光起電性素子などの対象物（６）のテクスチャー表面（４）上の角錐（３）のサイズを測定する装置であって、該装置（１）は、対象物ホルダー（１０）と、テクスチャー表面領域（２１）から反射光を得るために通常動作中に該領域（２１）上に平面波ビームを照射する光源（１２）と、通常動作中に該反射光の強度を測定する検出器（１３）と、検出器（１３）の測定値をさらに処理するための手段（１４）とを備える。

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物体の三次元モデルを構築するための走査システム及び方法であって、走査システムは走査装置（２）と走査テンプレート部材（４）とを含む。走査装置（２）は光を投影するためのエミッター（２０）と像を撮像するためのセンサー（２２）とを有し、エミッターとセンサーが使用時に相対的に固定された位置に配置される。走査テンプレート部材（４）は既知の二次元テンプレート（４２）を有する。処理手段は、データを生成して走査装置（２）と走査テンプレート（４２）との間に配置された物体（８）の三次元モデルを構築することができ、使用時に走査テンプレート（４２）に対する物体（８）の情報を生成し、この情報はエミッターによって投影光が投影される同一の像から生成される。測定は同一の基準面に対して行われる。 （もっと読む）

光学部材を備えた可動ステージの構造を複雑にすることなく、その光学部材の温度を制御できるステージ装置である。レチクル（Ｒ）を保持するレチクルステージ本体（２２）をＹ軸リニアモータ（７６Ａ，７８Ａ，７６Ｂ，７８Ｂ）を用いてレチクルベース（１６）上でＹ方向に駆動する。レチクルステージ本体（２２）の端部の光学部材支持部（２４Ｂ２）上の光学系（３２）を介して、レチクルベース（１６）上に固定された固定鏡（ＭＸ）に計測用レーザビームを照射して、レチクルステージ本体（２２）のＸ方向の位置を計測する。光学系（３２）の温度を安定化するために、光学部材支持部（２４Ｂ２）の底面に空気層（３５）を介してロッド部材（２７）を固定し、ロッド部材（２７）内に温度制御された冷媒を供給する。
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物体の空間的特性を決定するための方法には、２つ以上の界面を含む測定物体からの走査低コヒーレンス干渉信号を得ることが含まれる。走査低コヒーレンス干渉信号には、２つ以上の重なり合う低コヒーレンス干渉信号（それぞれ個々の界面に起因する）が含まれる。低コヒーレンス干渉信号に基づいて、少なくとも１つの界面の空間的特性が決定される。場合によって、決定は、低コヒーレンス干渉信号のサブセットに基づき、信号の全体に基づくのではない。あるいはまたは加えて、決定は、低コヒーレンス干渉信号を得るために用いられる干渉計の機器応答を示す場合があるテンプレートに基づくことができる。
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本発明の側面は、マイクロ電子フィーチャのアレイの対称性／非対称性を測定するための方法及び機構を提供する。本発明の一実施形態は、マイクロ電子デバイスにおける三次元構造の非対称性を測定する方法を提供する。本方法により、光は、マイクロ電子デバイスのマイクロ電子フィーチャのアレイに向けられる。光は、複数のマイクロ電子フィーチャの全長及び全幅を含むアレイの一部を照射する。アレイから散乱し戻された光は、一又はそれ以上の反射角、一又はそれ以上の波長、或いはそれらの組み合わせから成る群より選択された条件で検出される。本方法はまた、反射の余角からのデータを調べることを含む操作を実行することにより、戻り散乱光の一又はそれ以上の特性を調べることも含む。
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本発明は、
-像焦点面における物体の基本的な表面の光学フーリエ変換像を形成する手段と、
-検出手段によって提供された情報から少なくとも１つの物体の寸法的および／または構造的な特徴に関連するデータを生成する処理手段と、
を含むことを特徴とする、物体の寸法的または構造的な特徴を測定するための装置に関する。
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チェッキング方向（Ｘ）に沿って機械部品（２）、たとえば旋盤の工具の位置をチェックする方法およびシステムは、レーザビーム（７）、およびビームの中断を検出するセンサ（８）を有するオプトエレクトロニクス・デバイス（１）を使用する。チェッキング領域（１３）におけるチェックされる部品とオプトエレクトロニクス・デバイスとの間の相互変位は、チェッキング方向に垂直な方向（Ｚ）に沿った線形検査運動（３０）および検査位置（Ｐｉ；Ｐ１〜Ｐ４）を含むシーケンスに従って制御される。検査位置は、サーチされる位置（ＰＮ）へ収束するシーケンスに従って、累進的に縮小する相互間の距離（Ｄ）だけチェッキング方向に沿って離される。
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一般的に、第１の態様において、本発明の特徴は、ステージ上のアライメント・マークの箇所を決定するための方法であって、干渉計とミラーとの間の経路に沿って測定ビームを送ることであって、少なくとも干渉計またはミラーがステージ上に載置される、測定ビームを送ること、測定ビームを他のビームと組み合わせて、ステージの箇所についての情報を含む出力ビームを生成すること、出力ビームから、第１の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_１を測定すること、第１の測定軸に実質的に平行な第２の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_２を測定すること、ミラーの表面変化を異なる空間周波数に対して特徴付ける所定の情報から補正項Ψ_３を計算することであって、補正項に対する異なる空間周波数からの寄与を、異なる仕方で重み付けする、補正項Ψ_３を計算すること、第１の測定軸に平行な第３の軸に沿って、アライメント・マークの箇所を、ｘ_１、ｘ_２、および補正項に基づいて決定すること、を含む方法である。
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【課題】機械部品の存在を検出するための装置、より具体的には、長尺工具の完全性を検査するための装置を提供する。
【解決手段】工具の完全性を検査するための装置は、レーザ光線（２１）を用いる光電子検査機構（７）と、工具と光電子検査機構との間の相対的な移動を可能とする長手方向（Ｘ）に沿って移動可能な載置台（６）と、例えば送受波器（９、１０）を含む前記相対的な位置を検査するための装置と、を備えている。光電子検査機構のセンサ（２２）は、光線の遮光を検出する。この遮光時の送受波器の信号に基づき、これを既知の値と比較することによって、工具の完全性が検査される。載置台に連結された光電子検査機構の連結機構（２４）は、横方向基準面に沿って光電子検査機構を振動させることができ、この振動により感知可能な画定領域（３３）が画成される。振動はモータ（２６）により制御され、光線の遮光はセンサにより検出されて、該センサにより工具の端部が感知可能な画定領域に干渉する瞬間が示される。
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テンプレートマッチングのために有効な基準パターンを適切に効率良く抽出することのできる基準パターン抽出方法を開示する。本発明において、ウエハを撮像して得た画像情報上の観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）となり得る最大の範囲である最大視野範囲（ＯＲ＿Ａｒｅａ）内において、ユニークさが互いに異なり、かつ、その最大視野範囲（ＯＲ＿Ａｒｅａ）内に任意に配置される観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）内においてもユニークであると認識されるユニークなパターンを複数抽出する。そして、抽出されたユニークなパターンの全てを、観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）が取り得る範囲とは無関係に、基準パターン（テンプレート）として設定する。各ユニークパターンは、各々がユニークなパターンであるエレメント、又は、ほぼユニークなパターンであるエレメントの組み合わせにより表される。
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パターン化と非パターン化ウェハの検査システムを提供する。１つのシステムは、検体を照明するように構成された照明システムを含む。システムは、検体から散乱された光を集光するように構成された集光器をも含む。加えて、システムは、光の異なる部分に関する方位と極角情報が保存されるように、光の異なる部分を個別に検出するように構成されたセグメント化された検出器を含む。検出器は、光の異なる部分を表す信号を生成するように構成されていてもよい。システムは、信号から検体上の欠陥を検出するように構成されたプロセッサを含むこともできる。他の実施形態におけるシステムは、検体を回転・並進させるように構成されたステージを含むことができる。１つの当該実施形態におけるシステムは、検体の回転および並進時に、広い走査パスで検体を走査するように構成された照明システムを含むこともできる。
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【課題】光学検査ツールによって与えられるヘイズデータを分析する方法および装置を提供する。
【解決手段】ヘイズデータは、試料表面に関連付けられた欠陥を検出するよう分析される。一般に、ヘイズデータは、試料上の低い周波数のバラツキに対応するバックグラウンドノイズが、そのようなヘイズデータの分析の前にヘイズデータから分離または除去されるよう、まず条件付けられる。具体的な実施形態において、試料表面における低い周波数のバラツキは、実質的には、入射ビームがその上に導かれる光学表面として特徴付けられる。ある例では、試料表面に対応するヘイズデータは、ゼルニケ方程式のような多項式で特徴付けられる。換言すれば、多項式方程式は、ヘイズデータの低い周波数の、つまりバックグラウンドのノイズにあてはめられる。この結果として生じる多項式方程式に合致するヘイズデータは、それから元のヘイズデータから引かれて、残差データを作り、ここで表面粗さにおける遅いバラツキが差し引かれ、残差ヘイズデータ中には可能な欠陥情報を残す。この残差ヘイズデータは、試料が欠陥を含むかを決定するために分析されえる。残差データを分析することによって欠陥の検出を向上させる技術も開示される。好ましくは、異なる検査ツール間で正規化されるように、結果として生じる残差データを較正する技術も提供される。 （もっと読む）

【解決手段】 対象物のデジタル画像は、隠され、遮られ、又は視認できない対象物の部分の表示を含んでいる。画像は、歯群の多次元の視覚的表示である。歯群とその表面、輪郭及び形状の特性が判定及び／又は分析される。光は、歯群に向けて送られ、そこから反射される。反射光は基準光と組み合わせられ、歯肉下組織のような隠された領域を含む歯群の特性が判定される。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の存在だけでなく試料表面の凹凸形状をに検出できる光分解能の光学式走査装置を実現する。
【解決手段】 光源１から試料４に向かう光ビームと試料から光検出器６に向かう反射ビームとを分離するビームスプリッタ２と、試料と光スポットとを相対的に移動させる手段とを具え、試料表面を光スポットにより走査し、試料表面からの反射光により試料の表面領域の情報を検出する光学式走査装置において、ビームスプリッタと光検出器との間の光路中に遮光板を配置し、試料表面における光スポットの走査方向と対応する方向の片側半分の光路を遮光する。遮光板を光路中に配置することにより、試料表面に欠陥の要因となる微小な傾斜面存在する場合、反射の法則により光スポットからの反射光は光軸から変位するので、遮光板により遮光される光量が変化する。この結果、光検出器からの出力信号により凸状欠陥及び凹状欠陥を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】 被写体の視覚情報である２次元画像情報と赤外線により被写体の距離情報である３次元画像情報を検出する３次元画像検出装置において、各検出を迅速かつ常に合焦された状態で行う。
【解決手段】 ＣＣＤの色分離フィルタＦに赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各波長を中心にした狭い帯域のみに分光透過率特性をもつバンドフィルタと赤外領域のみに分光透過率特性をもつバンドフィルタを用いる。ＲＧＢの色フィルタが設けられた画素に対してコントラスト方式の焦点調節を行う。２次元画像情報を検出後、メモリ２４に記録されたデータに基づいて、レンズ駆動回路２７を駆動し光学系の焦点面を所定距離移動させる。赤外線レーザをレーザダイオード１４ａから照射して３次元画像情報として検出する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ光を対象物上にスキャンして三次元形状データを得るには、そのスキャンにかなりの時間がかかりその間対象物が静止している必要があり、人物などの三次元形状データを得るのは、難しいという問題があった。
【解決手段】 データ入力部１０において、カメラを用い対象物の複数の画像を得る。この画像に基づいて、モデリング部１２において、色彩データを含む三次元形状データを得る。この三次元形状データに基づいて成形部１４において実立体モデルを成形する。これは切削や成形型による成形によって行われる。そして、色づけ部１６により、色彩データに基づいて、実立体モデルに対し色づけが行われる。 （もっと読む）

【課題】透明膜の段差の測定方法に関し、非接触、非破壊で且つ簡単な操作で高速、高精度に位相シフターの段差を測定すること。
【解決手段】第１の透明膜１の一部に形成された複数の第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n の段差量ｔ₁ ，…．ｔ_n と該第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n からの反射光の偏光状態を示すパラメータの値との相関関係ｆ₁ を求めてデータベース化した後に、第２の透明膜４２の一部に形成された第２の溝４５の反射光の偏光状態を示すパラメータの第１の値を計測して、該第１の値と前記データベースの前記相関関係に基づいて該第２の溝４５の第１の段差量を求める工程を含む。 （もっと読む）

【目的】 被測定物の種類、あるいは塗料の種類によらず、常に一定のレーザー光を用いて、被測定物上に塗布された塗膜厚さを、その乾燥・硬化前の状態で、非接触でしかも極めて高精度に、測定しうる簡易な手段を提供する。
【解決手段】 塗装膜厚の測定方法を、塗装前の状態において基準面から被塗装体までの距離をレーザー変位計により測定する被塗装体表面位置測定段階と、塗装後の状態において他の基準面から塗面までの距離をレーザー変位計により測定する塗膜面位置測定段階と、前記被塗装体表面位置測定段階により測定された距離と前記塗膜面位置測定段階により測定された距離との差に基づき塗膜の厚さを算出する塗膜厚算出段階とを有するものとする。 （もっと読む）