一な照明領域を得ることができる照明光学装置を提供する。
【解決手段】照明光学装置１０は、光源１１と、正の屈折力を有する光学系１２と、屈折力を有しないアフォーカル光学系１３とを有している。光学系１２とアフォーカル光学系１３とは、合わさってコンデンサレンズ(１２,１３)として機能する。光源１１からの光束は、コンデンサレンズ(１２,１３)を介して、光照射面１０Ａに導かれる。コンデンサレンズ(１２,１３)は、光源１１と光照射面１０Ａとの間に配置され、かつ、光照射面１０Ａをテレセントリック照明するように配置されている。つまり、コンデンサレンズ(１２,１３)の前側焦点面に光源１１を配置し、後側焦点面を光照射面１０Ａとしている。アフォーカル光学系１３は、照明領域（光照射面１０Ａ）を光軸方向に調整する際の可動部（調整群）である。 （もっと読む）

【課題】 干渉光学系以外の光学系における観察光学系によって、干渉光学系と干渉光学系以外の光学系におけるサンプルの高さ情報の取得範囲を設定でき、サンプルの３次元形状画像を短時間に容易に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 フィルタ切換機構１９は、バンドパスフィルタ２１を光軸上に配置し、第１の撮像素子１６は、可視光による光学顕微鏡観察像を撮像し、制御本体部５１は、光学顕微鏡観察画像を用いてサンプル１７の観察位置の調整と、フォーカス位置の調整と、干渉光学系と光学顕微鏡光学系の両方の高さ情報の取得範囲（取得範囲Ｄ１，Ｄ２）を設定する。 （もっと読む）

【課題】 共焦点レーザ走査型顕微鏡における全焦点画像と顕微干渉計測法における高さ画像を効率よく取得することで、試料の３次元形状画像を短時間に取得することができる３次元形状観察装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、試料１７を載置するステージ２００と、試料１７の上方に配置される干渉対物レンズ３００と、共焦点レーザ走査型顕微鏡における光学系４００ａと、顕微干渉計測法における光学系４００ｂと、ステージ２００と、干渉対物レンズ３００を搭載する顕微鏡本体４００と、試料１７の３次元形状を観察する際に画像処理や顕微鏡本体４００を制御する制御部５００と、を有し、例えば干渉対物レンズ３００を連続して光軸に沿って移動させ、相対距離を連続的に変え、レーザ用受光素子１１と撮像素子１６から出力される出力信号を最適なタイミングで取得する。 （もっと読む）

【課題】調整要素が少なく調整機構を簡素かつローコスト化でき、操作が容易で、調整に伴う光学像の位置変動がない光学検査装置を実現する。
【解決手段】対物レンズ側から、対物レンズ、ビームスプリッター、結像レンズを位置づけ、ビームスプリッターに入射する光で物体を照明し、その反射光の光束の一部を、開口を有する遮光板を光軸と交差させて遮って、回折を生じさせることで、結像面に結像した物体の不均一部分の光学像の明るさの変化を強調する。このとき遮光板をビームスプリッターと対物レンズとの間、又は対物レンズを構成する複数のレンズの何れかのレンズの間で対物レンズ側光軸と交差させると、結像面に結像した物体の不均一部分の光学像の明るさの変化を最も強調することができる。また外光を用いるときには、ビームスプリッターを有しない構成とすることができる。 （もっと読む）

【課題】異方性導電膜を用いて透明基板に実装した電子部品の実装状態の自動的な良否の判定を、確実に行う。
【解決手段】電子部品の実装状態検査方法において、異方性導電膜を介して電子部品が実透明電極に実装された場合に、透明基板に設けられている電極に形成された凸状部を強調する微分フィルタ処理を施す工程（Ｓ４）と、微分フィルタ処理により強調された凸状部と予め用意してある圧痕モデルとをパターンマッチングし、マッチング率が設定値以上である凸状部を圧痕候補として抽出する工程（Ｓ５）と、圧痕候補として抽出された凸状部の濃淡値の差が設定値以上である場合に凸状部を圧痕であると判定する工程（Ｓ６、Ｓ７）と、圧痕であると判定された個数をカウントする工程（Ｓ９）と、圧痕としてカウントされた数が設定値以上であるか否かにより透明基板への電子部品の実装状態の良否を判定する工程（Ｓ１１、Ｓ１２）とを備える。 （もっと読む）