本発明は、半導体ウェハ（１００）上に堆積または形成された膜（１０４）の光学特性を測定するためのシステム（２０１）および方法を提供する。膜の試験領域（２０６）内にあって、互いに重なり合わない複数の位置（２１６）において、上記膜の化学線照射量よりも低い放射線照射量で光学特性を測定する。この結果、上記測定によって上記膜内に化学変化が引き起こされることはない。従来技術による方法に対して上記測定を較正して、その結果を調整係数または較正係数によって調節してもよい。
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パイプ（１）の端部における内部および外部プロファイルを自動的に測定する装置が説明され、ここでセンサー（１１ａ、１１ｂ）は支持体（１０）の各回転角度に対して対応するプロファイルの距離を測り、測定されるパイプの軸線（Ｘ−Ｘ）に平行な方向に滑動自在なスライド（１３）に、回転自在に取付けられた支持体の回転軸高さを調整するための手段が設けられる。この測定システムはまた、測定されたパイプの端部に分類コードを帰すための検出されたデータの処理を備えている。 （もっと読む）

物体の空間的特性を決定するための方法には、２つ以上の界面を含む測定物体からの走査低コヒーレンス干渉信号を得ることが含まれる。走査低コヒーレンス干渉信号には、２つ以上の重なり合う低コヒーレンス干渉信号（それぞれ個々の界面に起因する）が含まれる。低コヒーレンス干渉信号に基づいて、少なくとも１つの界面の空間的特性が決定される。場合によって、決定は、低コヒーレンス干渉信号のサブセットに基づき、信号の全体に基づくのではない。あるいはまたは加えて、決定は、低コヒーレンス干渉信号を得るために用いられる干渉計の機器応答を示す場合があるテンプレートに基づくことができる。
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基板及び被覆膜を有するオブジェクト及びフォトリソグラフィ装置の一部分の互いに対する位置を決める装置は、フォトリソグラフィ・システムと、ポジショナーと、光学システムと、プロセッサと、を備える。フォトリソグラフィ・システムは、オブジェクトの一部分を第１光パターンで照射するように構成され、かつ基準表面を含む。ポジショナーは、フォトリソグラフィ・システムとオブジェクトとの間の相対位置を変えることができる。光投影装置は、第２光パターンをオブジェクトの被覆薄膜に投影するように構成されている。光学システムは、基板によって拡散散乱される第２光パターンの光を撮像する。プロセッサは、オブジェクトの空間特性を拡散散乱光に基づいて求め、かつポジショナーを動作させてフォトリソグラフィ・システムとオブジェクトとの間の相対位置を変えさせるように構成されている。
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本発明は、
-像焦点面における物体の基本的な表面の光学フーリエ変換像を形成する手段と、
-検出手段によって提供された情報から少なくとも１つの物体の寸法的および／または構造的な特徴に関連するデータを生成する処理手段と、
を含むことを特徴とする、物体の寸法的または構造的な特徴を測定するための装置に関する。
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試料特に（製薬）錠剤を調査するための方法及び装置である。放射体及び/又は試料は、最初は、放射体が所定の距離にあり、試料表面の最初に照射した点の法線方向に位置する。放射体は25GHz〜100THzの範囲で複数の周波数を持つ光を試料の複数の点に照射する。放射体と試料とは相対的に位置を変えることが可能である。ただし、その位置の変更は、放射体と試料との間では所定の距離（試料表面と放射体との）を保存し、放射体は各照射点の法線と一致させ、透過又は反射した光を各点で検出することが可能になるようにする。この特徴的な応用として（製薬）錠剤のコーティングの形状及び組成を画像化するというのがある。
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透過および反射型の空間ヘテロダイン干渉法（ＳＨＩＲＴ）測定のシステムおよび方法が記載される。方法は、第１の基準ビームおよび対象ビームを用いて、第１の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをデジタル記録し、第２の基準ビームおよび対象ビームを用いて、第２の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをデジタル記録する。また方法は、第１の解析されるイメージを規定するために、デジタル記録された第１の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをフーリエ解析し、第２の解析されるイメージを規定するために、デジタル記録された第２の空間的にヘテロダイン化されたホログラムをフーリエ解析し、第１の結果を規定するために第１の解析されたイメージをデジタルフィルターし、第２の結果を規定するために第２の解析されたイメージをデジタルフィルターし、そして第１の結果に第１の逆フーリエ変換を施し、第２の結果に第２の逆フーリエ変換を施す。
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透過型の空間ヘテロダイン干渉法（ＳＨＩＦＴ）測定のシステムおよび方法が記載される。方法は、少なくとも一部は半透明である対象物（６３０，７３０）を透過した基準ビームおよび対象ビームを用いてフーリエ解析のために、空間ヘテロダイン干渉縞を含む空間ヘテロダイン化されたホログラムをデジタル記録すること；解析されるイメージを規定するために、基準ビームと対象ビームとの間の角度によって規定される空間テロダインキャリア周波数の上にデジタル記録された空間的にヘテロダイン化されたホログラムの元の原点を重ねるためにホログラムの元の原点を移動することによって、デジタル記録された空間的にヘテロダイン化されたホログラムをフーリエ解析すること；元の原点周辺の信号を切り離し、結果を規定するために、解析されたイメージをデジタルフィルタリングすること；および、その結果に逆フーリエ変換を施すことを含む。
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【課題】 波長による屈折率の変化、つまり波長の関数で屈折率を反映したスペクトルを高速フーリエ変換を通じて得られた干渉空間での反射光のピーク値の位置を通じて、速やかな分析速度および高精密度を有した光ディスクの厚さ測定方法を提供すること。
【解決手段】 光の波長の長さによる反射光の強度を波長別スペクトルデータとして検出する段階と、前記検出された波長別スペクトルデータを波長の関数として屈折率を反映したスペクトル値に変換処理する段階と、前記変換処理された値を高速フーリエ変換を通じて光ディスクの厚さを表す間接空間の長さに変換処理して反射光の強度がピーク値を有する位置をそれぞれスペーサーレイヤーおよびカバーレイヤーの厚さとして検出する段階とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光透過性を有する被検出対象物の厚さを反射光に基づいて検出する装置において、反射光の照射領域の中心位置が確実に検出できるように構成された厚さ検出装置を提供する。
【解決手段】光透過性を有する被検出対象物の厚さをその表面及び裏面からの反射光に基づいて検出するにあたり、表面反射光及び裏面反射光のＣＣＤへの照射領域の中心位置を各反射光ごとに検出し、得られた中心位置に基づいて被検出対象物の厚さを検出するようになっている。そして、中心位置の検出においては、まずその検出対象となる反射光の照射領域において、受光レベルが基準レベルを超過する範囲（裏面側：Ｓ１〜Ｓ２、表面側：Ｓ３〜Ｓ４）を検出し、この超過する範囲における中点位置を算出する。そして、その算出された中点位置に基づいて、その反射光の照射領域の中心位置を検出することとなる。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネルのセル厚分布を全体的に把握できるとともに、セル厚の基準値に対するずれ量（差異）を容易に把握できる測定方法及び測定装置を提供する。
【解決手段】 ＣＣＤカメラ２４は偏光板２３から射出される透過光を受けて所定のカラー画像を取得し、このカラー画像データをコンピュータ装置２６に送出する。コンピュータ装置２６は、あらかじめＲＯＭやハードディスク等に格納されたデータ処理プログラムを実行することにより、ＣＣＤカメラ２４から出力されたカラー画像データに演算処理を加えて後述するセル厚相関データに変換し、このセル厚相関データを用いて変換画像をモニタ２７に出力する。 （もっと読む）

【課題】 液晶分子が存在する液晶層のみのリタデーション（ｄＬＣ・△ｎ）を求めることができ、セル厚を求めることができる液晶表示装置、そのセル厚測定装置及び測定法並びに位相差板を提供する。
【解決手段】 液晶領域中の液晶分子が電圧無印加時に略垂直に配向する液晶層と、液晶層を挾持する１対の基板と、を備える液晶表示装置の液晶セル５の厚さを測定するセル厚測定装置において、面内にリタデーションを有する１対の１軸性位相差板をその遅相軸方向をそろえて両外側表面に取付けた液晶セルを搭載するステージ１と、偏光子２３を有し、かつ、位相差板の遅相軸方向に対して方位角方向４４°〜４６°の偏光光を出射する光源２と、偏光光に対して偏光子とクロスニコルに配設された検光子３１を有し、かつ、偏光光の透過光量を検出する光検出器３と、位相差板に垂直な方向から偏光光の極角方向入射角を変化させる回転装置４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】透明膜の段差の測定方法に関し、非接触、非破壊で且つ簡単な操作で高速、高精度に位相シフターの段差を測定すること。
【解決手段】第１の透明膜１の一部に形成された複数の第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n の段差量ｔ₁ ，…．ｔ_n と該第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n からの反射光の偏光状態を示すパラメータの値との相関関係ｆ₁ を求めてデータベース化した後に、第２の透明膜４２の一部に形成された第２の溝４５の反射光の偏光状態を示すパラメータの第１の値を計測して、該第１の値と前記データベースの前記相関関係に基づいて該第２の溝４５の第１の段差量を求める工程を含む。 （もっと読む）

【目的】 被測定物の種類、あるいは塗料の種類によらず、常に一定のレーザー光を用いて、被測定物上に塗布された塗膜厚さを、その乾燥・硬化前の状態で、非接触でしかも極めて高精度に、測定しうる簡易な手段を提供する。
【解決手段】 塗装膜厚の測定方法を、塗装前の状態において基準面から被塗装体までの距離をレーザー変位計により測定する被塗装体表面位置測定段階と、塗装後の状態において他の基準面から塗面までの距離をレーザー変位計により測定する塗膜面位置測定段階と、前記被塗装体表面位置測定段階により測定された距離と前記塗膜面位置測定段階により測定された距離との差に基づき塗膜の厚さを算出する塗膜厚算出段階とを有するものとする。 （もっと読む）