【課題】製造容易で広帯域な利得スペクトル幅を有する光半導体素子を提供する。
【解決手段】素子内における光の共振が抑制され、n-GaAs基板１１上に、少なくともInGaP下部クラッド層とInGaAs活性層が積層されている光半導体素子１０において、n-GaAs基板１１として面方位が(100)面から(111)Ｂ面方向に２度以上１０度以下の角度、たとえば３度傾斜しているn-GaAs基板を用いる。InGaP下部クラッド層のステップバンチングが形成され、InGaAs活性層の層厚にばらつきが生じる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、歪や温度変化を光ファイバの軸方向にわたる分布状態として実用的で高精度にかつ長距離測定できる光ファイバを用いた歪・温度の分布測定方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、光周波数を変えながら光パルスをセンシング用光ファイバに入射させると共に前記センシング用光ファイバから戻ってきたレイリー散乱光を受光し、受光したレイリー散乱光の相関ピーク周波数と、光ファイバの歪変化量・温度変化量・光周波数変化量との関係を用いて光ファイバの軸方向の歪変化や温度変化を測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】非接触で2点間の高さの差を測定可能な光干渉式測定装置を提供する。
【解決手段】照射光を発する光源114、照射光を第1参照光と第1検査光に分割する第1半透鏡41、第1参照光と第1測定点91に照射されて第1測定光路長を進んだ第1検査光とを干渉させ、第1干渉縞を形成させる第1光学素子31、照射光を第2参照光と第2検査光に分割する第2半透鏡42、第2参照光と第2測定点92に照射されて第2測定光路長を進んだ第2検査光とを干渉させ、第2干渉縞を形成させる第2光学素子32、第1干渉縞と第2干渉縞の合成干渉縞を検出する干渉縞検出素子153、合成干渉縞から、第1測定光路長と第2測定光路長との光路差に応じて変動する干渉縞成分を抽出する抽出モジュール310、及び干渉縞成分から、第1測定点91と第2測定点92の高さの差を算出する算出モジュール330を備える。 （もっと読む）

【課題】製造容易で広帯域な利得スペクトル幅を有し、長時間安定して発光する光半導体素子を実現する。
【解決手段】素子内における共振が抑制され、GaAs基板１１上に０．９μｍ以上かつ１．２μｍ以下の中心波長λｃで発光する発光層が積層されている光半導体素子１０において、発光層が、第１の中心波長例えば１．０６μｍで発光する第１のIn_XGa_1-XAs量子ドット層（0≦ｘ≦１）、第１の中心波長とは異なる第２の中心波長例えば１．０９μｍで発光する第２のIn_XGa_1-XAs量子ドット層（0≦ｘ≦１）とを含む多重量子ドット層である。このため、多重量子ドット層間の転位が回避される。 （もっと読む）

【課題】光トモグラフィー計測により得られた断層画像における分解能の劣化を効率的に抑える。
【解決手段】各走査ライン毎に干渉信号ＩＳが取得され、干渉信号ＩＳの一部が抽出されることにより、信号長の異なる複数の抽出干渉信号ＩＳ０〜ＩＳ３が生成される。次に、抽出干渉信号ＩＳ０〜ＩＳ３から測定対象Ｓの各深さ位置ｚにおける中間断層情報ｒ０（ｚ）〜ｒ３（ｚ）が取得される。そして、測定対象Ｓの深さ位置ｚが深くなるにつれて信号長の短い抽出干渉信号ＩＳ０〜ＩＳ３から取得した中間断層情報ｒ０（ｚ）〜ｒ３（ｚ）を用いて断層情報ｒ（ｚ）が取得され、断層画像Ｐが生成される。 （もっと読む）

【課題】連続的にリアルタイム画像表示を行いつつ、安定的に、低ノイズで、かつ効率よく、高速で掃引光源ＣＯＴ（ＳＳ−ＯＣＴ）システムを操作できる装置及び方法を提供する。
【解決手段】低偏光依存性利得（ＰＤＧ）を得るためにレーザリング内の半導体光増幅器（ＳＯＡ）が選択され、高偏光依存性利得を得るために光リング外のブースタ半導体光増幅器が選択される。低偏光依存性利得の半導体光増幅器を利用することで、レーザの出力光の偏光状態のばらつきは殆どなくなるが、掃引中のレーザ出力の偏光状態のばらつきをなくすことはできず、これがＳＳ−ＯＣＴシステムの性能を低下させる可能性がある。 （もっと読む）

【課題】多点の検出位置での振動を高い周波数帯域まで光ファイバを用いて検出できるようにすること。
【解決手段】波長可変レーザ１１の光を光カップラ１３，１５，１８等を用いて分岐し、複数のセンサ部Ｓ１，Ｓ２，Ｓｎに与える。各センサ部では振動に応じて反射位置を変化させる反射板２３，２６，２９を設ける。複数のセンサ部ではセンサ部毎にエタロンの干渉特性をあらかじめ変化させておく。波長可変レーザのレーザ光を一定の波長範囲で走査し、センサ部に与えることによってエタロンの特性に応じた干渉信号が重畳して得られる。これを光電変換しフーリエ変換すると共に、周波数をセンサ部のエタロンの特性に応じて分離することによって、多点のセンサ部での信号を検出する。 （もっと読む）

【課題】光断層画像化装置において、高速に高分解能の断層画像を取得する。
【解決手段】光源ユニット１０から、波長が1295nm〜1345nm 内で間欠的に繰り返し掃引される光Ｌａと、波長が1255nm〜1305nm 内で間欠的に繰り返し掃引される光Ｌｂとが同時に射出される。どちらかの光の波長が1290nm〜1310nmの間である場合には他方の光は射出されない。光分割手段３は光Ｌａ、Ｌｂをそれぞれ測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂと参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂとに分割する。波長分割手段５aは、測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂが測定対象Ｓに照射されたときの反射光Ｌ３ａ、Ｌ３ｂを波長分割する。波長分割手段５ｂは、参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂを波長分割する。合分波手段６ａ、６ｂは反射光Ｌ３ａ、Ｌ３ｂと参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂとを各光ごとにそれぞれ合波する。干渉光検出手段４０ａ、４０ｂは上記合波により生ずる干渉光Ｌ４ａ、Ｌ４ｂを干渉信号として各光ごとに検出する。 （もっと読む）

【課題】光断層画像化装置において、高速に高分解能の断層画像を取得する。
【解決手段】光源ユニット１０から、波長帯域1.0μｍ〜1.5μｍ内で、波長が繰り返し掃引される光Ｌａと、波長帯域0.6μｍ〜1.1μｍ内で、波長が繰り返し掃引される光Ｌｂとを同時に射出する。分波手段３は光Ｌａ、Ｌｂをそれぞれ測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂと参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂとに分割する。合波手段５は、測定光Ｌ１ａ、Ｌ１ｂが測定対象Ｓに照射されたときの反射光Ｌ３ａ、Ｌ３ｂと参照光Ｌ２ａ、Ｌ２ｂとを合波する。波長分割手段３０は、このとき生じた干渉光Ｌ４ａと干渉光Ｌ４ｂの波長帯域を0.9μｍ以下、0.9μｍ〜1.2μｍ以下、1.2μｍより長波長の３つの波長帯域に分割して干渉信号を取得する。光Ｌａと光Ｌｂとで波長が重複している重複波長帯域を含む0.9μｍ〜1.2μｍ以下の波長帯域においては、光源１０ａまたは光源１０ｂの一方の光源のみから光が射出される。 （もっと読む）

【課題】多くの基準となる板状部材の膜厚とパラメータとの関係を用いなくても広い範囲の膜厚測定が可能となる膜厚測定方法及び膜厚測定装置を提供することである。
【解決手段】板状部材に含まれる膜層の厚さを測定する膜厚測定方法及び装置であって、前記板状部材の面に対して透過可能な検査光を、その波長を所定範囲にわたって変化させつつ照射し、照射される各波長の検査光が前記板状部材を透過して出てくる透過光の強度を検出し、前記検査光の各波長とその透過光の強度との関係を表す特性曲線における極大点及び極小点に基づいて注目波長を決定し、前記決定された注目波長から前記膜層の厚さを算出するようにした膜厚測定方法及び装置である。 （もっと読む）

【課題】光断層画像化装置において、偏光方向の調整をすることなく良好な画質の断層画像を低コストで取得する。
【解決手段】光断層画像化装置１００は、測定光Ｌ１を測定対象Ｓに照射させて所定の走査周波数で走査させて測定対象Ｓの断層画像を取得する。光断層画像化装置１００における、光源ユニット１０内または光源ユニット１０から合波手段４までの光Ｌ、測定光Ｌ１、参照光Ｌ２、反射光Ｌ３の光路の少なくとも１つに、時間的に平均したときに出力光が無偏光となるように入力光の偏光状態を走査周波数と同等もしくはそれ以上に高い周波数で変化させる無偏光化手段７０を設ける。 （もっと読む）

光源（１０４）により放射される光放射の異なる波長の焦点が、測定される表面（１１６）の法線（１１８）の方向において、異なる高さに合うように、光放射処理ユニット（１１２）が、測定される表面（１１６）の法線（１１８）とは異なる方向から、異なる波長を測定される対象（１１４）に向ける。可能性のある偏光子（１２０、１２２）が、表面（１１６）の法線（１１８）に垂直な方向に、反射された光を偏光させる。光放射処理ユニット（１１２）は、測定される対象（１１４）から受けた偏光された光放射を検出器（１０８）に向ける。信号処理ユニット（１２４）が、検出器（１１２）により提供された信号に基づいて、検出された放射から、放射の強度が最も高い波長を決定し、決定された波長により表面（１１６）の位置を決定する。両側から対象（１１４）を測定するとき、測定される対象（１１４）の厚みが、表面の位置を使用して決定可能である。
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【課題】
ＦＢＧからの反射光を受光する受光部のゲイン（受光感度）を、遠距離のＦＢＧの反射光に対しては受光感度を上げ、近距離のＦＢＧの反射光に対してはその受光部での飽和を防止するように変化させることによって、その２つのＦＢＧ間のファイバ長が６０ｋｍを越えるような場合であっても、２つの反射光の測定を同時に精度良く行えるＦＢＧセンサシステムを提供する。
【解決手段】
所定の波長範囲の光を含んで所定の掃引周期で波長掃引された光を発振してＦＢＧ１５ａ、１５ｂに入射させる波長可変光源１０と、このＦＢＧからの反射光を受光する受光部１６と、波長可変光源１０から出力される上記波長掃引を行うための掃引信号ａを受け、この掃引信号ａに基づいて、上記ＦＢＧからの反射光の上記受光部１６における受光時間に対しこの受光時間の早いときより遅いときの方がこの受光部１６のゲインが大きくなるように制御するゲイン制御手段１８とを備えた。 （もっと読む）

【課題】微小球面の形状計測を行なう場合は、光軸調整が容易で、高精度な測定が出来、誤差の少ない測定手法を提供すると共に、平面形状計測では、位相シフトを行なうための機械的な移動機構を不要とし、低コストで位相シフトを用いた微細形状の形状計測を実現可能とする。
【解決手段】拡大光学系１０、１２の一部を透過し、測定対象面９を照射する可干渉性光源２０と、該光源２０と測定対象面９の間の拡大光学系内に基準面３０を有し、この基準面３０で反射した参照光と、基準面３０を透過し測定対象面９で反射される被検光とを干渉させることにより、測定対象面９の形状を計測するように構成された干渉計とを備えた干渉型表面形状測定装置であって、撮像素子上に干渉縞画像を生成する干渉計部７２の結像光学系が、拡大光学系とは独立した焦点調節機構を有し、前記拡大光学系を通して無限遠方までの任意位置の画像を前記の撮像素子４０上に結像可能とする。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面の欠陥を精度よく検査することが可能な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】照射部１は、ワークＷの表面に対してＡ色の照射光Ｌ１，ＬＡ１とＢ色の照射光ＬＢ１と、Ｃ色の照射光ＬＣ１とを照射する。撮像装置３はワークＷからの反射光を分光して、Ａ色画像、Ｂ色画像、およびＣ色画像を同時に生成する。Ａ色画像はＢ色画像（あるいはＣ色画像）に比べて、ワークＷの欠陥に対応する部分と、その周囲との明るさ（あるいは色）の差が小さい。また、１度の撮影でＡ色画像、Ｂ色画像、およびＣ色画像が同時に生成されるので２つの画像の間に位置ずれが生じるのを防ぐことができる。よって２つの画像を比較すればワークＷの欠陥のみを２つの画像の相違点として抽出することが可能になる。 （もっと読む）

本発明による装置及び方法を提供することが可能であり、少なくとも１つの第１電磁放射線を含む特定の放射線が少なくとも１つのサンプルに向けられ、且つ、少なくとも１つの第２電磁放射線が基準に向けられる。特定の断面幅を有する第１電磁放射線をサンプルの少なくとも一部分に印加し、少なくとも１つの第３電磁放射線を生成することが可能である。特定の断面幅に対する０．５の乗数と１００の乗数との間の所定の乗数に相当する距離について特定の軸に沿って、サンプルの少なくとも一部分内で第１電磁放射線を並進運動させることが可能である。第１電磁放射線に関連する第３電磁放射線と第２電磁放射線に関連する少なくとも１つの第４電磁放射線との間において干渉を検出することが可能である。更には、第１電磁放射線の非対称断面エリアを提供することが可能である。
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【課題】波長可変光源において、コンパクトで簡素化された構成とする。
【解決手段】 光源ユニット１０は、光増幅手段である半導体レーザ１１と、半導体レーザ１１からの光が入射され、入射位置に応じた波長の光を選択的に反射する波長選択手段と、入射位置が変化するように、半導体レーザ１１からの光と波長選択手段とを相対移動させる相対移動手段である偏向手段１３とを備える。波長選択手段として、前記相対移動の方向に沿って格子間隔が変化するように構成されたブラッグ・グレーティング１５を用いる。 （もっと読む）

【課題】光半導体素子において、発光スペクトル幅が広く、かつ出力が高い光を発生させる。
【解決手段】光半導体素子１には、光導波路型発光領域である導波路２、３、４と、出射用光導波路である導波路５とが形成されている。導波路２、３、４の長さＳ１は互いに等しいように構成されている。導波路２、３、４で発生した各光は、導波路５に入射して合波され、合波された光は、導波路５により外部に出射される。 （もっと読む）

【課題】
ＦＢＧに入射する測定光に光パルスを用いて、ファイバ内で発生するレイリー散乱光の影響を低減することによって、例えＦＢＧまでのファイバ長が８０ｋｍを越えるような場合であっても、その測定対象の測定を精度良く行えるＦＢＧセンサシステムを提供する。
【解決手段】
所定の波長範囲の光を含んで所定の掃引周期で波長掃引された光をＬＤ１で発振させる波長可変光源１０と、波長可変光源１０から出力される上記波長掃引を行うための掃引信号ａを受け、この掃引信号ａに基づいて、波長可変光源１０で発振される上記所定の波長範囲の光を測定光としてＦＢＧ１５に入射させるための所定の周期のパルスｄを発生させるパルス発生器１１とを備え、上記パルスｄで波長可変光源１０の上記ＬＤ１の駆動電流をオン／オフさせることによって、上記所定の波長範囲の光でなる光パルスを発生させ、この光パルスを測定光としてＦＢＧ１５に入射させるようにした。 （もっと読む）

【課題】被測定物の有効範囲全域の干渉縞画像を１度に取得可能とすることで、短時間で被測定物の形状測定を行うことにより、高精度かつ安価に被測定物の形状を評価することができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】本発明の形状測定装置は、干渉計１０で干渉縞画像を取得する干渉縞取得手段と、取得した干渉縞画像より形状データを算出する形状算出手段とを備え、前記段差の所定の高さをｄ、干渉計用光源の波長をλ、ｎを２以上の整数としたとき、
｜２ｄ−ｎλ｜＜λ／３ ・・・(1)
の関係を満たすことを特徴する。これにより、その表面に所定の高さの段差を多数含む被測定物の有効範囲全域の干渉縞画像を取得することが可能となり、短時間で形状を測定することが可能となる。 （もっと読む）