説明

光干渉断層撮像装置

【課題】被検眼の眼底における網膜の断層像を撮像するに際し、モーションアーチファクトを低減させ、解像度の向上を図ることが可能となる光干渉断層撮像装置を提供する。
【解決手段】
光干渉断層撮像装置であって、
参照光路が、少なくとも、第1の参照光路と、該第1の参照光路より光路長が短い第2の参照光路とを有し、
前記第1の参照光路を用いて、光干渉により取得される被検査物の第1の検査位置における第1の断層情報と、前記第2の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第1の検査位置よりも前記被検査物の深さ方向に関して浅い位置の第2の検査位置における第2の断層情報とを取得し、
前記第1の断層情報から形成される前記第1の検査位置における断層画像の位置ずれを、前記第2の断層情報を用いて補正可能に構成されていることを特徴とする。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光干渉断層撮像装置に関し、特に眼科診療等に用いられる干渉光学系を有する光干渉断層撮像装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
現在、光学機器を用いた眼科用機器として、様々なものが使用されている。
例えば、眼を観察する光学機器として、前眼部撮影機、眼底カメラ、共焦点レーザー走査検眼鏡(Scanning Laser Ophthalmoscope: SLO)、等様々な機器が使用されている。
中でも、光干渉断層撮像装置(Optical Coherence Tomography:OCT、以下OCT装置と記す)は、試料の断層像を高い解像度で取得することのできる装置であるが、眼科用機器として網膜の専門外来では必要不可欠な装置になりつつある。
【0003】
上記OCT装置は、以下の原理で動作する。まず、光源から発生された低コヒーレント光を参照光と測定光に分割する。前記参照光は参照ミラーで反射する。また、前記測定光はサンプルに照射され、前記サンプルで反射する。前記参照ミラーで反射された光と前記サンプルで反射された光とを干渉させる。前記OCT装置は、前記干渉した光を用いることによって、サンプルの断層像を高い解像度で取得することができる。
なお、前記OCT装置は、前記測定光を、スキャン走査しながらサンプルに入射することによって、サンプルの断層像を得ることができる。
前記OCT装置は、被検眼の眼底における網膜の断層像を高解像度に撮像することが可能なので、網膜の眼科診断等に広く利用されている。
ところで、人間の眼球は、固視微動と呼ばれる不随意的な眼球運動を有している。そのため、前記OCT装置を網膜の眼科診断等に用いた場合、網膜の断層像を取得する時間が長くなってしまうと、測定中に眼球が運動することによる画像どうしの位置ずれへの影響が大きくなってしまう。
この影響によって、網膜の断層像には、モーションアーチファクトといわれる、画像の乱れが生じてしまう。
【0004】
従来において、上記モーションアーチファクトを防ぐために、マッハツェンダー干渉系を用いた眼底観察用のOCT装置が、特許文献1に開示されている。
このOCT装置は、測定光はスキャン走査しながら被検眼の眼球の一部である網膜に入射できるように構成されている。また、参照光は上記眼球の一部である角膜の表面を光学系の構成要素であるミラーのように機能させている。
このように角膜をミラーのように機能させて参照光路を形成することで、測定中の眼球の運動の影響による網膜の断層像へのモーションアーチファクトを低減させるように構成されている。
【特許文献1】特表2002−515593号公報、図2
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記特許文献1では、上記モーションアーチファクトを低減させるための配慮がなされているが、このようなOCT装置においては、モーションアーチファクトを低減させると共に解像度の向上を図る上で、更なる改善が望まれている。
【0006】
本発明は、上記課題に鑑み、特に被検眼の眼底における網膜の断層像を撮像するに際し、モーションアーチファクトを低減させることが可能となる光干渉断層撮像装置(OCT装置)の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る光干渉断層撮像装置は、
光源からの光を測定光と参照光とに分割し、該測定光を測定光路を介して被検査物に照射し、且つ該測定光の前記被検査物からの戻り光を検出位置に導き、
前記参照光を参照光路を介して前記検出位置に導いて、前記検出位置に導かれた前記戻り光と光干渉させて、該光干渉に基づく信号を用いて前記被検査物の断層画像を撮像する光干渉断層撮像装置であって、
前記参照光路が、少なくとも、第1の参照光路と、該第1の参照光路より光路長が短い第2の参照光路とを有し、
前記第1の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記被検査物の第1の検査位置における第1の断層情報と、
前記第2の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第1の検査位置よりも前記被検査物の深さ方向に関して浅い位置である第2の検査位置における第2の断層情報と、を取得し、
前記第1の断層情報から形成される前記第1の検査位置における断層画像の位置ずれを、前記第2の断層情報を用いて補正可能に構成されていることを特徴とする。
また、別の本発明に係る光干渉断層撮像装置は、
光源からの光を測定光と参照光とに分割し、該測定光を測定光路を介して被検査物に照射し、且つ該測定光の前記被検査物からの戻り光を検出位置に導き、
前記参照光を参照光路を介して前記検出位置に導いて、前記検出位置に導かれた前記戻り光と光干渉させて、該光干渉に基づく信号を用いて前記被検査物の断層画像を撮像する光干渉断層撮像装置であって、
前記参照光路が、少なくとも、第1の参照光路と、該第1の参照光路より光路長が短い第2の参照光路とを有し、
前記第1の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記被検査物の第1の検査位置における第1の断層情報と、
前記第2の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第1の検査位置よりも前記被検査物の深さ方向に関して浅い位置である第2の検査位置における第2の断層情報と、を取得し、
前記深さ方向の位置関係に関して、前記第1の断層情報と前記第2の断層情報とを関連付けることを特徴とする。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、特に被検眼の眼底における網膜の断層像を撮像するに際し、モーションアーチファクトを低減させ、解像度の向上を図ることが可能となる光干渉断層撮像装置(OCT装置)を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
つぎに、本発明の実施形態における光干渉断層撮像装置(OCT装置)について、図1を用いて説明する。
図1は、本実施形態に係るOCT装置を説明するための模式図である。なお、本発明に係るOCT装置は、本実施形態に限るものではない。
本実施形態に係るOCTは、光源101からの光を測定光106と参照光105とに分割し、該測定光106を測定光路(測定光106が通る光路)を介して被検査物107に照射し、且つ該測定光106の前記被検査物107からの戻り光を検出位置に導く。
ここで、戻り光とは、被検査物107に対する光の照射方向における界面に関する情報等が含まれる反射光や散乱光のことである。
そして、通常のOCT装置のように、前記参照光105を参照光路(参照光105が通る光路)を介して前記検出位置に導いて、前記検出位置に導かれた前記戻り光と光干渉させて、該光干渉に基づく信号を用いて前記被検査物107の断層画像を撮像する。
本発明の特徴は、前記参照光路が、少なくとも、第1の参照光路(参照光105−2が通る光路)と、該第1の参照光路より光路長が短い第2の参照光路(参照光105−1が通る光路)とを有することである。
前記第1の参照光路を用いて、前記光干渉により取得される前記被検査物の第1の検査位置(例えば、網膜127)における第1の断層情報(例えば、図3(a)の境界128−1)が取得される。
さらに、前記第2の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第1の検査位置(例えば、網膜127)よりも、
前記被検査物107の深さ方向に関して浅い位置である第2の検査位置(例えば、角膜126)における第2の断層情報(例えば、図3(a)の境界129−1)とが取得される。
【0010】
前記測定光106の被検査物107への入射位置を変えて、複数の前記第1の断層情報を取得することにより前記被検査物の所定の位置での断層画像が取得される。
複数の前記第1の断層情報を取得した後、それら複数の断層情報から得られる断層像あるいは3次元像を繋ぎ合わせて前記断層画像を形成することになる。
ここで、被検査物が、測定中に動いてしまう場合は、当該動きの影響を受けた断層画像(例えば、図3(a)の330)が構築されてしまう。
そこで、本実施形態に係るOCT装置は、前記第1の断層情報から形成される前記第1の検査位置における断層画像の位置ずれを、前記第2の断層情報を用いて補正可能に構成される。
また、本実施形態に係るOCT装置は、前記被検査物107の深さ方向の位置関係に関して、前記第1の断層情報と前記第2の断層情報とを関連付けるように構成されても良い。
ここでいう位置ずれとは、被検査物107が測定中に静止していた場合に取得される第1の検査位置での断層像からの位置ずれという意味である。
前記補正に際しては、前記被検査物107が動いた場合であっても、前記第1の検査位置(例えば、網膜127)と前記第2の検査位置(例えば、角膜126)との相対的な位置関係は実質的に不変であることを用いる。
本実施形態に係るOCT装置に、前記第1の検査位置及び第2の検査位置における断層情報をそれぞれ取得するための遅延光路(参照光路)を設けておけば、逐次、両方の位置における断層情報が取得される。被検査物の動きによって、実際の検査位置はずれてしまうことになる。
【0011】
本実施形態に係るOCT装置は、取得された前記第1及び第2の断層情報を、例えば前記第2の断層情報を基準に、前記第1の断層情報から形成される断層画像を補正して再構築する。これにより、前記被検査物の動きを打ち消した断層画像(例えば、図3(b)の331)が得られることになる。
ここで、前記第1の参照光路と前記第2の参照光路は、それぞれの参照光路長を独立に制御する参照光路長制御手段を有することが好ましい。これにより、第1の検査位置と第2の検査位置における干渉信号が、時間軸上で重なっている場合に、参照光路長を変化させることにより両方の干渉信号を分離することができる。
なお、第1及び第2の参照光路を独立に制御できれば、必ずしも両方の参照光路の両方がそれぞれ可変である必要は無く、一方のみが可変であってもよい。
また、参照光路長制御手段を用いて、第1の断層情報と第2の断層情報とが時間的に分離されるように、第1の参照光路と第2の参照光路との参照光路長を調整することが好ましい。
これにより、第1の断層情報と第2の断層情報とを時間的に分離することで、モーションアーチファクトの低減が容易になる。
さらに、前記調整は自動的に行われることが好ましい。
これにより、第1の断層情報と第2の断層情報とを確実に分離することが容易になる。
【0012】
OCT装置内あるいは、それに接続される外部装置に、測定光と参照光の光干渉に基づく信号を検出するための、前記検出位置での光強度を検出し電気信号に変換する検出手段と、前記電気信号を演算して画像化する画像化手段とを設けておくことになる。
また、前記第1の参照光路と前記第2の参照光路は、少なくとも、それらのいずれかに分散補償手段を有することが好ましい。
また、前記第1の断層情報として、被検眼における網膜の断層画像を取得するための第1の参照光学系が、前記第1の参照光路によって構成する。そして、前記第2の参照光路によって、前記第2の断層情報として、前記被検眼における角膜の断層画像を取得するための第2の参照光学系が、前記第2の参照光路によって構成する。このような構成により、前記網膜の断層画像を形成する際に、前記角膜の位置に関する情報を含む前記第2の断層情報を用いて、前記網膜の断層画像の位置ずれを補正することによってモーションアーチファクトを低減させる。
なお、前記第1の参照光路と前記第2の参照光路との光路長差が、30mm以上60mm以下であることが好ましい。
前記第1の参照光学系を構成する前記第1の参照光路は、前記被検眼における眼の分散を補償する分散補償手段を有するように構成することができる。
【0013】
本実施形態に係るOCT装置は、前記被検査物からの戻り光を、前記検出位置に導くための検査光学系と、
前記測定光を、前記測定光路を介して前記被検査物に導くための検出光学系と、
前記参照光を、前記検出位置に導くための参照光学系と、を有するように構成できる。
そして、前記検査光学系、前記検出光学系および前記参照光学系は、少なくとも、それらの光路のいずれかが光ファイバーによって構成することができる。
また、前記光干渉断層撮像装置において、前記検査光学系、前記検出光学系および前記参照光学系は、少なくとも、それらの光路のいずれかを光ファイバーによって構成することで、小型で安価な光干渉断層撮像装置を実現することが可能になる。
【実施例】
【0014】
つぎに、本発明の実施例について説明する。
[実施例1]
実施例1に係るOCT装置について、図1を用いて説明する。
図1は、本実施例のOCT装置における光学系を説明するための模式図である。100はOCT装置、103、113はビームスプリッタ、105は参照光、106は測定光、107は被検眼における眼、110はシングルモードファイバー、111、120はレンズ、114はミラーである。
115は分散補償用ガラス、119はXYスキャナ、122はバランスドディテクタ、123はアンプ、124はフィルタ、125はパソコン、126は被検眼における角膜、127は被検眼における網膜である。
本実施例においては、OCT装置100は、被検眼における眼107の網膜127の断層像を取得する装置として用いられている。
【0015】
つぎに、本実施例のOCT装置における光学系の構成について説明する。
まず、最初に、OCT装置100の構成を大まかに説明する。
図1は、OCT装置100の概念図を示し、全体として、マッハツェンダー干渉系を構成している。
図中、光源101から出射した光がビームスプリッタ103−1によって参照光105と測定光106とに分割される。
測定光106は、観察対象である眼107によって反射や散乱により戻り光となって戻された後、ビームスプリッタ103−2によって、参照光105と合波される。
参照光105と測定光106とは合波された後、ビームスプリッタ103−2によって分割され、バランスドディテクタ122に入射される。
バランスドディテクタ122は光強度を電圧に変換し、その信号を用いて、眼107の断層像が構成される。
【0016】
つぎに、光源101の周辺について説明する。
光源101は代表的な低コヒーレント光源であるSLD(Super Luminescent Diode)である。波長は830nm、バンド幅50nmである。
ここで、バンド幅は、得られる断層像の光軸方向の分解能に影響するため、重要なパラメーターである。
また、光源の種類は、ここではSLDを選択したが、低コヒーレント光が出射できればよく、ASE(Amplified Spontaneous Emission)等も用いることができる。
また、波長は眼を測定することを鑑みると、近赤外光が適する。さらに波長は、得られる断層像の横方向の分解能に影響するため、なるべく短波長であることが望ましく、ここでは830nmとする。
観察対象の測定部位によっては、他の波長を選んでももちろん良い。光源101から出射された光はシングルモードファイバー110−1を通して、レンズ111−1に導かれ、ビーム径4mmの平行光になるよう、調整される。
【0017】
つぎに、本発明の特徴である参照光105の光路について説明する。
ビームスプリッタ103−1によって分割された参照光105はビームスプリッタ113−1に入射され、参照光105−1と105−2とに分割され、その後、ビームスプリッタ113−2にて合波される。
ここで、114−1〜5はミラー、115−1〜2は分散補償用ガラスである。分散補償用ガラス115−1の長さはL1であり、一般的な眼の奥行きの2倍と等しいことが望ましい。分散補償用ガラス115−1は眼107に測定光106が往復した時の分散を、参照光105に対して補償するものである。
ここでは、日本人の平均的な眼球の直径とされる23mmの2倍のL1=46mmとする。
また、ビームスプリッタ113−1とミラー114−1との距離L2は、眼107の奥行きより若干大きく或いは小さくする必要があり、ここでは、L2=24mmとするが、測定時に再調整する。
結果として、ここでは参照光路が二つあることを特徴とし、参照光105−1と105−2の光路長差が2L2=48mmであり、一般的な眼球の奥行きの2倍より若干大きく調整されている。
さらに、117−1,2は電動ステージであり、図示している方向に移動することができ、参照光105−1,2それぞれの光路長を独立して、制御することができる。
【0018】
つぎに、参照光105の変調方法について説明する。
ここで、116−1,2は音響光学変調素子、116−3は音響光学変調素子のコントローラである。
ここでは、2つの音響光学変調素子116−1,2を光の周波数のシフターとして用いている。
音響光学変調素子116−1,2のシフト周波数はそれぞれ+41MHz、−40MHzであり、結果として、参照光105の周波数は1MHzシフトされる。また、分散補償用ガラス115−2は眼107のスキャンに用いられるレンズ120−1,2の分散補償を目的としたものである。
【0019】
つぎに、測定光106の光路について説明する。
ビームスプリッタ103−1によって分割された測定光106はビームスプリッタ103−3で反射され、XYスキャナ119のミラーに入射される。
ここでは、簡単のため、XYスキャナ119は一つのミラーとして記したが、実際にはXスキャン用ミラーとYスキャン用ミラーとの2枚のミラーが近接して配置され、網膜127上を光軸に垂直な方向にラスタースキャンするものである。また、測定光106の中心はXYスキャナ119のミラーの回転中心と一致するように調整されている。レンズ120−1,2は網膜127を走査するための光学系であり、測定光106を眼107の測定に適したビーム径にする機能を有する。
ここではビーム径は6mmとしている。レンズ120−1,2の焦点距離はそれぞれ30mm、45mmである。
測定光106が眼107に入射すると、角膜126の表面及び網膜127からの反射により、測定光106はビームスプリッタ103−2によって分割され、バランスドディテクタ122に導かれる。
【0020】
つぎに、本実施例のOCT装置における測定系の構成について説明する。
OCT装置100は、マッハツェンダー干渉系による干渉信号の強度から構成される断層像(OCT像)を取得することができる。
その測定系について説明すると、網膜127にて反射された測定光106は、XYスキャナ119によって反射され、ビームスプリッタ103−2によって分割される。
一方、参照光105もビームスプリッタ103−2によって分割される。
ここで、参照光105と測定光106とはビームスプリッタ103−2の後方で合波されるように調整される。
そして、光ファイバー110−2と110−3とを介して、バランスドディテクタ122に導かれ、参照光105と測定光106とが合波された光の強度が電圧に変換される。
得られた電圧信号はアンプ123にて増幅され、フィルタ124にて必要な周波数成分を取り出し、パソコン125にて復調及びデータ処理を行い断層像を形成する。
ここでは、上記説明したように参照光105は周波数1MHzのシフトを受けている。
そのため、上記得られる電圧信号は1MHzのビート信号となり、測定光106は通常微弱であるが、参照光105は大きいので、検出感度を増大させることができる。
上記フィルタ124は、ここでは1MHzのバンドパスフィルタを用い、余計な周波数成分をカットすることで、ビート信号の高感度検出を図っている。
【0021】
つぎに、本実施例のOCT装置を用いた断層像の取得方法について説明する。
OCT装置100は2つの電動ステージ117−1,2とXYスキャナ119とを制御することで、網膜127の所望の部位の断層像を取得することができる。ここでは、網膜127の断層像(光軸に平行な面)の取得方法について説明する。
測定光106を眼107に入射すると様々な位置における反射により、それぞれの位置での時間遅延を伴って、測定光106はバランスドディテクタ122に到達する。
ここでは、光源101のバンド幅が広く、コヒーレンス長が短いために、参照光105と測定光106とのそれぞれの光路長が等しい場合のみに、バランスドディテクタ122にて、干渉信号が検出できる。
上述のように、参照光105の周波数は1MHzシフトされているので、干渉信号は1MHzのビート信号となる。
また、参照光105は参照光105−1と105−2に分割されている部分を有しているため、測定光106の2つの位置からの反射に対して、干渉信号が得られることを特徴としている。
ここで、参照光105−1を有する参照光路を全体をDL1、参照光105−2を有する参照光路を全体をDL2とする。
ここで、前述したように、参照光105−1と105−2の光路長差が2L2=48mmであり、一般的な眼球の奥行きの2倍より若干大きく調整されている。つまり、DL1とDL2との光路長差2L2は、眼107の奥行きの往復分に対応するように調整されている。
そこで、それぞれ、DL1を網膜127から、DL2を角膜126からの反射を検知するように調整すれば、結果的に、角膜126と網膜127との両方の干渉信号を同時に取得することが可能になる。なお、ここでいう同時にとは、厳密な意味で時間軸上で同時という意味ではなく、被検眼の測定中の動きに比べて十分短い時間内に、前記角膜からの反射信号と網膜からの反射信号を取得するという意味である。
【0022】
つぎに、参照光路DL1とDL2との調整方法について具体的に説明する。
図2に、本実施例の参照光路の調整方法を説明する図を示す。
図2(a)は、平行光である測定光106が眼107に入射し、角膜の表面126及び網膜127の各層において、反射(反射光121)される様子を示している。
まず、電動ステージ117−1,2を用いて、参照光路DL1とDL2との光路長を調整し、DL1を通る参照光105−1と角膜126からの反射光121を、DL2を通る参照光105−2と網膜127の反射光121を、それぞれ干渉するように調整する。
調整された電動ステージ117−1,2の位置を含んで、電動ステージ117−1,2を移動すると、バランスドディテクタ122に図2(b)に示すような信号が検知される。
縦軸は光強度、横軸は時間を示している。電動ステージ117−1,2を等速に動かせば、横軸は電動ステージ117−1,2の位置であり、参照光路または測定光路の光路長と捉えることができる。
ここでは、図2(b)は角膜126と網膜127とからの反射光が時間的に重ならない場合を示した。しかし、角膜126と網膜127とからの反射光同士が、時間的に重なる場合がありえる。
そのため、電動ステージ117−1,2の何れか一方の移動範囲を変化させ、角膜126と網膜127とからの反射光が時間的に独立して、検知できるように調整することが必要である。
電動ステージ117−1,2を用いて、光路長を調整する場合、図2(b)のように時間軸上で、左側に角膜126からの反射光が、そして右側に網膜127からの反射光があらわれるように分離調整する。
また、その逆(左側に網膜127からの反射光、右側に角膜126からの反射光が現れるようにする。)でもよい。
【0023】
次に、断層像の取得方法について具体的に説明する。
図2に、本実施例の断層像の取得方法を説明する図を示す。
まず、XYスキャナ119を固定し、DL1が網膜127付近、DL2が角膜126の表面付近からの反射を干渉信号として独立して検知できるように電動ステージ117−1,2を前述の調整方法を用いて、調整する。具体的には上述のように、L2=24mmとする。
図2(a)に示したように、平行光である測定光106は107に入射し、角膜の表面126及び網膜127の各層において、反射(反射光121)される。さらに、電動ステージ117−1,2とを同時に移動させれば、図2(b)に示したような信号がバランスドディテクタ122に検知され、わずかに電動ステージ117−1,2を移動させることで、角膜126と網膜127との情報を得ることができる。
この信号は上述のビート信号であり、その振幅を2乗し、復調することで、光軸方向の反射率分布が得られる。
また、図2(c)に示したように、XYスキャナ119を用いて網膜127上の任意の点について同様の動作を繰り返せば、反射率の2次元分布が得られ、角膜126と網膜127との断層像を一回の測定で得ることができる。
例えば、DL1を光軸方向(Z方向)に走査しその動作をXYスキャナ119を用いてX軸方向の任意の点について行うと、図3(a)のような断層像130が得られる。
本来は、断層像130は上記説明したように、サンプルの反射率をアレイ状に並べたものであり、例えばその値をグレースケールに当てはめて、表示されるものであるが、ここでは、その境界のみを表示している。
【0024】
つぎに、本実施例のOCT装置を用いたモーションアーチファクトの補正方法について説明する。
図3に、本実施例のモーションアーチファクトの補正方法について説明する図を示す。
図3(a)に示した断層像330は角膜126の表面である境界128−1と、網膜127の内部構造である境界129−1とを見てとることができる。本来、測定中に眼球107の動きがなければ、測定光106は角膜126の同様の位置に入射されるべきである。
即ち、境界128−1は光軸方向の眼球107の動きを示していることになる。ここで、断層像330に対して、境界129−1が一直線になるように、光軸方向の眼球の変位分を補正すると、図3(b)に示すように、断層像331が得られ、モーションアーチファクトが低減された網膜127の断層像を得ることができる。
ここでは、一直線になるように補正された境界128−2と補正された網膜の内部構造を示す境界129−2とを見て取ることができる。
【0025】
[実施例2]
実施例1においては、前記検査光学系、前記検出光学系および前記参照光学系において、少なくとも、それらの光路のいずれかを光ファイバーによって構成した構成例について説明する。
図4に、本発明の実施例2におけるOCT装置の構成を説明する図を示す。
図4には、図1に示した実施例1の構成と同一または対応する構成には同一の符号が付されているから、重複する構成についての説明は省略する。
図4において、200はOCT装置、130はシングルモードファイバー、131は光カプラ、134は光サーキュレーターである。
本実施例においては、OCT装置200は、被検眼における眼107の網膜127の断層像を取得する装置として用いられている。
また、本実施例においては、光学系の一部を光ファイバーを用いて、構成することにより、装置の小型化が図られている。
光ファイバーを用いていることを除けば、実施例1と基本的構成において差異のない構成を備えている。
【0026】
つぎに、本実施例のOCT装置における光学系の構成について説明する。
まず、最初に、OCT装置200の構成を大まかに説明する。
図4は、OCT装置200の概念図を示し、全体として、マッハツェンダー干渉系を構成している。
図4において、光源101から出射した光がシングルモードファイバー130−1を介して、光カプラ−131−1によって、測定光106(90)と参照光105(10)に分割される。
測定光106は観察対象である眼107によって反射された後に、光カプラ131−2を用いて測定光106と参照光105とが合波された後、分割され、バランスドディテクタ122に入射される。
バランスドディテクタ122にて得られた光強度を用いて、眼107の断層像が構成される。
次に、光源101の周辺について説明する。光源101自体は実施例1と同様である。
光源101から出射された光はシングルモードファイバー130−1を通して、光カプラ131−1に導かれ、強度比90:10で分割され、それぞれ測定光106、参照光105となる。
【0027】
つぎに、本実施例の特徴である参照光105の光路について説明する。
参照光105は光カプラ131−1にて分割された後、シングルモードファイバ130−2を通して、レンズ135−1に導かれ、ビーム径4mmの平行光になるよう、調整される。
電動ステージ117−1,2及びそれに付帯するミラー114−1,2、ビームスプリッタ113−1,2、分散補償用ガラス115−1は実施例1と同様なので説明は省略する。
合波された参照光105は分散補償用ガラス115−2を通った後、レンズ135−2を用いてシングルモードファイバー130−6に導かれる。
さらに、音響光学変調素子133−1、シングルモードファイバ130−7を通って、光カプラ131−2に入射される。
ここで音響光学変調素子133−1は光ファイバ用のものであり、コントローラ133−2を用いて、1MHzの周波数シフトを行うことができる。従って、ここで得られる参照光105は実施例1と同様である。
【0028】
つぎに、測定光106の光路について説明する。
光カプラ131−1によって分割された測定光106はシングルモードファイバー130−3を通って光サーキュレーター134に入射される。
その後、シングルモードファイバー130−4を通って、レンズ135−3に導かれ、ビーム径4mmの平行光になるよう、調整される。さらに、分散補償ガラス115−3を通ったあと、XYスキャナ119のミラーに入射される。
XYスキャナ119から眼107までの間の光学系は実施例1と同様であるため、説明は省略する。
ここで、分散補償ガラス115−3は音響光学変調素子133−1の分散を補償するものである。
ここでは、測定光106が分散補償ガラス115−2を往復するため、分散補償ガラス115−2の厚さは音響光学変調素子133−1のガラスの半分の厚みになっている。
測定光106が眼107に入射すると、角膜126の表面及び網膜127及びその内部からの反射により、測定光106は光サーキュレータ134を通って、光カプラ131−2に導かれる。
【0029】
つぎに、本実施例のOCT装置における測定系の構成について説明する。
OCT装置200はマッハツェンダー干渉系による干渉信号の強度から構成される断層像(OCT像)を取得することができる。その測定系について説明する。網膜127の反射によって反射された測定光106は、XYスキャナ119によって反射され、光カプラ131−2によって、参照光105と合波され、さらに50:50に分割される。次に、シングルモードファイバー130−8,9を通って、バランスドディテクタ122に導かれる。
参照光105と測定光106とが合波された光の強度が電圧に変換される。得られた電圧信号はアンプ123にて増幅され、フィルタ124にて必要な周波数成分を取り出し、パソコン125にて復調及びデータ処理を行い断層像を形成する。
【0030】
つぎに、本実施例のOCT装置を用いた断層像の取得方法について説明する。
OCT装置200は、2つの電動ステージ117−1,2とXYスキャナ119とを制御することで、網膜127の所望の部位の断層像を取得することができる。
断層像の取得方法の詳細は、実施例1と同様であるため、説明を省略する。
【0031】
つぎに、本実施例のOCT装置を用いたモーションアーチファクトの補正方法について説明する。
OCT装置200は、モーションアーチファクトの補正する機能を有し、それを特徴としている。
モーションアーチファクトの補正方法の詳細についても、実施例1と同様であるため、説明を省略する。
【図面の簡単な説明】
【0032】
【図1】本発明の実施例1におけるOCT装置の光学系を説明する図である。
【図2】本発明の実施例1における断層像の取得方法を説明する図である。
【図3】本発明の実施例1におけるモーションアーチファクトを補正する方法を説明する図である。
【図4】本発明の実施例2におけるOCT装置の構成を説明する図である。
【符号の説明】
【0033】
100、200:OCT装置
103、113:ビームスプリッタ
105:参照光
106:測定光
107:被検眼における眼
110、130:シングルモードファイバー
111、120、135:レンズ
114:ミラー
115:分散補償用ガラス
116,133:音響光学変調素子
117:電動ステージ
119:XYスキャナ
121:反射光
122:バランスドディテクタ
123:アンプ
124:フィルタ
125:パソコン
126:被検眼における角膜
127:被検眼における網膜
128、129:境界
131:光カプラ
134:光サーキュレーター

【特許請求の範囲】
【請求項1】
光源からの光を測定光と参照光とに分割し、該測定光を測定光路を介して被検査物に照射し、且つ該測定光の前記被検査物からの戻り光を検出位置に導き、
前記参照光を参照光路を介して前記検出位置に導いて、前記検出位置に導かれた前記戻り光と光干渉させて、該光干渉に基づく信号を用いて前記被検査物の断層画像を撮像する光干渉断層撮像装置であって、
前記参照光路が、少なくとも、第1の参照光路と、該第1の参照光路より光路長が短い第2の参照光路とを有し、
前記第1の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記被検査物の第1の検査位置における第1の断層情報と、
前記第2の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第1の検査位置よりも前記被検査物の深さ方向に関して浅い位置である第2の検査位置における第2の断層情報と、を取得し、
前記第1の断層情報から形成される前記第1の検査位置における断層画像の位置ずれを、前記第2の断層情報を用いて補正可能に構成されていることを特徴とする光干渉断層撮像装置。
【請求項2】
前記第1の参照光路と前記第2の参照光路との参照光路長を独立に制御する参照光路長制御手段を有することを特徴とする請求項1に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項3】
前記参照光路長制御手段が、前記第1の断層情報と前記第2の断層情報とが時間的に分離されるように、前記第1の参照光路と前記第2の参照光路との参照光路長を調整することを特徴とする請求項2に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項4】
前記調整を自動的に行うことを特徴とする請求項3に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項5】
前記光干渉に基づく信号を検出するための、前記検出位置での光強度を検出し電気信号に変換する検出手段と、
前記電気信号を演算して画像化する画像化手段と、を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項6】
前記第1の参照光路と前記第2の参照光路とのうち少なくとも一方は、分散補償手段を有することを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項7】
前記第1の断層情報として、被検眼における網膜の断層画像を取得するための第1の参照光学系が、前記第1の参照光路によって構成されており、且つ
前記第2の参照光路によって、前記第2の断層情報として、前記被検眼における角膜の断層画像を取得するための第2の参照光学系が、前記第2の参照光路によって構成されており、
前記網膜の断層画像を形成する際に、前記角膜の位置に関する情報を含む前記第2の断層情報を用いて、
前記網膜の断層画像の位置ずれを補正することによってモーションアーチファクトを低減させることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項8】
前記第1の参照光路と前記第2の参照光路との光路長差が、30mm以上60mm以下であることを特徴とする請求項7に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項9】
前記第1の参照光学系を構成する前記第1の参照光路は、前記被検眼における眼の分散を補償する分散補償手段を有することを特徴とする請求項7または請求項8に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項10】
前記被検査物からの戻り光を前記検出位置に導くための検査光学系と、
前記測定光を、前記測定光路を介して前記被検査物に導くための検出光学系と、
前記参照光を、前記検出位置に導くための参照光学系とを有し、
前記検査光学系、前記検出光学系および前記参照光学系は、少なくとも、それらの光路のいずれかが光ファイバーによって構成されていることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項11】
光源からの光を測定光と参照光とに分割し、該測定光を測定光路を介して被検査物に照射し、且つ該測定光の前記被検査物からの戻り光を検出位置に導き、
前記参照光を参照光路を介して前記検出位置に導いて、前記検出位置に導かれた前記戻り光と光干渉させて、該光干渉に基づく信号を用いて前記被検査物の断層画像を撮像する光干渉断層撮像装置であって、
前記参照光路が、少なくとも、第1の参照光路と、該第1の参照光路より光路長が短い第2の参照光路とを有し、
前記第1の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記被検査物の第1の検査位置における第1の断層情報と、
前記第2の参照光路を用いて前記光干渉により取得される前記第1の検査位置よりも前記被検査物の深さ方向に関して浅い位置である第2の検査位置における第2の断層情報と、を取得し、
前記深さ方向の位置関係に関して、前記第1の断層情報と前記第2の断層情報とを関連付けることを特徴とする光干渉断層撮像装置。
【請求項12】
前記第1の断層情報と前記第2の断層情報との前記深さ方向の位置関係が、前記第1の検査位置と前記第2の検査位置との前記深さ方向の位置関係となるように構成されていることを特徴とする請求項11に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項13】
前記深さ方向の位置関係に関して、前記第1の断層情報と前記第2の断層情報とから成る前記被検査物の断層像または3次元像に生じる位置ずれを、
前記第2の断層情報を用いて補正可能に構成されていることを特徴とする請求項11または請求項12に記載の光干渉断層撮像装置。
【請求項14】
前記第2の検査位置に関する情報に基づいて前記第2の断層情報の前記深さ方向に関する位置ずれが補正された前記深さ方向の前記被検査物の断層像または3次元像を形成することを特徴とする請求項11から13のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2009−103688(P2009−103688A)
【公開日】平成21年5月14日(2009.5.14)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−234780(P2008−234780)
【出願日】平成20年9月12日(2008.9.12)
【出願人】(000001007)キヤノン株式会社 (59,756)
【Fターム(参考)】