【解決手段】１つの実施形態において、干渉計システムは、平行化された放射線ビームの波長を変化させ、複数個の表面により形成されるインタフェログラムを記録し、多重位相マップを生成するために複数個の各表面の各インタフェログラムの位相を抽出し、対応するインタフェログラムから各マップを決定し、各マップから急な勾配を有する局所関心領域を決定し、急な勾配の関心領域の測定を可能にするためウェハホルダを傾斜させ、急な勾配領域を含む対象物の全表面に及ぶ測定を行うための２個の不等パス干渉計アセンブリを備える。 （もっと読む）

【課題】 進行する材料ウェブ上の目印の横方向位置の光学的検出装置および上記装置の運転における方法を提供する。
【解決手段】
進行する材料ウェブの表面上の目印の横方向位置を光学的に検出するための装置が対物レンズ（１４）と行状に配列された感光性受光素子（１６）とからなる光学結像系と、上記検出領域（７）を照明するための２つの照明装置とを有し、上記第１の照明装置（２０）が、この照明装置から出る選択可能の色の光線が鏡面反射下に結像系へ到達しないように配列されており、他方、第２の照明装置が点状の光源（１０）および合焦光学系（１２；１３）からなり、上記光学系から出る光線が鏡面反射後に結像系の対物レンズ（１４）内の検出領域（７）で収束するように上記光学系が配置かつ調節されている。 （もっと読む）

【課題】ＦＢＧセンサに生じる温度変化の影響を取り除いて歪のみを取り出す。
【解決手段】光ファイバセンサ２０のファイバ支持体２１は、計測対象に固定されるベース２２の一面側にヒンジ２３、２４を介して一対の腕部２５、２６が互いに対向するように立設され、その腕部２５、２６の中間位置を連結部２９がヒンジ２７、２８を介して連結し、計測対象と等しい膨張率を有する材料で一体的に形成され、計測対象からベース２２を伸縮させる力を受けて腕部２５、２６を互いに反対方向に傾ける構造を有している。腕部２５、２６の連結部２９から所定距離離れた一端側の位置の間に、グレーティング部１ａを有するセンサ用光ファイバ１の両端が張力のある状態で固定され、その光ファイバ１と同一特性のセンサ用光ファイバ１′が腕部２５、２６の連結部２９から所定距離離れた他端側の位置の間にバランス状態で固定されている。 （もっと読む）

【課題】光トモグラフィー計測を用いた光断層画像化装置において、回転ムラによる画質の劣化を防止する。
【解決手段】光プローブ１０には、測定光Ｌ１を透過する光透過領域ＰＲと、光透過領域ＰＲの開始位置および終了位置に設けられた測定光Ｌ１を遮光する遮光領域ＳＲとが形成されている。そして、断層画像処理手段５０において、遮光領域ＰＲに測定光Ｌ１が照射されたときの干渉信号ＩＳもしくは断層情報ｒ（ｚ）を検出することにより、光透過領域ＰＲに測定光Ｌ１を照射したときに取得された干渉信号ＩＳもしくは断層情報ｒ（ｚ）を検出し、光透過領域ＰＲの断層画像Ｐを生成する。 （もっと読む）

【課題】被検体内に挿入されるＯＣＴ用光プローブにおいて、プローブの先端部と基端部との間のロータリージョイントでの光挿入損失および光反射損失による測定精度の劣化の低減を、安価且つ安全に実現する。
【解決手段】
被検体内に挿入される略円筒形のシース１１の内部空間に、このシース１１の長手方向に光ファイバ１２を配置する。光ファイバ１２の先端から出射した光Ｌ１を、被検体に向けて偏向させる先端光学系１５により偏向させるとともに、長手方向の軸線回りに所定角度の範囲内で揺動させる。 （もっと読む）

【課題】２種類の異なる波長の光を照明して検査対象物を透過又は反射させて２つの画像のデータの差を求め、その差から検査対象物の欠陥を検出することができる検査方法及び検査装置を提供する。
【解決手段】青色の光を含む２種類の異なる波長の光を検査対象物に照明し、検査対象物を透過又は反射した光に基づいて作られた２つの画像のデータの差を求め、その差から検査対象物の欠陥を検出する。青色の光を含む２種類の波長の光で検査対象物を照明する照明手段と、照明手段から２種類の波長の光が検査対象物に照明されて検査対象物を透過又は反射したあと、２つの画像を撮像する撮像手段と、撮像された検査対象物の２つの画像のデータから検査対象物の欠陥を検出するための画像処理手段を備え、撮像手段により得られた２つの画像のデータの差を求め、検査対象物の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】光トモグラフィー計測を用いた光断層画像化システムにおいて、干渉信号のＳ／Ｎ比を向上させる。
【解決手段】一定の周期で波長を掃引した光を用いた光トモグラフィー計測において、反射光Ｌ３と参照光Ｌ２との干渉光Ｌ４が光分岐手段５により第１干渉光Ｌ４ａと第２干渉光Ｌ４ｂとに分岐される。第１干渉光Ｌ４ａと第２干渉光Ｌ４ｂとは、干渉光路長調整手段６０Ａ、６０Ｂにより光路長が同一になるように調整された後、干渉光検出手段７０においてバランス検波される。 （もっと読む）

【課題】高いパターン欠陥検出精度を有する表面検査装置を提供すること。
【解決手段】被検査基板１４に所定の方向に偏光された光を照射する照明光源装置１１と、前記被検査基板で反射された光により、前記被検査基板の表面像を検出する撮像素子１９と、前記撮像素子の光入射側に配置され前記所定の方向と略直交する方向の偏光を透過する検光子１７と、前記照明光源装置と前記検光子との間に配置された反射鏡１３、１５とを有し、前記反射鏡の有効光束に対するＦナンバーが４．５以上である表面検査装置１００。 （もっと読む）

【課題】検査時における照明光の光量を安定させた表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、被検基板の表面に照明光を照射する照明部が、ランプハウス６１からの光のうち所定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルターが設けられた波長選択機構７０，７５を有し、当該バンドパスフィルターを透過して得られた所定の波長領域の光を照明光として被検基板の表面に照射するように構成されており、紫外光を遮断するＵＶカットフィルター６５がランプハウス６１と波長選択機構７０，７５との間の光路上に挿抜可能に設けられ、非検査時にＵＶカットフィルター６５が光路上に挿入されて、ＵＶカットフィルター６５を透過した光が波長選択機構７０，７５のバンドパスフィルターに照射されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】 装置の機械的な動きを伴うことなく３次元の形状を測定することが可能な３次元形状測定装置を提供すること。
【解決手段】形状測定装置１は、所定の波長帯域の中で波長を変えて光を出力することができる光源２と、繰り返しパターンを有する２次元チャート３と、所定の量の色収差を有し、光源２から出力された光によって照明された２次元チャート３の像を被測定体Ｓに投影する対物光学系７と、被測定体Ｓで散乱された２次元チャート３の投影像を撮像する撮像装置１０〜１２と、保存されたチャートデータ及び対物光学系７の色収差量に基づいて被測定体Ｓの３次元形状を算出する制御ユニット１３とを備える。撮像装置１０〜１２はまた、２次元チャート３の投影像を得た際の光源２からの出力光の波長に対応させて、撮像された２次元チャート３の投影像をチャートデータとして保存領域に保存する。 （もっと読む）

本発明は、干渉計装置及びその作動方法に関するものである。干渉計装置は干渉計を備え、該干渉計は、干渉計光源から放出された光線が測定アーム及び基準アームに分割可能である。測定体は測定アーム内に配置され且つ干渉計は測定体の位置の関数である干渉計信号を提供する。測定アーム及び基準アームの少なくともいずれか内の空気の屈折率の変動を測定するための測定手段が設けられている。測定手段は、分光計ユニットを含む。分光計ユニットは少なくとも１つの分光計光源並びに少なくとも１つの分光計検出ユニットを有する。分光計光源から放出された光線束が干渉計光源の光線束に重ね合わされ、分光計光源は、少なくとも１つの特定の空気成分の吸収線の範囲内に存在する波長を有する光線を放出する。分光計検出ユニットは、測定アーム及び基準アームの少なくともいずれか内における分光計光源波長に関する空気成分の吸収を表わす分光計信号を発生するように機能する。
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【課題】被検眼の眼底における網膜の断層像を撮像するに際し、モーションアーチファクトを低減させ、解像度の向上を図ることが可能となる光干渉断層撮像装置を提供する。
【解決手段】
光干渉断層撮像装置であって、
参照光路が、少なくとも、第１の参照光路と、該第１の参照光路より光路長が短い第２の参照光路とを有し、
前記第１の参照光路を用いて、光干渉により取得される被検査物の第１の検査位置における第１の断層情報と、前記第２の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第１の検査位置よりも前記被検査物の深さ方向に関して浅い位置の第２の検査位置における第２の断層情報とを取得し、
前記第１の断層情報から形成される前記第１の検査位置における断層画像の位置ずれを、前記第２の断層情報を用いて補正可能に構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】0.9〜1.2μｍの中心波長の光を発光する、高出力化可能な光半導体素子を得る。
【解決手段】 光半導体素子１を、InP基板10と、InP基板10の上に積層された第一導電型クラッド層１１と、第一導電型クラッド層１１の上に積層された量子井戸活性層１３であって、InGaAsPあるいはAlGaInAsからなる量子井戸層１３ａと、量子井戸層１３ａを挟むように積層されているInPあるいはGaInPからなる障壁層１３ｂとを備えた量子井戸活性層１３と、量子井戸活性層１３の上に積層された第二導電型クラッド層１５とを備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】距離の測定精度を向上させる。
【解決手段】距離計は、半導体レーザ１に発振波長が増加する第１の発振期間と発振波長が減少する第２の発振期間とを交互に繰り返させるレーザドライバ４と、半導体レーザ１の出力を電気信号に変換するフォトダイオード２の出力に含まれる干渉波形を数える計数装置７とを有する。計数装置７は、計数期間中の干渉波形の周期を測定し、測定結果から計数期間中の干渉波形の周期の度数分布を作成し、度数分布の周波数成分を解析し、周波数解析結果から干渉波形の周期の分布の代表値を求め、度数分布から、代表値の０．５倍以下である階級の度数の総和Ｎｓと、代表値の１．５倍以上である階級の度数の総和Ｎｗとを求め、これらの度数ＮｓとＮｗに基づいて計数結果を補正する。 （もっと読む）

【課題】光学的コヒーレンストモグラフィにおいて機械的運動に影響されることなく、短時間で高品位の解像度の二次元画像を得る。
【解決手段】本発明は、ために、光源およびリニアビーム形成システムが採用された光学的コヒーレンストモグラフィに関する。かかる目的のために、光学的リニアビーム形成システム（２０）は、周波数領域の光学的コヒーレンストモグラフィを実施するよう、半円筒形レンズ（２１）と、凸レンズ（２２）と、スリット（２３）とを備える。光源からの平行な光ビームは、半円筒形レンズ（２１）の表面に入射し、この凸レンズ（２２）の前方には半円筒形レンズ（２１）の焦点ラインが位置している。凸レンズ（２２）は平行な光成分が収束する短焦点と、発散する光成分が収束する長焦点とを有し、短焦点と長焦点との間にスロット（２３）が位置する。 （もっと読む）

【課題】吸着ノズル等で保持された電子部品にライン光を投光して三次元測定する際、該部品にライン光を細かい間隔で投光する場合でも、短時間で確実に測定できるようにする。
【解決手段】保持手段１０により保持された電子部品Ｐに、ライン光を投光した際の光切断線を撮像し、得られる画像データに基づいて、該電子部品を三次元測定する電子部品の三次元測定装置において、色が異なる複数のライン光Ｒ、Ｇ、Ｂを所定の間隔で前記電子部品に投光するライン光発生手段１５、１９等と、前記電子部品に投光されたライン光の反射光を分別受光して撮像する撮像手段２１とを備えた。 （もっと読む）

【課題】
簡易な構成で信頼性の高い絶対位置の計測装置を提供する。
【解決手段】
絶対位置の計測装置は、被測定物の位置に応じて位相が変化する複数の第一の信号と、複数の第一の信号のそれぞれに、第一の信号とは周期が異なる複数の第二の信号のそれぞれを重畳させた複数の重畳信号とを出力する出力手段と、第一の期間に第一の信号の位相を算出し、第二の期間に第二の信号の位相を算出する位相演算器と、第一の期間に位相演算器で算出された第一の信号の位相の回帰係数を算出する回帰演算器と、回帰係数を用いて算出された第一の信号の位相と第二の期間に位相演算器で算出された第二の信号の位相との位相差を算出する減算器と、減算器から出力された位相差の符号が反転する位置から被測定物の原点位置を求める位相差演算手段と、位相差演算手段で求めた原点位置から被測定物の絶対位置を算出する絶対位置算出手段とを有する。 （もっと読む）

本明細書に記載される実施形態は、対象サンプルに関する構造的情報および深さ情報の取得を可能にする低コヒーレンス干渉法（ＬＣＩ）技術を伴う。一実施形態において、「掃引源」（ＳＳ）光源は、サンプルに関する構造的情報および深さ情報を取得するために、ＬＣＩにおいて用いられる。掃引源光源は、参照信号と、サンプルに向けられる信号を生成するために用いられることができる。サンプルから散乱される光は、結果として戻され、参照信号と混合されて、干渉を実現し、したがって、サンプルに関する構造的情報を提供する。サンプルに関する深さ情報は、フーリエ領域概念のほか、時間領域技術を用いて取得されることができる。掃引源光源を利用する複数のＬＣＩ実施形態が、本明細書に開示される。本明細書に開示される別の実施形態において、ａ／ＬＣＩシステムおよび方法は、時間領域システムに基づいて提供され、広帯域の光源を利用する。
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【課題】被検体深部における被検体情報を、従来に比べて高Ｓ／Ｎかつ高速に取得可能な生体観測装置を提供する。
【解決手段】本発明の生体観測装置は、音波を被検体へ出射可能な音波発生部と、前記音波の出射状態を切り替える制御部と、前記被検体の内部に到達可能な照明光を、波長を漸次変化させつつ出射する照明光発生部と、前記被検体の内部において前記照明光が反射及び散乱された光である物体光を受光する受光部と、前記音波の出射状態がオフである場合に前記受光部に入射される光と前記照明光との干渉光から得られる干渉信号、及び、前記音波の出射状態がオンである場合に前記受光部に入射される光と前記照明光との干渉光から得られる干渉信号を出力する干渉信号出力部と、前記干渉信号各々に基づき、前記音波により密度が増大された各部位における光散乱情報を算出する演算部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】偏波依存性が抑制され、出力が時間的に安定した光を射出する光半導体素子を実現する。
【解決手段】光半導体素子１０は、発光中心波長が0.9μm以上1.2μm以下の光を射出可能な光半導体素子であり、In_xGa_1-xAs基板(X≠1)１１と、引張り歪量子井戸活性層１５とを備えている。光半導体素子は一般的にTEモードに対する利得を有している。光半導体素子１０は、引張り歪を導入することでTMモードでの利得を大きくすることができ、このためTEモードとTMモードに対する光利得のバランスがとれる。 （もっと読む）