【課題】線形加速器から出射させる電子ビームのエネルギを異ならせても、発生させるＸ線の線量の変動を抑制する、ことを目的とする。
【解決手段】Ｘ線発生装置１０は、電子ビームを発生させる電子銃１２、電子銃１２によって発生された電子ビームをマイクロ波によって加速させる線形加速器１４、線形加速器１４によって加速された電子ビームが照射されることによって、Ｘ線を発生するＸ線ターゲット１６、線形加速器１４に導入させるマイクロ波を発生するマイクロ波発生装置、マイクロ波の電力が変化するようにマイクロ波発生装置を制御するパルスモジュレータを備える。線形加速器１４は、複数のバンチャ空洞４０を有しているため、マイクロ波の電力を低下させることで加速位相からずれた電子が生じても、該電子を次の時間周期の加速位相にて加速させることができるので、マイクロ波の電力を低下させても出射される電子ビームの強度の低下が抑制される。 （もっと読む）

【課題】偏向電磁石に荷電粒子加速機能を付加させることにより、円形粒子加速器などで使用される加速機器の数を大幅に低減させることによって円形粒子加速器などの低価格化、小型化を可能にする。
【解決手段】偏向用励磁電流によって、第１偏向磁場用励磁コイル１６、第２偏向磁場用励磁コイル１７を励磁させて、磁性体１５のギャップ１４内に偏向磁力線２０を生成させ、磁性体１５のギャップ１４に配置された真空空洞パイプ１０中を通過する荷電粒子を偏向させながら、加速用励磁電流によって、加速用励磁コイル２２を励磁させて、磁性体１５内に加速用磁力線２３を生成させるとともに、この加速用磁力線２３によって磁性体１５の両端部間に誘導電圧Ｖａを生成させ、磁性体１５のギャップ１４に配置された真空空洞パイプ４中を通過する荷電粒子を加速させる。 （もっと読む）

【課題】スキャニング照射等で必要な粒子線の出射電流を簡便な制御機器で安定に変更可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供すること。
【解決手段】入射された荷電粒子を偏向電磁石により偏向させて周回軌道に沿って周回させ荷電粒子ビームを形成し、荷電粒子を高周波加速空洞に印加する高周波電圧により加速し、収束用電磁石により荷電粒子ビームを収束させ、六極電磁石により周回軌道に共鳴を励起し、出射装置により荷電粒子を周回軌道から取り出す円形加速器から出射される荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム照射システムにおいて、高周波加速空洞に印加する高周波電圧のパラメータを制御することにより、周回軌道から取り出す荷電粒子の出射電流を変更するようにした。 （もっと読む）

本発明は、ビーム方向に連続的に配置された少なくとも二つの高周波共鳴器（１７）を有する、荷電粒子を加速するための加速器に関する。複数の粒子バンチ（１５）を有するパルス列（１３）が加速可能であり、また、その加速器は高周波共鳴器（１７）を作動させるための制御デバイス（２１）を有する。高周波共鳴器（１７）にそれぞれ生成可能な高周波場は、パルス列（１３）の加速中に、制御デバイス（２１）によって互いに独立的に設定可能であり、パルス列（１３）の複数の粒子バンチ（１５）が、パルス列の加速中に異なって加速されるようにする。更に、本発明は、このような加速器を作動させるための方法に関し、高周波共鳴器（１７）にそれぞれ生成可能な高周波場は、パルス列（１３）の加速中に互いに独立的に調整されて、パルス列（１３）の複数の粒子バンチ（１５）が、パルス列（１３）の加速中に異なって加速されるようにする。
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【課題】波形ひずみの影響を考慮して効率良く荷電粒子を加速できる粒子加速器を得ることを目的とする。
【解決手段】荷電粒子ビームを加速する加速空洞４に高周波加速電圧を印加する制御装置２０は、低電力信号Ｖｏ（ｔ）を出力する低電力信号発生器９と、低電力信号Ｖｏ（ｔ）を増幅する高周波電力増幅器１０を有し、低電力信号Ｖｏ（ｔ）は、正弦波信号である基本波信号の周波数及び基本波信号に起因して加速空洞４に発生する高調波信号の周波数毎に、低電力信号発生器９から出力される正弦波信号の発生器信号振幅Ｖｏａと加速空洞４に発生した空洞電圧Ｖ（ｔ）の空洞電圧振幅Ｖａとの比である伝達倍率ｇ（ｆ）、及び正弦波信号と正弦波信号により加速空洞４に発生する正弦波空洞電圧との位相差である位相遅延φ（ｆ）があらかじめ測定され、測定された伝達倍率ｇ（ｆ）及び位相遅延φ（ｆ）に基づいて生成される。 （もっと読む）

本発明は、粒子放射線治療用に使用可能なパルス化ビーム粒子加速器に関する。特に、ビームパルス内の粒子数を制御するデバイス及び方法が提供される。粒子加速器は、ビーム制御パラメータの値の関数として、最小値から最大値の間で、そのパルス化イオンビームの各ビームパルス内の粒子数を変更する手段を備える。各粒子照射に対して、各ビームパルスに対する所要の粒子数は、較正データに基づいてビーム制御パラメータに対する値を定めることによって、制御される。
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【課題】発生磁場と印加電圧の周波数特性が一定ではない磁極材料を使用した四極又は六極電磁石においても設定磁場が得られる磁場発生装置及びシンクロトロンを得る
【解決手段】四極又は六極電磁石と、電磁石電源１０と、波形を発生する波形生成器９とを有する磁場発生装置であって、前記四極又は六極電磁石に発生する磁場１５と前記電磁石電源１０への入力電圧１２とから求めた前記四極又は六極電磁石の周波数特性を含む入出力の伝達関数から設定磁場を発生させる入力電圧１２を決定し、前記波形生成器９からこの入力電圧１２と同じ波形の入力信号１２を発生し、この入力信号１２を前記電磁石電源１０に入力して前記四極又は六極電磁石に電圧を印加して、前記設定磁場を得るように構成した。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロン出射時の周回ビーム粒子数やチューンの変化に対し、高精度な照射ビーム電流の制御を安定に維持できる粒子線治療システムを提供する。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成される。制御装置６００は、ビーム輸送系３００または治療室４００内のビームモニタ５２（３３）で荷電粒子ビームの電流値を検出し、該電流値が予め定めた目標値に近づくように出射装置２６に印加する高周波電圧の振幅と周波数を制御するフィードバック系を構成し、かつシンクロトロン２００を周回する荷電粒子ビームの粒子数を検出するビームモニタ２８の出力信号に基づきフィードバック系の利得を調整する利得演算器７０を備えている。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンの出射ビーム電流の増強と安定化により、高い線量率が安定に得られる粒子線治療システム及びシンクロトロンの運転方法を提供する。
【解決手段】粒子線治療システム１００は、シンクロトロン２００と、ビーム輸送系３００と、照射装置５００から構成される。制御装置６００は、シンクロトロン２００で荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速したのち、加速空胴２５に印加した高周波電圧を少なくとも一度ＯＦＦしたのち再びＯＮし、基本波成分とその整数倍の周波数を有する高調波成分を合成した高周波電圧を加速空胴２５に印加した状態で、荷電粒子ビームを出射装置２６と出射偏向装置２７を用いてビーム輸送系３００へと出射する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の照射状態／非照射状態の切替の高速化を図ると共に、出射される荷電粒子線の安定化を図ることが可能な荷電粒子線照射制御装置及び荷電粒子線照射方法を提供することを目的としている。
【解決手段】荷電粒子線の照射状態の加速電圧を基準加速電圧とし、加速電圧を、基準加速電圧より大きい又は小さい設定加速電圧に切り替えることで、荷電粒子線の軌道を変更して、他の物体に荷電粒子線Ｒ０を衝突させ、荷電粒子線を非照射状態とする。加速電圧を大きく又は小さく切り替えるだけで、非照射状態とすることが可能であるため、照射状態／非照射状態の切替の高速化を図ることができる。また、イオン源２１のアーク放電のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う必要がないため、アーク放電の立ち上がりにおける不安定さの影響を受けることがなく、荷電粒子線の安定化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】放射線による低電力波形生成器の停止、誤動作を防止し、安定した動作を実現できる粒子加速装置を安価に得る。
【解決手段】低電力波形生成器４とこの低電力波形生成器４の低電力出力を増幅する増幅器３を有する電源装置２、及び増幅器３の出力により荷電粒子を加速する加速空洞１を備え、低電力波形生成器４は加速空洞１で荷電粒子が加速されるようにコンピュータ８で制御される粒子加速装置において、加速空洞１と増幅器３を放射線管理区域に設置すると共に、コンピュータ８を有する低電力波形生成器４を放射線管理区域外に設置する。 （もっと読む）

【課題】中性子発生器を使用する中性子検層計器、特に、中性子出力及び中性子発生器作動寿命を最適化するようにこのような計器内の中性子発生器の作動パラメータを制御する方法を提供する。
【解決手段】パルス式中性子発生器を作動させる方法は、中性子発生器のターゲット電流を所定の値に調節する段階を含む。中性子発生器の中性子出力に関連するパラメータを測定する。測定されたパラメータを所定の範囲に維持するように中性子発生器のターゲット電圧を調節する。 （もっと読む）

【課題】高精度な電圧測定が可能な電圧プローブを提供する。
【解決手段】本発明の電圧プローブは、計測端子と、前記計測端子に電気的に接続され且つ筐体内に収容された抵抗器と、前記抵抗器に電気的に接続された出力端子とを備え、前記抵抗器は、前記筐体内において絶縁性の液相冷媒に浸漬されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加速管の自動的コンディショニングであって、安定して確実に、また加速管の損傷を防止する加速管コンディショニング装置および加速管コンディショニング方法の提供。
【解決手段】加速管で反射した反射波の反射波電力を計測するセンサから反射波電力を収集する反射波電力収集部３３と、その反射波電力に基づいて高周波周波数を生成する高周波周波数調整部３４と、コンディショニング用高周波の周波数が高周波周波数になるように高周波源を制御する高周波源制御部３５とを備えている。高周波周波数は、反射波電力が所定値より小さいときに一定の値を示し、反射波電力が所定値より大きいときにコンディショニング用高周波が加速管で共振するような値となる。 （もっと読む）

【課題】放射線の線量をより高精度に制御すること。
【解決手段】高周波源５から加速管６４に高周波を伝送する導波路の状態を出力する装置２、６と、高周波を用いて加速管６４に所定電力が供給されるように、その状態に基づいて高周波源５を制御する制御装置７とを備えている。加速管６４は、高周波を用いて治療用放射線２３を生成するための荷電粒子５７を加速する。本発明による放射線治療システム１は、導波路の状態により導波管８が高周波を伝送する伝送効率が変化するときに、加速管６４により生成される荷電粒子５７のエネルギーの変動を小さくすることができ、治療用放射線２３のエネルギー（エネルギー分布）の変動を小さくすることができる。その結果、放射線治療システム１は、治療用放射線２３の線量をより高精度に制御することができる。 （もっと読む）

【課題】交流電流検出器の特性によるパルス電流の検出誤差を補正して、高精度にパルス電流を検出する。
【解決手段】パルス電流の指令波形（７１）と交流電流検出器５の出力のいずれか一方をパルス電流の通電期間に合わせて積分又は擬似積分し（８３）、該積分値を交流電流検出器の出力に設定された比率で加算し（８４）、該加算値にパルス電流の休止期間において保持した前記交流電流検出器の出力を加算して（８２）、電磁石３に通電されたパルス電流の検出値とする。 （もっと読む）

【課題】絶縁耐圧を確保するとともに装置内の空間を有効利用する構造を得て、小型化を実現する直流高電圧発生装置の提供。
【解決手段】コンデンサとダイオードを絶縁基板上に配置して昇圧回路を構成し、上記昇圧回路の絶縁基板を段階的に複数積み重ねた多段倍電圧整流回路１を備えた直流高電圧発生装置において、多段倍電圧整流回路１を構成する昇圧回路の絶縁基板２０の大きさを段階によって異ならせ、高電圧出力段を低電圧出力段より小さい絶縁基板２０で構成する。 （もっと読む）

【課題】誘導電圧調整器を用いた加速器用電源の出力電圧を高精度で安定に制御する制御回路を提供する。
【解決手段】誘導電圧調整器１０を用いた加速器用電源装置の制御回路３０ｂであって、設定値に対して所定の差を有する第１基準電圧値と直流電圧の電圧値とを比較する第１比較器３２と、第１比較器３２の出力に基づき直流電圧の電圧値が第１基準電圧値よりも設定値に近い値になるまでＯＮの制御パルスを誘導電圧調整器１０に出力する制御パルス発生回路３４と、第１比較器３２の出力に応じてゲートが制御され、第１基準電圧値よりも設定値に近い値である第２基準電圧値と直流電圧の電圧値とを比較する第２比較器３６と、直流電圧の電圧値が第１基準電圧値よりも設定値に近い場合に、第２比較器３６の出力に基づく短パルスを誘導電圧調整器１０に出力する短パルス発生回路３８とを備える。 （もっと読む）

【課題】安価に短時間で所望の単位時間当たりの放出原子密度分布にすることを可能にする。
【解決手段】陽極駆動部３１ａにより陽極２の中心を回動軸として反復回動可能にすることにより、陽極２と原子放出部との距離を変化させる。制御部３２ａは、陽極２の変位により所望の原子密度分布を得るように設定された入力データを受けて、陽極２を変位させるための駆動制御信号を前記陽極駆動部３１ａに出力する。また、制御部３２ａによって、陽極駆動部３１ａを駆動中に停止したり、駆動速度を変更したりして、陽極２における各姿勢の滞在時間などを変更することにより、単位時間あたりの原子密度を変化させる。 （もっと読む）

【課題】出射されるイオンビームの強度制御を簡素な装置構成で実現できる荷電粒子ビーム出射方法及び粒子線照射システムを提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子ビームを加速して出射するシンクロトロン３と、シンクロトロン３から導かれた荷電粒子ビームを出射する照射装置３２と、シンクロトロンの運転サイクルにおける出射制御区間で、シンクロトロンから出射する荷電粒子ビームのビーム強度を制御する第１のビーム強度変調手段１４と、運転サイクルにおける出射制御区間に含まれる複数の照射区間のそれぞれにおいてビーム強度を制御する第２のビーム強度変調手段１５とを備えたことによって、上記課題を解決する。 （もっと読む）