【課題】基板に影響を及ぼす可能性が高い塗布ムラの有無を効率的に判定することができる塗布ムラ検査装置を提供する。
【解決手段】第１の端部から第２の端部へ向かって塗布材料が塗布された基板における塗布ムラを検査する塗布ムラ検査装置４０は、干渉現象を利用して得られた基板の画像を取得する取得手段４３１と、基板の画像から、基板の第１の端部から所定距離離れた所定領域に対応する検査画像を抽出する抽出手段４３２と、検査画像を塗布材料の塗布方向へと投影することによって投影データを取得する投影手段４３３と、投影データが所定の条件を満たすか否かを判定する判定手段４３６Ａ（４３６Ｂ）とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの一面に存在する凸状の欠陥と凹状の欠陥とを区別して、それぞれの欠陥のサイズを正確に測定することが可能な半導体ウェーハの検査方法を提供する。
【解決手段】シリコンウェーハ１１の一面１１ａが平坦であれば、２つの偏光ビームＢ１，Ｂ２の間に位相差は生じない。しかし、シリコンウェーハ１１の一面１１ａに突起３１が存在すると、この突起３１に入射した偏光ビームＢ１は、偏光ビームＢ２に対して−Δｔの位相差が生じる。一方、シリコンウェーハ１１の一面１１ａに凹み３２が存在すると、この突起３１に入射した偏光ビームＢ１は、偏光ビームＢ２に対して＋Δｔの位相差が生じる。 （もっと読む）

【課題】干渉縞画像および表面画像のコントラストの向上を図る。
【解決手段】被検レンズ１０の被検面１０Ａに照射する照明光を発する光源１７と、主光路５上に配置され、照明光の一部を反射する参照面１１Ａを有する参照レンズ３７と、光源１７から発せられ、参照面１１Ａにより反射された参照面反射光と、参照面１１Ａを透過して被検レンズ１０の被検面１０Ａにより反射され、参照面反射光に対して可干渉距離以下の光路差を有する被検面反射光とによって得られる画像を取得する撮像素子と、撮像素子により取得された画像を処理する画像処理部４３とを備え、該画像処理部４３が、参照面反射光のみからなる第１の光量分布を記憶する記憶部４２と、参照面反射光と被検面反射光から得られる第２の光量分布から、記憶部４２に記憶されている第１の光量分布を減算する演算部４４とを有する表面検査装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の透過波面の測定と欠陥の測定とを同時に行えるようにする。
【解決手段】比較対象としての基準レンズ６を透過した光束と、測定対象としての被検レンズ７を透過した光束とを干渉させ、発生する干渉縞５０から被検レンズ７の収差量を測定する装置１を用いて、同時に被検レンズ７の欠陥を測定する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成の受光光学系であって、光ＮＡ化が可能な受光光学系を有する欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】 ロッドレンズ５に入射した散乱光は、ロッドレンズ５の側面５ｃで全反射を繰り返しながら、第１の表面５ａと反対側にある第２の表面５ｂに導かれ、第２の表面５ｂからロッドレンズ５の外部に放出されて、受光素子６により受光される。ロッドレンズ５は、その両端面が第１の表面５ａ、第２の表面５ｂとなっている。第１の表面５ａ、第２の表面５ｂは通常、平面である。そして、第１の表面５ａの面積Ｓ１の方が、第２の表面５ｂの面積Ｓ２よりも大きくされている。よって、広い面積を有する第１の表面５ａで受光を行うので、大きなＮＡを持たせることができる。 （もっと読む）

【課題】蛍光性の汚染物質マーカーを利用して機械部品の汚染を光学的に監視するシステムを提供する。
【解決手段】システムは、汚染物質マーカーが少なくとも１つの蛍光発光周波数を発するように構成された、少なくとも１つの照射周波数を発するように構成されると共に、少なくとも部分的に汚染されると汚染物質マーカーを含む、機械部品を少なくとも部分的に照射するように構成された、照明光源（１１４）と、少なくとも１つの蛍光発光周波数に反応すると共に、汚染された機械部品から発する少なくとも１つの蛍光発光周波数を検出するように構成された、光検出器（１１８）と、光検出器と動作連通しており、光検出器から信号を受信するように構成されると共に、光検出器からの信号の関数として機械部品の汚染を推定するように構成された、分析モジュール（１２０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 太陽電池に順方向の電流を流してＥＬ発光させる検査装置であって、構造が簡単で安価な暗室を備えた太陽電池の検査装置を提供する。
【解決手段】 平らな上面１１１を備えた暗室１１０と、該暗室１１０の上面に設けられ、被測定物２００となる太陽電池を載せる透明板１１２と、前記暗室１１０の内部に設けられ透明板に対して傾斜して設けられた反射板１４０と、カメラ１２０と、該カメラを前記暗室内で移動する移動機構１３０とを有する。 （もっと読む）

【課題】被検査体のコーティングを精度よく検査する。
【解決手段】コーティング検査装置１０は、紫外光を受けた基板１のコーティングからの蛍光を受光して紫外光画像を生成し、可視光を受けた基板１からの反射光を受光して可視光画像を生成する。コーティング検査装置１０は、可視光画像に基づいて基板１の位置を特定し、生成した画像のうち少なくとも紫外光画像とに基づいて基板１のコーティングを検査する。特定された基板１の位置を用いて被検査画像の位置を補正したうえでコーティングを検査してもよい。 （もっと読む）

【課題】フィゾー型干渉計を用いた装置を用いて、微小径略半球レンズの面精度測定とレンズ表面の欠陥観察とを高精度に行うことの可能な面精度測定及び表面欠陥観察装置、並びに面精度測定及び表面欠陥観察方法を提供する。
【解決手段】フィゾー型の干渉計光学系を用いた、被検レンズ７の被検面の面精度測定と被検面の欠陥観察をする装置である。被検レンズ７の位置調整に際し、被検レンズ７の位置を確認可能に構成された第一の光束制御板８_１と、中心に開口部８_２ａ、周囲に遮蔽部８_２ｂを有する第二の光束制御板８_２と、中心に遮蔽部８_３ａ、周囲に開口部８_３ｂを有する第三の光束制御板８_３とを有し、これらの光束制御板のうち所望の光束制御板を干渉計光学系の参照面５ａからの反射光の集光点Ｐ_１を含む干渉計光学系の光軸Ｚ_１に対して垂直な仮想平面上に挿脱可能な光束制御手段８を備える。 （もっと読む）

【課題】透明体の不良について、より明瞭に検査できる透明体検査装置、透明体検査方法、および透明体検査システムを提供する。
【解決手段】普通人が視認すると透明に見える透明体を検査する透明体検査装置に、前記透明体に含有されている蛍光成分を発光させる所定波長の照明光を照射する照明手段と、該照射を受けて発光している前記透明体を撮影して撮影画像を取得する撮影手段と、該撮影画像に基づいて前記透明体に不良がないか判定する判定手段とを備えた。 （もっと読む）

【課題】複数の標本の時間的な変化を簡単に比較することができるようにする。
【解決手段】培養観察装置には、所定の容器の観察位置の細胞を所定の時間間隔で撮像して得られた観察画像群が複数記録されている。ユーザにより、これらの観察画像群のうちのいくつかが選択されると、培養観察装置には、マルチポイント表示画面３３１が表示される。マルチポイント表示画面３３１には、観察画像群が表示される表示領域３４１が複数並べられて設けられており、この表示領域３４１のそれぞれに、選択された観察画像群の観察画像のそれぞれが時系列で順番に表示される。本発明は、細胞培養観察装置に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】被検査体のコーティングを精度よく検査する。
【解決手段】コーティング検査装置１０は、紫外光を受けた基板１のコーティングを受けた被検査体からの蛍光を受光して、各々が異なる色成分に分解された複数の画像を生成する。コーティング検査装置１０は、生成した画像のうち少なくとも１つに基づいて基板１のコーティングを検査する。コーティング検査装置１０は、検査区域ごとに、色分解された複数の画像のいずれかを選択して検査してもよい。 （もっと読む）

親水性（例：無機）被覆を有する物質における表面欠陥を検出するために、親油性蛍光物質を使用することができる。記載の方法を使用することで、表面欠陥が蛍光を発するように見え、その一方、残りの表面は標識化されない。開示された方法は、既存のアプローチに代わる安価、迅速、かつ簡単な代替策である。

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【課題】半導体基板内に存在する欠陥を、容易に、効率よく、かつ、高感度に検出する。
【解決手段】側面の一部に切欠を有する中空の保持部１２に、搬送部によって半導体基板１１が配置された搬送板に連接させたアーム部を下降させて、アーム部が保持部１２の切欠を通過して、保持部１２に半導体基板１１を裏側から保持させる。そして、照射部１３によって、半導体基板１１の裏面に光１３ａが照射され、検出部１７によって、半導体基板１１の裏面から発せられる光１３ｂが検出され、測定部によって光１３ｂの強度が測定される。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素半導体よりなる半導体装置の積層欠陥の有無を短時間で検査する方法の提供。
【解決手段】炭化珪素半導体からなる半導体ウェハー（ＳｉＣウェハー）９に、この炭化珪素半導体のバンドギャップよりも大きなエネルギーを有するレーザー光２を照射する。そのレーザー照射によって半導体ウェハーから放射された光６を波長選択手段（分光器）４により分光し、特定波長の光の強度を測定手段（光電子倍増管）５により観測する。測定した光強度に基づいて半導体装置の特性劣化を判定する。 （もっと読む）

【課題】特別に熟練した技術がなくても、ワニスの含浸状態の良否を精度よく判定することができるワニス含浸検査装置及びワニス含浸検査方法を提供すること。
【解決手段】ワニス含浸検査装置１は、紫外線光源３１と、カメラ２と、カメラ２へ導かれる紫外線Ｕをカットする紫外線カットフィルタ２１と、紫外線カットフィルタ２１を透過してカメラ２に映った画像Ｃを２値化画像Ｐに変換する画像処理手段４と、２値化画像Ｐに基づいてスロット７２内におけるワニスの含浸状態の良否を判定する判定手段５とを有している。画像処理手段４は、ワニスが発光する光が映った画素を含む第１画素と、ワニスが発光する光が映っていない画素を含む第２画素との２値化画像Ｐを形成するよう構成してある。 （もっと読む）

【課題】製造した透明基板の板厚のむらを容易に確認できるようにする透明基板の検査方法を提供する。
【解決手段】板厚分布の状況が既知である第一の透明基板と、検査対象となる第二の透明基板とを準備し、第一の透明基板と第二の透明基板の平均板厚の差を５０μｍ以内とする。第一の基板と第二の基板の基板間隙を０．１ｍｍ以上とする。ピーク輝度に対する半値幅が５ｎｍ以上である光を照射する。第一の透明基板および第二の透明基板を通過する光の干渉強度分布によって、第二の透明基板の板厚分布の程度を判断する。 （もっと読む）

【課題】エラーとなり得る情報記録媒体の表面の欠陥を精度良く検出可能な表面欠陥検査方法および表面欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】表面欠陥検査装置１の微分干渉顕微鏡３とＣＣＤカメラ４で検査対象物Ｍの情報記録媒体表面の微分干渉画像を撮像する。画像処理装置５では、この微分干渉画像に対して欠陥を含むレファレンスサンプルの画像例に基づく欠陥候補スライスレベルを設定し、微分干渉画像から欠陥候補を選定する。そして、選別された各欠陥候補に対して、その面積がエラーとなる最小サイズの欠陥の面積に基づく欠陥面積判定値以上のものを真にエラーに対応する欠陥として抽出する。 （もっと読む）

【課題】微細な割れや歪みを容易に検出できるマスク検査方法及びマスク検査装置並びに電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】マスク１とガラス基板１２とを間隙を介して対向配置し、ガラス基板１２を透過させてマスク１に単色光を照射する工程と、マスク１とガラス基板１２との間に形成された干渉縞パターンに基づいてマスク１の良否を判別する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】撮像ごとに発生するノイズを除去できる検査装置を提供する。
【解決手段】検査システム１４は、ステージ３００に積載されている基板３０に光を照射するライト４６と、基板３０からの反射光を撮像するラインセンサ４８と、検査装置４０と、ディスプレイ装置５０とを備える。検査装置４０は、受信部４１と、記憶部４２と、判定部４３と、出力部４４と、入力部４５とを含む。判定部４３は、複数の領域の各画像を投影することにより１次元の投影データをそれぞれ算出し、各投影データを差分することにより差分プロファイルを算出し、差分プロファイルから強度のピークを検出し、当該ピークの値に基づいて基板３０に形成された薄膜のムラを判定する。 （もっと読む）