【課題】カメラの撮像方向の変化応じて、時空間画像の検出ラインの位置を補正する。
【解決手段】
車両に搭載され、車両の周囲の所定領域を所定の撮像方向で撮像するカメラ１と、所定領域に予め設定された検出ライン上の画像データの経時的変化に基づいて、車両の周囲の障害物を検出する障害物検出ユニット２とを有し、障害物検出ユニット２は、障害物検出時のカメラ１の撮像方向を取得し、この取得した撮像方向と初期設定時におけるカメラ１の撮像方向とからカメラ１の撮像方向のずれ量を算出し、算出した撮像方向のずれ量に基づいて検出ラインの設定位置を補正する検出ライン補正装置２２を有する。 （もっと読む）

対象物の画像化のシステムと方法。
検出器アレイの画像が画像面に配設される。検出器の各アレイは内挿部を有しているタイミング回路に接続され内装器はそれが放電する時とは異なった速度で第１のキャパシタを充電する第１の回路を含む。光パルスは対処物の方に送られるので光パルスの一部分は反射パルスとして対象物から反射され光パルスがいつ対象物へ送られたかを示す第１の値が記録される。反射されたパルスは１またはそれ以上の検出器で検出されそのパルスのパルス特性とその反射パルスが検出器にいつ到達したかを表わす第２の値とが記録される。対象物との範囲はその後第１及び第２の値と反射されたパルス特性の関数として計算される。 （もっと読む）

【課題】検査対象の表面特性によるノイズから生じる測定精度の劣化を回避できる光学的測定方法及び光学的測定装置を提供する。
【解決手段】検査対象ＧＬに光を照射し、検査対象ＧＬから得られる光を受光して最終的に２次元的な光強度信号Ｓ１に変換し、光強度信号Ｓ１のなかから、表面状態ＩＢを測定するに際して必要な信号である注目信号ＳＢと表面状態を測定するに際して不要な信号であるノイズ信号ＳＮとを分離することにより注目信号ＳＢのみを抽出し、抽出された注目信号ＳＢと所定の閾値Ｔ１とを比較する。実質上、光強度信号Ｓ１とノイズ信号ＳＮに追随した閾値とを比較していることになり、検査対象の表面特性によるノイズから生じる測定精度の劣化を回避できる。 （もっと読む）

【課題】 ホルダーのピストンの傾斜などの諸測定量を光学式距離計を用いて、安全、連続かつ精度よく測定できるピストンの傾斜測定装置を提供し得ること。
【解決手段】 危険場所であるホルダーにおいて、距離計８をホルダー上部に、好ましくは反射シート１０をピストン面に設置し、距離計の測定値を安全場所に設置している演算装置に伝送する。演算装置では、ピストン面の傾斜を測定すると共に、必要に応じて移動速度、移動距離、距離計良否判定などを実施し、左記諸量の表示、保存、他設備への伝送を行うことができるようにすること。 （もっと読む）

【課題】
電気設備の汚損・不良箇所とその程度を定量的に判定できるようにする。
【解決手段】
点検対象の電気設備１２を紫外線カメラ１４と可視カメラにより、同一光軸かつ同一画角で撮影する。画像解析装置３０は、紫外線映像から時系列に複数のフレームを抽出し、各フレーム上で同一紫外線発生源からの紫外線像を検出する。各フレームの当該紫外線像を同一画面上で積算し、積算紫外線像を隣接するもの毎にグループ化する。積算紫外線像の各グループから所定強度未満の部分を除去した後、積算紫外線像の各グループのサイズを算出する。算出されたサイズを基準距離でのサイズに標準化する。判定装置３２は、標準化されたサイズを、電気設備のある場所の天候に応じた判定閾値と比較する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は高精度に可動されるステージの位置及び傾きを正確に検出することを課題とする。
【解決手段】 透過型検出装置２２は、第１ステージ１４の移動方向に延在形成された透明体角度格子３０と、透明体角度格子３０を垂直状態に保持する透明基板３２と、透明体角度格子３０に向けて複数の平行光を発光する発光部３４と、透明体角度格子３０を透過した複数の平行光を受光する受光部３６とを有する。受光部３６には９個のフォトダイオードが配置され、透明体角度格子３０を透過した複数の平行光の受光強度分布を検出する。そして、受光部３６で検出された強度分布の変化から固定側の透明体角度格子３０に対する発光部３４の位置及び傾き角度を検出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 合焦面を測定断面とし、測定対象の相対移動の結果、測定断面により測定対象を走査して、複数の測定断面の画像から合焦度に基づき輪郭線を順次抽出し、測定対象の三次元形状を測定する方法において、測定対象の相対移動方向が撮像レンズ系の光軸に垂直もしくは交差する方向に設定でき、測定対象の大きさと移動方向の設定の自由度が大きい測定法を得る。
【解決手段】 撮像レンズ系を両側テレセントリック光学系として構成し、撮像レンズ系の光軸に対して斜めに設定した測定断面ＡＢが合焦面となるように二次元撮像素子３の受光面ａｂを撮像レンズ系の光軸に対し斜めに設定し、撮像レンズ系の光軸に対し垂直もしくは交差する方向に測定対象１を相対移動させることにより測定断面ＡＢにより測定対象１を走査して、複数の測定断面の画像の合焦度比較により最大合焦度の画素を検出する。 （もっと読む）

【課題】
画像処理装置において、広い範囲にある対象物に対して、屋外や強い照明下においても安定して形状復元する。
【解決手段】
画像処理装置において、画像入力手段１ａが時系列的に入力した画像上の特徴的な点の位置関係の変化を第１の計算手段１ｂが抽出する。位置関係の変化から特徴的な点の三次元位置と画像を捉えた際の視点の位置と方向を第２の計算手段１ｃが計算する。入力した画像と特徴的な点の三次元位置とから画像に捉えられている物体の三次元形状データを第３の計算手段が計算する。 （もっと読む）

一実施形態は、データ入力デバイスとある表面（304）との間の相対的な動作を、該表面での連続するフレーム内における光学的な特徴の変位を判定することによって感知するための光学変位センサに関する。前記センサは、少なくとも検出器、第１の回路構成、及び第２の回路構成を含む。前記検出器は、第１及び第２のアレイ（例えば1502及び1504）に編成された複数の感光素子を含む。前記第１の回路構成は、前記第１のアレイのＭ番目毎の素子からの信号を組み合わせて、Ｍグループ信号を生成するよう構成され、前記第２の回路構成は、前記第２のアレイのＭ’番目毎の素子からの信号を組み合わせて、Ｍ’グループ信号を生成するよう構成される。前記ＭとＭ’とは、互いに異なる数である。他の実施形態もまた開示した。
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試験物体に対する走査干渉データが得られる走査干渉法および関連するシステムについて説明する。データには通常、複数の走査位置のそれぞれに対して試験物体の異なる空間箇所のそれぞれに対する強度値が含まれる。各空間箇所に対する強度値によって通常、空間箇所に対する干渉信号が規定される。共通の走査位置に対する強度値によって通常、その走査位置に対するデータ・セットが規定される。各走査位置に対する走査値を得る。一般に、種々の走査値間の走査値増分は非一様である（たとえば、異なっている）。走査干渉データおよび走査値に基づいて、試験物体についての情報を決定する。通常、この決定には、干渉信号の少なくとも一部を、走査値に関して周波数ドメインに変換することが含まれる。
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【課題】
【解決手段】本発明は、オーバレイマークと、オーバレイ誤差を決定する方法とに関する。本発明の一態様は、連続的に変化するオフセットマークに関する。連続的に変化するオフセットマークは、位置の関数として変化するオフセットを有する周期構造を重ね合わせた１つのマークである。例えば、周期構造は、ピッチなどの格子特性に関する値が異なる格子に対応してよい。本発明の別の態様は、連続的に変化するオフセットマークからオーバレイ誤差を決定する方法に関する。その方法は、一般に、連続的に変化するオフセットマークの対称中心を決定する工程と、それをマークの幾何学的中心と比較する工程と、を備える。オーバレイがゼロである場合には、対称中心は、マークの幾何学的中心と一致する傾向がある。オーバレイがゼロでない場合（例えば、２つの層間にずれがある場合）には、対称中心は、マークの幾何学的中心からずれる。その位置ずれを、連続的に変化するマークの予め設定されたゲインと組み合わせて用いることで、オーバレイ誤差を算出する。 （もっと読む）

本発明は、偏向器システムにおいて任意の形状のパターンの座標を決定するための方法に関する。この方法は、基本的に、前記パターンを第１の方向Ｘへと移動させる工程と、前記パターンのエッジの位置の計算を、垂直な方向Ｙに実行されるマイクロ・スイープの数を前記エッジが検出されるまでカウントすることによって行う工程と、前記座標の決定を、カウントされたマイクロ・スイープの数を前記パターンの前記移動の速さに関係付けることによって行う工程とを含む。また、本発明は、この方法を実装するソフトウェアに関する。
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【課題】 イン・ラインの測定および制御ツール、テスト・パターンおよび評価方法を含む統合された測定システムを提供する。
【解決手段】 基板上で寸法を測定するための方法を記載する。ターゲット・パターンは、主周期ピッチＰで反復する公称特徴寸法を備え、主方向に直交する所定の変動を有する。基板上に形成されたターゲット・パターンは、少なくとも１つの非ゼロ次回折が検出されるように照射する。公称寸法に対する転写された特徴寸法の変動に対する非ゼロ次回折の応答を用いて、基板上で限界寸法またはオーバーレイ等の対象の寸法を求める。本発明の方法を実行するための装置は、照射源と、非ゼロ次回折を検出するための検出器と、ターゲットからの１つ以上の非ゼロ次回折を検出器において検出するようにターゲットに対して照射源を位置付けるための手段と、を含む。 （もっと読む）

３次元モデル記憶手段（１７０）は、対象物体の３次元形状データおよび照明基底データを予め記憶する。比較画像生成手段（１１０）は、３次元形状データおよび照明基底データにもとづいて、入力画像と同じ照明条件の下で、現時点での推定値の位置／姿勢に対象物体がある再現画像を比較画像として生成する。画像変位分布検出手段（１２０）は、比較画像を部分画像（小領域）に分割し、小領域ごとに比較画像と入力画像との画像変位分布を検出する。姿勢差分検出手段（１３０）は、画像変位分布および３次元形状データにもとづいて位置姿勢差分値を算出する。そして、終了判定手段（１４０）は、位置姿勢差分値が所定の閾値より小さいと判断した場合に、現在の位置姿勢推定値を最適位置姿勢推定値（１３）として出力する。これにより、画像に含まれる物体の位置や姿勢を高速に推定できるようになる。 （もっと読む）

一態様において、本発明は方法に特徴があり、その方法は、干渉分光法システムにおける干渉計を用いて、第１ビーム経路と第２ビーム経路との間の光路差に関係づけられる位相を含む出力ビームを生成することであって、第１ビームは第１の箇所における測定物体に接触し、第１ビームまたは第２ビームは第２の箇所における測定物体に接触し、第１の箇所および第２の箇所は異なる、出力ビームを生成すること、第１の箇所における測定物体の不完全性に起因し、かつ第２の箇所における測定物体の不完全性に起因するずれであって、第１ビーム経路または第２ビーム経路の公称ビーム経路からのずれによって生じる光路差への影響に対処する事前校正済み情報を提供すること、出力ビームから得られる情報および事前校正済み情報に基づいて、少なくとも１つの自由度について測定物体の位置を決定すること、を含む。
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【課題】 ビームの光量データを関数によって表現することでビームのプロファイルを高解像で検出するとともに、複数のビームが重畳している状態でも個々のビームのプロファイルを検証することが可能なビームプロファイル検証方法を提供する。
【解決手段】 画像形成装置の書込み光学系によって出射されるビームを受光する受光工程と、受光されたビームのビーム情報を格納するビーム情報格納工程と、格納されたビーム情報をビームの光量の分布を表す光量データ４１に処理するとともに、光量データ４１を近似する関数を光量データ４１に収束するように関数を処理するビーム情報処理工程と、ビーム情報処理工程によって処理されることで光量データ４１に収束した関数に基づいてビームのプロファイルを検出するビーム情報検出工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 圧接時の端子の拡開量が正確に精度よく測定できるようにする。
【解決手段】 電線５０が端子４０に当接する際の衝撃による幅方向の移動量をｗとし、端子４０の左右の側壁４２_R 、４２_L の正味の拡開量をＸ_R 、Ｘ_Lとすれば、各側壁４２_R 、４２_L の変位の測定値は（Ｘ_R −ｗ）、（Ｘ_L ＋ｗ）となり、それらを加算した値（Ｘ_R ＋Ｘ_L ）は、各側壁４２_R 、４２_L の変位を単独に測定した際に含まれる端子の移動量ｗが相殺された端子４０全体の正味の拡開量となる。また、各側壁の正味の拡開量Ｘ_R 、Ｘ_L がおおよそ等しいと仮定した場合の変位量の差から端子の移動量ｗが求まるので、それで圧接の良否を判定することもできる。良品の場合はこの移動量ｗが小さいものとなる。圧接を行う前にレーザ変位センサ５_R 、５_L の測定目盛りの初期化を行って、端子製作上の公差を取り込まないようにして測定精度を高める。 （もっと読む）

【課題】透明膜の段差の測定方法に関し、非接触、非破壊で且つ簡単な操作で高速、高精度に位相シフターの段差を測定すること。
【解決手段】第１の透明膜１の一部に形成された複数の第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n の段差量ｔ₁ ，…．ｔ_n と該第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n からの反射光の偏光状態を示すパラメータの値との相関関係ｆ₁ を求めてデータベース化した後に、第２の透明膜４２の一部に形成された第２の溝４５の反射光の偏光状態を示すパラメータの第１の値を計測して、該第１の値と前記データベースの前記相関関係に基づいて該第２の溝４５の第１の段差量を求める工程を含む。 （もっと読む）

高周波成分をＳ₁＝ｃｏｓ（ω・ｔ）と理想化できる変調された周期的波形を有する光エネルギーを放射してターゲットを照射することにより、距離及び／または輝度を測る、好ましくはＣＭＯＳで実施可能な方法とシステム。放射された光エネルギーの一部分は、ターゲットにより反射され、複数の半導体光検出器のうち少なくとも一つにより検出される。光検出器の量子効率は、検出した信号を処理してターゲットと光検出器を隔てる距離ｚに比例するデータを作り出すために変調されている。検出は、放射された光エネルギーと反射された光エネルギーの一部分の間の位相変化の測定することを含む。量子効率は固定位相法または可変位相法により変調でき、高められた光電荷収集、差動変調、空間的マルチプレクシング及び時間的マルチプレクシングを用いて高めることができる。光検出器の容量と動作周波数において共振するインダクターを使って、本システムの必要電力条件を削減することもできる。本システムはチップ上の光検出器、関連エレクトロニクス、処理を含む。 （もっと読む）