【課題】波長差に起因する計測誤差を低減して高精度な位置検出を行う位置検出装置を提供する。
【解決手段】基準マークＳＭを利用して被検出体ＷＭの位置を検出する位置検出装置であって、第１の波長帯域を有する計測光を用いて被検出体ＷＭを照明する第１の照明光学系５と、第２の波長帯域を有する基準光を用いて基準マークＳＭを照明する第２の照明光学系１３と、被検出体ＷＭからの光束および基準マークＳＭからの光束を検出する検出光学系１０と、検出光学系１０で検出された光束に基づいて被検出体ＷＭの位置を検出する位置検出部４８とを有し、基準光の第２の波長帯域は、計測光の第１の波長帯域の上限と下限との間に設定されている。 （もっと読む）

【課題】コストの増加を抑えながら参照面と被検面との間の光路長差の変化に起因する計測誤差を低減し、参照面と被検面との間の距離を計測する計測装置を提供する。
【解決手段】周波数を走査可能なｎ（ｎ＝２以上の整数）個の光源と、前記ｎ個の光源からのそれぞれの光を分割し、参照面と被検面とに入射させる分割素子と、前記参照面で反射された光と、前記被検面で反射された光との干渉により形成されるｎ個の干渉光を検出して干渉信号を出力する検出部と、前記距離を求める処理部と、前記処理部は、前記ｎ個の光源のうち１つの第１光源からの光の周波数を第１方向に第１走査速度で走査するように制御し、且つ、前記ｎ個の光源のうち他の１つの第２光源からの光の周波数を第１方向とは逆の第２方向に前記第１走査速度とは異なる第２走査速度で走査するように制御し、前記ｎ個の光源を制御している間の前記干渉信号に基づいて、前記距離を求める。 （もっと読む）

【課題】さらに付加的な情報の取得が可能で、かつ堅牢な装置構造と高度な測定精度とを有する光干渉測定技術の提供。
【解決手段】光干渉測定装置は、光源１からの出発ビーム２を測定ビーム３と第１の参照ビーム４ａとに分割するビームスプリッタ５ａと、光の重ね合わせ手段と、第１の検出器８ａとを備える。重ね合わせ手段と第１の検出器８ａとは互いに連携する。物体７によって反射された測定ビームと第１の参照ビームとが第１の検出器の検出面で重ね合わされる。ビームスプリッタ５ａは、出発ビーム２を測定ビーム３と、第１の参照ビーム４ａと、少なくとも第２の参照ビーム４ｂとに分割する。重ね合わせ手段と互いに連係する第２の検出器８ｂが備えられ、物体７によって散乱させられた第１の受信ビーム４ｂ’としての測定ビームと第２の参照ビーム４ｂとが第２の検出器８ｂの検出面で重ね合わされる。 （もっと読む）

【課題】 被検面が傾いていても測定精度を悪化させることのない多波長干渉計を提供する。
【解決手段】 波長が互いに異なる少なくとも２つの光束を参照光と被検光とに分割し、分割された参照光の周波数と被検光の周波数とを異ならせ、被検光と参照光とを干渉させる干渉計において、干渉光を複数の光束に分割する分割部を有し、分割された複数の光束を各波長について検出する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で参照面と被検面との間の絶対距離を高精度かつ高速に計測可能な計測装置を提供すること
【解決手段】波長走査干渉計は、複数の光源ＩＬ１〜ＩＬ３と、複数の光束を合成するビームスプリッタ１０３ｂと、ビームスプリッタ１０３ｂからの光を参照光束と被検光束に分割し、干渉計ユニット３００によって検出された干渉信号に基づいて参照面と被検面との間の絶対距離を決定する処理部１０７と、を有する。干渉計ユニットは、複数の種類の光束に対応する複数の種類の干渉縞のそれぞれを、合成された干渉信号Ｓ１００として検出する単一の光検出部１０６を有し、処理部は、合成された干渉信号に対してＦＦＴを行って複数の種類の光束のそれぞれについて絶対距離Ｌ_１〜Ｌ_３を取得し、取得した複数の絶対距離を演算して一つの絶対距離Ｌ_４を出力する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に被検面の形状を計測することが可能な計測装置を提供すること
【解決手段】計測装置は、光コム光源１０１から射出された光束を、被検光束と参照光束に分割するＰＢＳ１５と、前記参照光束と前記被検光束の光路長差を変化させる遅延素子９と、前記被検光束と前記参照光束が干渉して形成する干渉縞を撮像する撮像素子２４と、遅延素子が光路長差を変化させて撮像された干渉縞の信号に基づいて被検面２３の位置を算出する解析器２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】移動する被検体までの絶対距離を高精度に計測する。
【解決手段】第１光源からの第１光束によって形成される被検体の位置情報を含む第１干渉信号と、第２光源からの第２光束によって形成される前記被検体の位置情報を含む第２干渉信号と、前記第１光束の波長を走査しながらの前記第１干渉信号と前記第２光束の波長を走査しながらの前記第２干渉信号とに基づいて前記被検体までの絶対距離を算出する処理部とを備え、前記処理部は第１時刻から第２時刻までの時間間隔における前記第１干渉信号の位相と前記第２干渉信号の位相との差分の変化量によって得られる前記被検体の速度によって、前記第１干渉信号および前記第２干渉信号の少なくとも一方に基づいて算出される誤差を有する絶対距離を補正し、誤差が補正された絶対距離を算出する。前記第１時刻および前記第２時刻は前記第１光束の波長と前記第２光束の波長との差分が互いに等しい時刻である。 （もっと読む）

【課題】移動する被検体までの絶対距離を高精度に計測するために有利な波長走査干渉計を提供する。
【解決手段】波長走査干渉計は、光源から射出される光束の波長を変更しながら該光束から分割された参照光と被検光との干渉光の信号に基づいて被検体までの絶対距離を計測する。波長走査干渉計は、前記光源から射出される光束の波長が互いに等しい時刻である第１時刻およびその後の第２時刻と、前記第１時刻、前記第２時刻のそれぞれにおける前記干渉光の信号の周波数である第１周波数、第２周波数とに基づいて、前記被検体の移動による誤差成分が低減された絶対距離を算出する処理部を備える。 （もっと読む）

【課題】チャープ光の長さに依存することなく、奥行きの計測範囲を長くすることができる３次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】３次元形状測定装置１０は、波長が規則的に経時変化するチャープ光を生成して被測定物Ｗに対して照射するチャープ機器１６と、被測定物Ｗを反射した反射チャープ光を所定タイミングで所定期間切り出す複数のシャッタ部２２ａ、２２ｂ、２２ｃと、複数のシャッタ部２２ａ、２２ｂ、２２ｃにより切り出された反射チャープ光と前記複数のシャッタ部２２ａ、２２ｂ、２２ｃの位置情報とを用いて、被測定物Ｗの複数領域の３次元情報を取得する３次元情報取得部２６とを備え、複数のシャッタ部２２ａ、２２ｂ、２２ｃは、被測定物Ｗの基準位置に対して距離が異なるように設けられている。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の測定に有利な技術を提供する。
【解決手段】光源からの光を２つの光に分割して、一方の光を参照面に入射させ、他方の光を被検面に入射させ、前記参照面で反射された光と前記被検面で反射された光との干渉光を検出する検出部と、距離を求める処理を行う処理部、前記光源からの光の波長を固定しての干渉光である第１の信号と、前記光源からの光の波長を連続的に変更させながらの干渉光である第２の信号、前記第２の信号を周波数解析して前記第２の信号に含まれる周期誤差を算出し、前記第１の信号に含まれる周期誤差と前記第２の信号に含まれる周期誤差との対応関係を表すテーブルを用いて、前記算出された前記第２の信号に含まれる周期誤差に対応する前記第１の信号に含まれる周期誤差を特定し、前記第１の信号から前記特定された周期誤差を減算し、前記参照面と前記被検面との間の光路長に対応する位相を求める。 （もっと読む）

【課題】光パルスの検出タイミングにかかわらず、奥行き方向の空間分解能及び測定精度を向上可能である三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】色が規則的に経時変化する光パルスを生成するチャープ導入装置と、前記光パルスをワークに照射し切り出すことで該光パルスの反射光像を取得する反射光像取得部と、反射光像を分光し複数のカラーチャンネルでの各色情報を二次元位置毎に取得する色情報取得部とを備える。前記各色情報に対応する分光特性は、前記光パルスの波長範囲において少なくとも２つが交差する。 （もっと読む）

【課題】試料の高さを正確に測定することのできる高さ測定方法と、高さを正確に測定して高い精度で描画することのできる電子ビーム描画装置とを提供する。
【解決手段】光の波長を所定値としたときの反射光の光量を測定し、光量が閾値以下である場合には光の波長を変えて反射光の光量を測定する工程を繰り返し、光量が閾値より大きくなる波長で試料の高さを測定する。あるいは、光の波長を変えて反射光の光量を測定し、光量が最大となる波長で試料の高さを測定する。 （もっと読む）

【課題】 干渉計測の応答速度を損なう事無く高精度な屈折率補正を実現可能な干渉計測方法を提供する。
【解決手段】 参照面で反射された光束と被検面で反射された光束との干渉信号を検出することによって被検光路の幾何学的距離を計測する干渉計測方法において、互いに波長が異なる複数の光束を用いて被検光路の光路長を算出する多波長光路長算出工程、多波長光路長算出工程で算出された被検光路の光路長から被検光路の空気の屈折率を算出する屈折率算出工程、屈折率算出工程で算出された屈折率を平滑化することによって平滑化屈折率を算出する平滑化屈折率算出工程、平滑化屈折率算出工程で算出された平滑化屈折率から被検光路の幾何学的距離を算出する幾何学的距離算出工程を有する事を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多様な認識対象に対応することができるとともに、占有スペースを小さくしてコンパクト化の要請に対応することができる部品実装用装置および部品実装用装置における撮像用の照明装置ならびに照明方法を提供する。
【解決手段】基板３を対象として部品実装用の作業を実行する部品実装用装置において、基板認識カメラ１２による撮像時に基板３に対して照明光を照射する際に、光源部１３とカラー液晶パネル１４を積層して構成され、発光状態を個別に可変な複数の発光部を規則配列した発光パネル１５から照明光を照射するに際し、それぞれの発光部から照射される照明光の照射範囲を撮像対象に応じて変化させる。これにより多様な認識対象に対応した適正な照明条件で撮像することができるとともに、照明部２０の装置占有スペースを小さくしてコンパクト化の要請に対応することができる。 （もっと読む）

【課題】光ファイバの設置毎に、事前に試験を行う必要がなく、不均一なひずみを有する変位であっても、正確に変位を計測することができる光ファイバ構造物変位計測装置及びその計測方法を提供する。
【解決手段】構造物２０は、非直線形状であり、かつ変位が発生した場合に不均一なひずみが発生する構造物である。構造物２０に固定された光ファイバ１に発生するブリルアン散乱光を検出して、ブリルアン散乱光から観測パワースペクトルデータを計測する。一方、構造物の変位の大きさに対応して発生するブリルアン散乱光のモデルパワースペクトル形状を理論的に算出し、このモデルパワースペクトル形状を観測パワースペクトルデータにあてはめる。あてはめられた最も適合する曲線形状のモデルパワースペクトル形状に基づき、構造物の変位を算出する。 （もっと読む）

【課題】複数レイヤ試料の２つのレイヤ間のオーバレイ誤差を決定する方法を提供する。
【解決手段】試料の第１レイヤから形成される第１構造および第２レイヤから形成される第２構造をそれぞれ有する複数の周期的ターゲットについて、光学システムを用い、周期的ターゲットのそれぞれについて光学信号が計測される。第１および第２構造の間には既定義されたオフセットが存在する。散乱計測オーバレイ技術を用いて既定義されたオフセットに基づいて周期的ターゲットからの前記計測された光学信号を分析することによって第１および第２構造間のオーバレイ誤差が決定される。本光学システムは、反射計、偏光計、画像化、干渉計、および／または走査角システムのうちの任意の１つ以上を備える。 （もっと読む）

【課題】単一ビームや単針を走査する方法と比べて短時間にパターンを検査することができるパターン形成部材の検査方法及び装置、並びにパターン形成部材を提供する。
【解決手段】被転写材料に転写すべきパターン３とプラズモン共鳴構造体４とを有するパターン形成部材１を準備し、プラズモン共鳴構造体４に光を照射してプラズモン共鳴構造体４のプラズモン共鳴の吸収特性を計測し、吸収特性に基づいてパターン３を検査する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、比較的短時間であってｎｍオーダで、より高精度に、測定対象物の表面形状を測定し得る表面形状測定装置および該方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面形状測定装置ＳＡは、１つの測定箇所ＭＰに対し測定対象物Ｏｂの３つ以上、例えば３つの測定点Ｐ１〜Ｐ３に測定光ＭＬをそれぞれ照射するべく、測定光生成部１Ａで生成された測定光ＭＬを測定部２Ａで３つに分け、この分けられた３つの測定光ＭＬ１〜ＭＬ３を測定対象物Ｏｂの前記３つの測定点Ｐ１〜Ｐ３にそれぞれ照射し、それら３つの測定光ＭＬ１、ＭＬ２、ＭＬ３に対応する３つの反射光ＲＬ１、ＲＬ２、ＲＬにおいて、互いに共通な反射光ＲＬ２を用いるように、一対の反射光ＲＬ１、ＲＬ２および一対の反射光ＲＬ２、ＲＬ３を光干渉させ、この光干渉によって得られた第１および第２干渉光ＩＬ１、ＩＬ２に基づいて測定対象物Ｏｂの表面形状を求めるものである。 （もっと読む）

【課題】高精度に膜厚を測定することを可能にした膜厚測定方法及びその装置を提供する。
【解決手段】分光スペクトル情報を信号処理して膜厚を推定する膜厚測定方法において、
検量線作成用分光スペクトル情報を基底分解し、その基底に掛かる第１の係数を分光スペクトル情報の代表値として求め、第１の係数と分光スペクトル情報に対応した膜厚データとから重回帰係数を求める工程と、測定対象物の分光スペクトル情報と基底とに基づいて基底に掛かる第２の係数を求め、第２の係数と重回帰係数とに基づいて測定対象物の膜厚を推定する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】回転対称な線織面または互いに離間した複数の平面からなる被検面の傾斜角度、形状および径の大きさ等を短時間で測定可能な被検面測定装置を得る。
【解決手段】円錐レンズ３１と回折光学素子３２とからなる光偏向素子３０を配置し、測定光を照射する。光偏向素子３０に入射した測定光の一部は、参照基準面３１ｂにおいて参照光として反射され、その余は光偏向素子３０により放射状に偏向されて被検面７１の各部に垂直に照射される。被検面７１の各部から再帰反射された測定光の一部は、光偏向素子３０を経由し被検光として参照基準面３１ｂに戻る。この被検光と参照光の光路長差が低干渉光源１１からの出力光の可干渉距離以下となるように迂回路部１３における迂回距離の調整がなされ、撮像カメラ２３により撮像された干渉縞画像に基づき、被検面７１の各部の傾斜角度、形状および径の大きさが測定解析される。 （もっと読む）