【課題】検査感度を向上させることができるパターン検査装置、パターン検査方法、およびパターンを有する構造体を提供する。
【解決手段】本実施形態によれば、被検査体に形成されたパターンの光学画像に基づいて第１の検出データを作成する第１の検出データ作成部と、前記パターンに関する第１の参照データを作成する第１の参照データ作成部と、前記第１の参照データの出力レベルが前記第１の検出データの出力レベルに対応したものとなるように出力レベルの変換を行う第１の階調変換部と、前記第１の検出データと、前記出力レベルの変換が行われた前記第１の参照データと、の差を演算する第３のレベル差演算部と、前記第３のレベル差演算部による演算結果に基づいて、欠陥の有無を判定する第５の判定部と、を備えたことを特徴とするパターン検査装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】物体の外観異常を容易に検査する。
【解決手段】外観検査装置１は、物体１０の画像を取得する画像取得部２と、画像に二値化処理を施して二値化画像を取得する二値化部３ａと、二値化画像に基づき物体１０の外観異常の有無を判定する異常判定部３ｂと、を備えている。異常判定部３ｃは、二値化画像におけるＸ方向に並ぶ複数の画素ごとにおいてＸ方向存在量とＸ方向変化量とをそれぞれ算出すると共に、二値化画像におけるＹ方向に並ぶ複数の画素ごとにおいてＹ方向存在量とＹ方向変化量とをそれぞれ算出し、そして、複数のＸ方向存在量の総和、複数のＸ方向変化量の総和、複数のＹ方向存在量の総和、及び複数のＹ方向変化量の総和のそれぞれが、予め設定されたＸ方向存在量基準値、Ｘ方向変化量基準値、Ｙ方向存在量基準値、及びＹ方向変化量基準値のそれぞれに対し不一致の場合、外観異常が有ると判定する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ上に形成されたチップ内の直接周辺回路部の近辺に存在する致命欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置及びその方法を提供する。
【解決手段】被検査対象物を所定の光学条件で照射する照明光学系と、被検査対象物からの散乱光を所定の検出条件で検出して画像データを取得する検出光学系とを備えた欠陥検査装置において、前記検出光学系で取得される光学条件若しくは画像データ取得条件が異なる複数の画像データから領域毎に複数の異なる欠陥判定を行い，結果を統合して欠陥候補を検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】脆弱な堆積膜厚さをリアルタイムで確認できるとともに、指示模様状態と作業の対応状況を証拠として記録保存できる、脆弱な堆積膜厚の確認ラベルを提供する。
【解決手段】表面に作業記録記入欄１４が形成され、裏面に再剥離を可能とする第１粘着剤層が形成されたラベル本体３と、裏面に再剥離を可能とする第２粘着剤層が形成され、ラベル本体に着脱自在に接着されてラベル本体の作業記録記入欄を被覆するカバーシール５を備えている。ラベル本体は、表面にグラデ−ションパターン１５が形成され、グラデ−ションパターン欄は明度差変化によって形成される濃淡勾配をもち、グラデーションパターン欄の濃淡勾配の勾配位置を段階的に表示する基準表示部１７をグラデ−ションパターン欄に複数個設け、基準表示部の段階を表示する識別符号１８を基準表示部に付している。 （もっと読む）

【課題】セラミックデバイス等の構造体の内部に設けられた閉空間と外部空間との連通の有無を、簡便な手法にて判定できる手法を提供する。
【解決手段】拡散透過能を有するとともに外部から視認不能な閉空間を内部に有する構造体の外面に、欠陥に対する含浸能を有するとともに構造体とは異なる色を呈する浸透性液体を付着させた後、外面に付着した余剰の浸透性液体を除去したうえで、構造体に照明光を照射した状態で構造体の透過像の観察を行う。該観察によって特定される、閉空間の形成領域に対応する部分である閉空間対応部分における呈色状態に基づいて、構造体における、外部空間と前記閉空間とを連通させる連通欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】簡単な操作により部品の外観上の特徴に応じたライブラリデータを作成する。
【解決手段】ＣＡＤデータに基づき、基板上の同一の型式の部品の１つを代表部品として選択して、代表部品を含む範囲のモデル画像が表示された画面を立ち上げる。この画面には、部品種アイコンのリストの表示欄１０２が設けられており、代表部品に対応する部品種を選択すると、隣の表示欄１０８に、選択された部品種に属するサブ部品種のサンプル画像が表示される。ユーザがサンプル画像を選択する操作と、画像表示領域１００内の部品本体領域Ｗを代表部品に合わせる操作とを行うと、選択中のサブ部品種の設定ルールに基づく検査領域が代表部品に設定され、表示される。この表示に対する確定操作に応じて、表示された検査領域に適合するように基本ライブラリデータの設定ルールを修正したものを、選択中のサブ部品種の下位のバリエーションとして登録する。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の検出、過検出を防止して、正確に良否判定を行うことができる欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】 正反射光のため及び乱反射光などのための複数の光学系から入力された撮像画像を画像処理装置によって処理し、各撮像画像より明暗検出で、抽出された欠陥候補及び欠陥候補特徴量を複合処理することによって、欠陥種の分類を行い、あらかじめ設定された欠陥種毎に異なる良否判定パラメータを適用して、適切な良否判定を行うことができるようにした欠陥検査方法。 （もっと読む）

【課題】作業性の向上を図り、かつ処理速度の高速化を図った画像処理検査方法及び画像処理検査システムを提供する。
【解決手段】連続的な模様に沿うように、検査対象品を連続的に撮影する撮影工程Ｓ１と、撮影工程Ｓ１により得られた複数の撮影画像のそれぞれに対応する良品画像を作成する良品画像作成工程Ｓ３と、各撮影画像とそれぞれに対応した良品画像との比較によって、欠陥部位の有無を検査する検査工程と、を有する画像処理検査方法であって、良品画像作成工程Ｓ３においては、作成する良品画像に対応する撮影画像を除き、当該撮影画像の近傍の複数の撮影画像同士で一致率の評価を行い、評価の高い複数の撮影画像から良品画像を作成することを特徴とする。 （もっと読む）

支持基板（１６）に取り付けられたパッケージ形マイクロ電子デバイス（１４）の１つ又は２つ以上の周縁（１３ａ）に沿うフィレット形成具合の自動化検査システム及び方法であって、かかるシステム（１０）は、フィレット形成を制御するフィードバックループを有する。より詳細には、システム（１０）は、アンダーフィル材料（２２）を支持基板（１６）上に小出しするよう構成された小出しシステム（１８）を有する。システム（１０）は、フィレット（１２）の測定可能な属性の値を求め、例えばフィレット（１２）の寸法形状が正しいかどうかを判定するよう構成された自動化光学検査（ＡＯＩ）システム（１９）を更に有する。フィードバックループ（６６）が小出しシステム（１８）と自動化光学検査システム（１９）との間に設けられる。
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【課題】欠陥として抽出する画素の明るさの閾値を決めることを容易にして、真の欠陥を検出できる精度の高い検査方法および検査装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ全体分の欠陥候補の数がわかっている参照画像を予め記憶し、検査画像を取得して画像比較検査により検出された検査画像の欠陥候補の数を記憶し、検査画像の欠陥候補の数より予め記憶された参照画像の欠陥候補の数の方が多い場合は、参照画像を検査画像で置き換え、これを半導体ウェハ全体分について実行して置き換えられた検査画像を参照画像として記憶し、次の半導体ウェハについては、記憶された参照画像と取得した検査画像とを比較して欠陥候補を検出する。 （もっと読む）

【課題】回路素子のはんだ付け、特にはんだ付けロボットやはんだコテを用いた手作業によるはんだ付けの良否を判定する検査において、簡便に、且つ、確実な信頼度を以って良否の判定を行うことができるようにする。
【解決手段】図１（Ａ）のようにして、緑色の基板２に配置された抵抗３を、当該抵抗３の上方に配置されたカメラ（撮像装置）４により、当該カメラ４側から赤色の同軸照明５により乳泊アクリル製特殊フィルタ６を介して照射しつつ撮影し、撮影された撮像を白黒の２値化処理してはんだ付けの良否を判定する。この方法によれば、図１（Ｂ）のようにフィレット８に覆いかぶさるフラックス９の影響を受けることなく判定できる。 （もっと読む）

【課題】マイクロスクラッチと粒子との間を識別する検出システムを提供する。
【解決手段】サンプル表面（２０ａ）からの散乱光は表面（２０ａ）に対して垂直な線に対して略対称の光を集束する集束器（３８，５２）によって集束され、異なる方位角で経路へと導かれ、相対的方位角位置に関する情報が保存される。集束光は、垂直な線に対して異なる方位角で散乱した光線を表すそれぞれの信号に変換される。異常の有無および／または特徴は、この信号から判定される。あるいは、集束器（３８，５２）によって集束された、狭角および広角集束経路から得た信号は比較され、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。前方散乱光は、他の光線から集束され、比較されて、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。散乱の強度は、表面がＳおよびＰ偏光によって順次照射されたときに測定し、比較して、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。 （もっと読む）

【課題】量産部品の完成検査は、従来、目視によることを基本とし、検査員の育成・配備や検査時間が多大であると同時に、判別に対する個人差や誤認或いは見落としが避けられないため、判別検査を自動的に処理する画像処理システムを提供する。
【解決手段】被検査部品の各面に対応してカメラを設置し、照明板、コントロ−ラ、パ−ソナルコンピュ−タ−及びこれらをコントロ−ルするコンソ−ル並びにコントロ−ルマウスによって画像処理システムを構成し、適合の見本とする部品の各撮像面について、カメラの角度、照明の色調及び照明の明るさをプログラミングしたモデル画像による計測値９をメモリ−する。同時に、これを基準にして曖昧さの領域について上限レベル及び下限レベルを設定する。以上にもとづいて、被検査部品の画像をモデル画像及びその計測値９と対比し、被検査部品の適合又は不適合を自動的に判別する。 （もっと読む）

【課題】蛍光磁粉液の磁粉濃度を、瞬時に定量的に確認することができると共に評価することができるようにする。
【解決手段】蛍光磁粉液の蛍光磁粉が磁極により付着する疑似欠陥部４ａを一面に有する標準試験体２と、を備える。更に、蛍光磁粉が付着した標準試験体２に紫外線光を照射し、蛍光磁粉を発光させる紫外線照射部５と、標準試験体２を撮影し、画像信号を得る撮像装置６と、を備える。そして、この画像信号から発光した蛍光磁粉の輝度値を演算すると共に前記輝度値を磁粉濃度に変換する処理部７ｂと、を備える。これにより、蛍光磁粉液の磁粉濃度を、瞬時に定量的に確認することができると共に検査する人によって差が生じることがなく、正確な蛍光磁粉の濃度を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】画質欠陥を検出する際の時間を短縮化する。
【解決手段】検出対象となる画像上の各画素について、画素の濃度値と画像全体の濃度の平均値または画素周辺の所定の領域内での濃度の平均値との差分の絶対値を算出し、算出された各画素の差分の絶対値に基づき、画像上にて絶対値が所定値以上である画素が所定の面積以上の大きさを有する領域を形成する画素群を抽出し、抽出された画素群の中から所定の基準を満たす画素群を画質欠陥部として検出する。 （もっと読む）

【課題】浸出によって部品の表面の表面欠陥を検出する据付装置のパラメータを診断または判定する方法である。
【解決手段】据付装置に標準テストピースを通過させることであって、テストピースが、検査される欠陥のタイプを表す少なくとも１つのパターンを有する表面を有することと、テストピースの表面に指示物質を含む浸透組成物を塗布することと、洗浄することと、乾燥させることと、テストピースの表面に発現剤を含む組成物を塗布することと、１つまたはそれぞれのパターンの発現像を形成し、そこから据付装置の動作の品質についての指示を推定できるように、任意の残存する指示物質を照射するようにテストピースの表面を照射することと、を備える。据付装置に通過される前に、標準テストピースは、乳化剤を含む槽内への浸漬と、加圧下での最初のすすぎと、乾燥と、パターンの位置への発現剤の塗布と、加圧下での二回目のすすぎとを備える準備処理を受ける。 （もっと読む）

【課題】 位相シフト部同士が遮光部を介して隣接する遮光パターンを有する補助パターン型位相シフトマスクのパターン欠陥検査において、描画用パターンデータを的確に補正してパターン検査用データとし、パターン欠陥検査装置により得られる画像データに対するパターン検査用データの相違が生じないようにし、これらパターン検査用データと画像データとの比較により精度よく欠陥を検出する。
【解決手段】 パターン欠陥検査装置を用いて検査光により遮光パターンの画像データを得る工程と、遮光パターンの描画用パターンデータを少なくとも遮光部を介して隣接する位相シフト部間の距離に応じて位相シフト部及び非位相シフト部を通過する検査光強度の相違による遮光パターン像の寸法変化に基づく補正を加えたパターン検査用データに変換する工程と、画像データとパターン検査用データとを比較して位相シフトマスクのパターン欠陥を検出する工程とを有する。 （もっと読む）