【課題】常温で液状であり、取り扱いが容易である（メタ）アクリレートの提供、さらには溶剤に対する溶解性が向上した（メタ）アクリレート（共）重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるノルボルナンラクトン系（メタ）アクリレート。
【化１】


（上式において、Ｒ₁は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜３の整数、Ｒ₂は水素原子またはメチル基を表す。）
また、一般式（１）で表されるノルボルナンラクトン系（メタ）アクリレートを含む単量体混合物を重合することによって得られる（共）重合体。
本発明の好ましい態様として、一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種と、共重合可能な化合物の少なくとも１種を含む単量体混合物を重合することによって得られる共重合体であって重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜２０００００である共重合体。 （もっと読む）

（Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）下記一般式（１）又は（２）で表される化合物と、を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


［式中、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｘ^４、Ｘ^５及びＸ^６は、それぞれ独立に、ＣＨ基、ＣＣＨ_３基、ＣＣ_２Ｈ_５基又は窒素原子を示し、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｙ^３及びＹ^４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｙ^５は置換基を有していてもよいアリーレン基を示す。］
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官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素化合物、含フッ素ポリマーおよびその製造方法を提供する 下記式（１）で表される含フッ素ジエンを提供する。 ＣＦ_２＝ＣＦＣＨ_２ＣＨ（Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）（ＯＨ））ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ （１） ただし、Ｒ^１とＲ^２は、それぞれ独立にフッ素原子、あるいは炭素数５以下のフルオロアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】 １９３ｎｍ以下の波長にて改善された透明性を有し、像ぼやけを最小にする、レジスト組成物及びフォトリソグラフィ・プロセスに有用な改善されたシルセスキオキサン・ポリマー構造を提供すること。
【解決手段】 本発明は、シルセスキオキサン・ポリマーと、こうしたシルセスキオキサン・ポリマーを含有するレジスト組成物を提供するものであり、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部はフッ素化部分を有し、このシルセスキオキサン・ポリマーの少なくとも一部は、酸触媒による開裂反応のための活性化エネルギーが低く、光学密度の高い部分の存在を最小化又は回避する、溶解抑制型ペンダント酸不安定部分を有する。本発明のポリマーはまた、水性アルカリ溶液中でのレジストのアルカリ溶解を促進するペンダント極性部分を有する。本発明のポリマーは、ポジ型レジスト組成物に特に有用である。本発明は、基板にパターン形成された構造体を形成する際にこうしたレジスト組成物を用いる方法、特に多層（例えば二層）フォトリソグラフィ方法を包含し、この方法は１９３ｎｍ及び１５７ｎｍのような波長にて高解像度の像を生成できる。 （もっと読む）

本発明では、ａ）支持体を搬送し、ｂ）当該支持体上に、チルセット性層及び非チルセット性層を同時に塗布し、ｃ）当該層の温度を低下させて、当該層を不動にし、そして、ｄ）当該層を乾燥することを含む支持体上への多層の塗布方法が提供される。また、本発明によれば、この方法によって作製される画像形成要素が提供される。 （もっと読む）

本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性コポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性コポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

本発明は、光画像形成およびフォトレジスト組成物に有用な低多分散性アクリルポリマーに、ならびにこれらの組成物を使用する光画像形成方法に関する。本発明の低多分散性ポリマーは、ＲＡＦＴ（可逆付加開裂連鎖移動）重合のような、制御ラジカル重合（ＣＲＰ）技術を用いて製造される。 （もっと読む）

構造（Ｉ）のモノマーの重合により形成されたモノマー単位を有するポリマーとコポリマー（ここで、Ｒ¹はエチレン性不飽和の重合性基を含む部分構造であり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₃のアルキレン基であり、Ｒ³は、Ｃ₁〜₁₀の線状若しくは環状アルキル基、Ｃ₆〜₁₀の芳香族若しくは置換芳香族基、Ｃ₁〜₈のアルコキシメチル基、又はＣ₁〜₈のアルコキシエチル基である）は、感光性組成物のバインダー樹脂として、また、半導体デバイスや材料の製造におけるフォトリソグラフィープロセスに有用である。
【化１】

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（ａ）成膜性樹脂；
（ｂ）次式
【化１】


［式中、Ｒ₁は、C_1-20アルキル基、C_6-20アリール基またはC_6-20アラルキル基であり、この際、前記のC_1-20アルキル基、C_6-20アリール基またはC_6-20アラルキル基は、置換されていないか、またはハロゲン、C_1-20アルキル、C_1-8パーフルオロアルキル、C_1-20アルコキシ、シアノ、ヒドロキシルもしくはニトロから選択される一つもしくはそれ以上の基によって置換されており； Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立して、水素、C_1-8アルキル、C_1-8パーフルオロアルキル、C_1-8アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、カルボキシル、ヒドロキシル及びスルフェートから選択され； ｍ及びｎはそれぞれ独立して０または正の整数であり； そしてＸ^-は酸の非求核性アニオンである］
で表される化合物；
（ｃ）場合によっては、光学的、機械的及び成膜特性を調節するための添加剤；
（ｄ）場合によっては、塩基または感放射線性塩基； 及び
（ｅ）溶剤、
を含む、ｉ線（３６５ｎｍ）でフォトレジスト層を形成するのに有用な組成物。
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（ａ）少なくとも１つのポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー；（ｂ）構造III〜Ｖにおいて、［Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷はそれぞれ独立にＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、フェニルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、過フッ素化されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基であり、または別に、Ｒ¹およびＲ²もしくはＲ⁴、Ｒ⁵、およびＲ⁶のいずれか２つは一緒になって５〜７員環を形作ってよく；Ｒ³はそれぞれ独立にＨ、Ｃ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、フェニルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、過フッ素化されたＣ₁〜Ｃ₄の線状もしくは分枝状のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキルもしくはハロゲン化物で置換されたＣ₅〜Ｃ₇のシクロアルキル基、置換されていないフェニル基、またはフェニル、アルキルもしくはハロゲン化物で置換されたフェニル基であり；ＱはＨまたはＤであり、ただし少なくとも１つのＱはＤであり；Ｄは上記に規定したとおりであり；ａは１〜５の整数であり；ｂおよびｃは０〜５の整数であるが、ただし（１）構造IIIについて、ａ＝ｂ＝１であり、ＯＱがともにＲ¹Ｒ²Ｃ置換基に対してパラ位で置換されているなら、Ｒ¹およびＲ²がともに同時にメチルであることはなく、（２）１≦ａ＋ｂ＜６であり；構造Ｖについて、ａ＝ｂ＝ｃ＝１であり、すべてのＯＱがトリフェニルメタン炭素置換基に対してパラ位にあるなら、少なくとも１つのＲ³はＨでない］によって表わされる化合物から選択される少なくとも１つの感光性化合物；（ｃ）少なくとも１つの溶媒；および（ｄ）場合によっては接着促進剤を含むポジ型感光性組成物。本発明者は、この感光性組成物を使用してレリーフパターンを作成しまた電子部品を製造する方法をさらに提供する。
【化１】

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少なくとも１つのキャップされていないポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つのキャップされたポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、少なくとも１つの感光性剤および少なくとも１つの溶媒のポジ型感光性樹脂組成物、基板上に画像をパターン化するためにこのような組成物を使用すること、ならびに得られる信頼性のあるパターン化された基板およびそれからの電子部品。 （もっと読む）

【課題】 赤外線を放射する固体レーザまたは半導体レーザを用いて記録することにより、コンピューター等のデジタルデータから直接製版可能であり、さらに特定の露光波長に対して高感度でありながら、白灯下でも取り扱うことのできるネガ型の画像記録材料を提供する。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）ラジカル発生剤と、（Ｂ）ラジカル重合性化合物と、(Ｃ）分子内に２つ以上の環式構造を有するキノン類とを含有する画像記録層を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】アルカリ水溶液を用いて現像可能な、高感度、高解像度を有し、さらに、タックフリーで、耐熱性、耐エッチング性、保存安定性も良好で、しかもエッチングレジストとして用いた場合に容易に除去できる感光性樹脂組成物及びその構成成分であるアルカリ可溶性樹脂を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有するセグメントを含む共重合体に、一分子中に１個以上のエチレン性二重結合とイソシアナート基を有する化合物を反応させて得られる側鎖にビニル基とカルボキシル基を有するアルカリ可溶性重合体と、エチレン性二重結合を有する化合物及び、光重合開始剤とからなることを特徴とする感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れ、露光後の加熱時の温度依存性が小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）（メタ）アクリル酸５−ｔ−ブトキシカルボニルノルボルニル、（メタ）アクリル酸８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロドデカン等で代表される酸解離性基含有脂環族構造を有する（メタ）アクリル酸エステル類と、下記式（１）の化合物等で代表されるラクトン基含有複素環構造を有する（メタ）アクリル酸エステル類との共重合体からなる樹脂、および（Ｂ）１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート等で代表される感放射線性酸発生剤を含有する。
【化１】 （もっと読む）

【課題】 赤外線放射レーザを用いてデジタルデータから直接記録可能であり、良好な印刷物が多数枚得られる耐刷性に優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）オニウム塩と、（Ｃ）ラジカル重合性化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーを含む感光層を設けたネガ型平版印刷版原版において、感光層の波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で０．５〜１．２の範囲にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 感度、耐刷性および保存安定性が十分な感光性平版印刷版を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、ｉ）線状高分子重合体バインダー、ii）付加重合可能なエチレン性不飽和結合とウレタン基を有する化合物及び溶剤を含有する光重合層塗布液を塗布し、感光性平版印刷版の温度が９０〜１４０℃で１０秒間以上保たれる条件で加熱乾燥することにより得られたことを特徴とし、好ましくは、該加熱乾燥後、感光性平版印刷版の温度を５０℃以下に冷却したあと、引き続きその光重合層上に、水溶性の酸素遮断性物質を含有する保護層を塗布し、加熱乾燥することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】 熱以外の要素により或いは熱とともに他の要素の作用により発色する性質を有する新規な色素前駆体、及び、現像液等の使用が不要でかつ廃棄物の発生のない完全ドライの処理系で、各種光源を利用でき、高感度で、高画質および高耐性な画像を形成できる画像形成材料及び画像形成方法を提供すること。
【解決手段】 ■塩基との接触により発色可能な下記いずれかの式で表される色素前駆体。
【化１】


式中、Ａｒは置換基を有していてもよい芳香環または複素環、Ｃｐはカプラー残基、ＬおよびＬ₁ は塩基で脱保護可能な保護基、Ｌ₂ はＬ₁ が脱保護された後に脱離する脱離基またはＬ₁ が脱保護された後に脱保護される保護基。
■支持体上に、光重合開始剤、塩基との接触で発色可能な色素前駆体、塩基または塩基プレカーサー、および、重合可能な化合物をそれぞれ少なくとも１種含む画像形成層を有することを特徴とする画像形成材料及び画像形成方法。 （もっと読む）