第１及び第２の異なる波長の光源からの光が合成され、導波器に供給され、導波器は、０次光を基準表面に誘導し、他の次数、一般的に１次の回折光を、波長に依存するサンプル表面の１つの場所に誘導する。サンプル表面及び基準表面によって反射される光が干渉する。サンプル表面の特性が第１の波長の干渉光から求められる。基準表面を動かすか、又は経路部分の屈折率を変更することによって経路長差を調整し、環境の影響に起因する位相変動を補償することによって、第２の波長の干渉光を用いて、位相同期することができるようにする。異なる波長の場合に異なる１次回折角を与える可変波長源及び導波器、又は可変ピッチ音波回折格子を提供する音響光学デバイスを用いることによって、非機械的な走査を用いてサンプル表面が走査される。
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【課題】本発明は、確実に良好な検査を行うことのできる表面検査方法、及びそれに好適な表面検査装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表面検査方法は、被検基板上のパターンを偏光した照明光で照明すると共に、そこで生じた正反射光の偏光状態を示す反射信号を取得し、その反射信号に基づき前記被検基板の検査を行う表面検査方法であって、前記被検基板の検査に先立ち、前記照明光の波長を切り替えながら（Ｓ１，Ｓ３，Ｓ４）、予め用意されたテスト基板の前記反射信号を繰り返し取得し（Ｓ２）、取得された複数の反射信号に基づき前記被検基板の検査用の波長を決定する（Ｓ５）ことを特徴とする。 （もっと読む）

本出願は画像を記録するための新しい方法を開示する。本出願は、多くの科学分野及び技術分野における顕微鏡検査及び表面分析に関する。特に、本出願は、マイクロエレクトロニクス、すなわち、パターン化されていないウェハ、パターン化されたウェハ、及びフォトマスクで使用される表面の画像化及び検査に関する。本出願は、電気振幅を記録するという意味で、ホログラフィに関する。用途には、顕微鏡検査、欠陥検査、光波散乱計測、及び光学計測が含まれる。
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【課題】波長走査型の光コヒーレントトモグラフィシステムにおいて、測定深度の高い光断層画像表示を実現すること。
【解決手段】波長走査型光源として面発光レーザ光源を用いる。面発光レーザ光源は単一モードで高速で広帯域の周波数走査を実現することができ、多モード型の光源に比べてコヒーレント長が長くなる。そのため干渉光学計から得られる出力をフーリエ変換して断層画面を算出する際に、測定深度を深くすることができる。 （もっと読む）

【課題】外部共振器型の波長可変レーザ装置において、時間に対する周波数変化を線形的にする。
【解決手段】外部共振器型の波長可変レーザ装置１０は、半導体レーザ媒質１１と、半導体レーザ媒質１１からの射出光を空間的に波長分散する回折光学素子１３と、回折光学素子１３により波長分散された光を横切るように移動する反射面１５ａを有し、反射面１５ａにより前記光の一部を戻り光として選択的に反射する波長選択手段とを備える。波長選択手段は、戻り光の波長の逆数が時間に対して線形変化するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、歪み及び／又は温度を高精度かつ高空間分解能で測定し得る分布型光ファイバセンサを提供する。
【解決手段】本発明では、内側に向かうほど光強度が大きくなるように光強度が階段状になった光パルスを周波数を変えながら射出する階段状光パルス光源１１と、光パルスが入射される検出用光ファイバ２０と、光パルスに起因して生じる自然ブリルアン散乱光を検出用光ファイバ２０から受光して自然ブリルアン散乱光に基づき検出用光ファイバ２０の長尺方向の歪み及び／又は温度を測定するブリルアン時間領域検出部１９とを備える分布型光ファイバセンサ１において、ブリルアン時間領域検出部１９は、自然ブリルアン散乱光のスペクトルにおける半値半幅より狭い透過周波数帯域を持つ狭帯域光バンドパスフィルタ２０４を介して自然ブリルアン散乱光を受光して歪み及び／又は温度を計測する。 （もっと読む）

【課題】外部共振器型の波長可変レーザ装置において、小型化とともに、高速かつ安定した波長掃引を可能にする。
【解決手段】レーザ装置１０は、半導体レーザ媒質１１と、半導体レーザ媒質１１から射出した光を波長分散する分散素子である回折光学素子１３と、波長分散された光が入射される空間変調素子１５とを備える。空間変調素子１５は、制御信号に応じて光を変調する複数の画素１５ａを有し、波長分散された光の一部を選択的に反射して帰還させて戻り光とする。半導体レーザ媒質１１と空間変調素子１５が外部共振器の両端部を構成し、半導体レーザ媒質１１の射出端面１１ａから、戻り光の波長のレーザ光Ｌ０が射出される。 （もっと読む）

【課題】 歪を精度良く測定可能で高分解能化が可能である光ファイバ歪測定装置を実現する。
【解決手段】 測定対象である光ファイバ内で発生するブリルアン散乱光を用いて光ファイバの歪を測定する光ファイバ歪測定装置において、出力光の光周波数を変化させることが可能な可変波長光源と、この可変波長光源の出力光を２つに分岐する第１の光分岐手段と、一方の分岐光を狭パルス光にして出射させる光パルス変調器と、光パルス変調器の出力光をポンプ光として光ファイバの一端に入射すると共に光ファイバの一端からの出射光を分岐する第２の光分岐手段と、出力光をプローブ光として光ファイバの他端に入射する光源と、第１の光分岐手段の他方の分岐光を用いて第２の光分岐手段の分岐光をヘテロダイン検波する光検出器とを備え、ヘテロダイン検波して得られた周波数差からポンプ光によるブリルアン散乱光の正確な周波数シフトを求める。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フルフィールドＯＣＴを内視鏡の測定プローブに組み込み、広範囲領域を操作性よく観察するための光イメージング装置を開発することを課題としている。
【解決手段】本発明は、光源１０と該光源１０から出射される光を導くための光ファイバ１１と、光ファイバ１１から出射される光を、被測定部Ｓで反射される反射光および該反射光と異なる方向に進む参照光に分離するスプリッタ１８と、
前記反射光と前記参照光が合波した干渉光を受光する受光素子２３と、を備え、
光ファイバ１１の先端部に、光ファイバ１１から出射される光のビーム径を光ファイバ１１のコア径よりも拡大する屈折率分布型レンズ１４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】板材の表面に映った棒状光源の虚像を撮影して板材の形状を測定する際に，板の幅方向の傾きや板の上下動に影響を受けることなく，板の長手方向の傾きを求めて高精度に形状を検出する形状検出装置及び方法を提供する。
【解決手段】搬送される板材１に，棒状光源３からの出射光を照射して板材面に写った棒状光源３の虚像を画像として撮像手段３で連続的に採取し，棒状光源３を板材１の搬送方向且つ幅方向に垂直に配設し，出射光に棒状光源３の長手方向位置情報を付加し，長手方向位置情報を含む虚像の撮影画像に基づいて，板材１の形状を演算する。 （もっと読む）

【課題】従来のＮＢＰＦの製造工程におけるＮＢＰＦ作成時の膜厚制御法とＮＢＰＦ作成後の評価法が異なるための問題点を解決する。
【解決手段】所望の光学特性を得るための膜設計に基づき、各層の種々の膜厚における分光特性を理論値として予め計算し、前記理論値と成膜時における分光特性の実測値とを逐次比較し膜厚制御を行うために、成膜基板に投光する測定光を波長掃引し、成膜基板の分光特性を実測する。具体的には、成膜基板に投光する測定光を波長掃引する波長可変レーザーを、成膜基板を透過または反射した光を受光し、波長可変レーザーの波長掃引に同期して受光した光を光電変換し出力する分光特性測定用受光器と、分光特性測定用受光器の出力に同期して成膜基板の透過率または反射率を計測し出力する光パワーメータと、光パワーメータの出力する透過率または反射率から成膜基板の分光特性を読込み、前記理論値との比較を行う。又、単色測定法と分光特性法とを択一的に選択する手法も提供している。 （もっと読む）

【課題】半導体パターンの線幅、ピッチが検査光の波長以下になっても半導体パターン上の欠陥の検出能力を維持すること。
【解決手段】センサ２及び拡大光学系３の各特性に基づいて作成されたセンサ２の出力特性データＣを参照してセンサ画像データ４の画素を補間処理し、この補間処理されたセンサ画像データ２７からマスク１に形成されたパターンの像を復元したセンサ画像データ２８を取得するマスク復元フィルタ２０を設けた。 （もっと読む）

【課題】測定対象の膜に送光部から測定光を送光すると共に，その反射光を受光部で受光して，反射光の強度スペクトルを検出し，その極大と極小から膜厚を測定する光学式膜厚測定方法においては，測定可能範囲内に極大又は極小のいずれもが位置していないと測定が良好に行えない。
【解決手段】そこで本発明では，上記膜厚測定装置において，送光部６は，測定対象の膜９に対する光の入射角度θを可変に構成すると共に，受光部８の受光角度を上記入射角度の変化に連動して可変に構成した光学式膜厚測定装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡易な構成でありながら、光学材料に存在する異物を高精度に、且つ、短時間で検査（検出）することができる検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】光学材料に存在する異物を検出する検査装置であって、光束を射出すると共に、前記光束の周波数を変化させる光源部と、前記光源部から射出される光束を、参照ミラー面と前記光学材料に導光する導光手段と、前記参照ミラー面から反射される光束と、前記光学材料に存在する異物から反射される光束との干渉光束に基づいて、前記光学材料に存在する異物の３次元位置座標を演算する演算手段とを有することを特徴とする検査装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 光干渉法と偏光解析法を1台の装置において可能にすることによって、基板上に形成した透明な薄膜の屈折率と膜厚や、基板のたわみや膜の段差などを試料面内で２次元的に測定できるようにするとともに、測定精度を向上させた表面測定装置を提供する。
【解決手段】 ある偏光状態にある平面波を試料１に照射し試料１の反射による偏光状態の変化をセンサー１１によって測定することを特徴とする光学式表面測定装置において、反射側のレンズ７の焦点に偏光素子８を置くことを特徴とする表面測定装置。 （もっと読む）

【課題】レイリー後方散乱光が伝送路ファイバ中で蓄積されることがなく、往復路共通伝送のままレイリー後方散乱雑音を抑制することができることを目的とする。
【解決手段】往復共通の１本の伝送路ファイバ４と、光源１と、光源１の光をパルス化して伝送路ファイバ４に出力する光ゲートスイッチ２と、検知する物理量に対する応答機構を備え、伝送路ファイバ４に設けられた複数の光ファイバセンサ５ａ〜５ｎと、光ファイバセンサ５ａ〜５ｎからの信号光を伝送路ファイバ４を介して受光し、該信号光を電気信号に変換して物理量を検出する検出部８とを備え、光ゲートスイッチ２において送出パルス光の繰返し時間を光の往復伝播時間よりも大きく設定して、伝送路ファイバ３中をワンパルス伝送するようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】光コヒーレンストモグラフィー計測において、測定開始位置の調整を短時間かつ簡便に行う。
【解決手段】制御手段７０は、測定開始位置調整モードと画像取得モードとを切り替える機能を有している。制御手段７０は、画像取得モード時には光源ユニット１０が第１低コヒーレンス光源１０Ａから第１低コヒーレンス光Ｌを射出し、画像取得手段５０が低コヒーレンス光Ｌによる干渉光Ｌ４から断層画像信号を取得するように制御する。一方、測定開始位置調整モード時には制御手段７０は光源ユニット１０の低コヒーレンス光源１０Ｂが第２低コヒーレンス光Ｌ１０を射出し、画像取得手段５０が第２低コヒーレンス光Ｌ１０による干渉光Ｌ４を検出から断層画像信号を取得するように制御する。 （もっと読む）

【課題】光コヒーレンストモグラフィー計測において、測定開始位置の調整を短時間かつ簡便に行う。
【解決手段】制御手段７０は、測定対象Ｓの深さ方向の断層画像の取得を開始する測定開始位置を調整する測定開始位置調整モードと、測定対象の断層画像を取得する画像取得モードとを切り替える機能を有している。そして、制御手段７０は、画像取得モード時には光源ユニット１０が光源ユニット１０Ａからレーザ光Ｌを射出し、干渉光検出手段４０および画像取得手段５０がレーザ光Ｌによる干渉光Ｌ４を検出するように制御する。一方、測定開始位置調整モード時には制御手段７０は光源ユニット１０のＡＳＥ光源１０ＢがＡＳＥ光Ｌ１０を射出し、干渉光検出手段４０および画像取得手段５０が光路長調整手段２０における光路長の調整により各深さ位置のＡＳＥ光Ｌ１０による干渉光Ｌ４を検出するように制御する。 （もっと読む）

【課題】光コヒーレンストモグラフィー計測において、測定開始位置の調整を短時間かつ簡便に行う。
【解決手段】制御手段７０は、測定対象Ｓの深さ方向の断層画像の取得を開始する測定開始位置を調整する測定開始位置調整モードと、測定対象の断層画像を取得する画像取得モードとを切り替える機能を有している。そして、制御手段７０は、画像取得モード時には干渉光検出手段４０および画像取得手段５０が第１光検出手段４４により検出された干渉光を検出するように制御し、測定開始位置調整モード時には第２光検出手段４４ａにより検出される、光路長調整手段２０における光路長の調整により測定対象の各深さ位置の異なる干渉光Ｌ４を検出するように制御する。 （もっと読む）

【課題】 ０次回折光を使用してＬ／Ｓパターンのピッチを測定する方法を提供する。
【解決手段】 物体の表面に、入射直線偏光を、入射直線偏光の振動方向がＬ／Ｓパターンの長さ方向と一致せず、かつ垂直にならないように入射し、入射直線偏光と物体の表面の法線とのなす角をαとするとき、表面によって反射された反射光のうち、入射直線偏光と振動方向が直角な反射直線偏光のみを検出し、検出された光のうち０次回折光の強度を特定する工程を、入射直線偏光の入射角α又は波長λを変えながら行い、検出された０次回折光の強度が急変してピーク値をとるときの、入射直線偏光の入射角α又は波長λに基づいて、特定の式によりＬ／Ｓパターンのピッチを測定する。 （もっと読む）