【課題】優れた接着強度が得られるとともに、感度、密着性及び解像性が良好であり、吸水率が十分に低い感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂と、（Ｂ）フェノール性水酸基及びビフェニル骨格を有するノボラック樹脂と、（Ｃ）光重合性化合物と、（Ｄ）カルボキシル基を有する樹脂と、（Ｅ）光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、１，０００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性、スペーサーの柔軟性、感放射線性樹脂組成物の保存安定性等に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物、該組成物の構成成分等として有用な重合体等を提供すること。
【解決手段】重合体は、（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、（ａ２）１分子中に１つ以上の水酸基を含有する不飽和化合物の共重合体に、下記式（１）で表される化合物を反応させて得られる。感放射線性樹脂組成物は、該重合体、重合性不飽和化合物、感放射線性重合開始剤を含有する。
【化１】


（式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基であり、Ｒ_２はエチレン基またはプロピレン基であり、ｎは１〜５の整数である。） （もっと読む）

【課題】エポキシ基含有アクリル樹脂を使用しながら高硬度化を実現可能な感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）エポキシ基含有アクリル樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｃ）増感剤を含有してなる感光性樹脂組成物において、（Ｂ）成分として特定構造のオニウム塩を使用し、（Ｃ）成分として１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、及び２，６−ジヒドロキシナフタレンの中から選ばれる少なくとも１種を使用する。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィーを応用して、簡便に微細中空体を形成する方法、および該方法により形成された微細中空体の提供。
【解決手段】支持体とレジスト膜との間に、熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収するレジスト下層膜を有するレジスト積層体に対し、前記レジスト下層膜に吸収される波長の光を用いて選択的露光を行うことを特徴とする、微細中空体の形成方法、および該微細中空体の形成方法により形成された微細中空体。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィーにより、工程が簡便で、工程歩留まりが高く、高精度な中空構造を有する成形体を安価に作成する方法を確立すること。
【解決手段】基板上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光しない第１の感光性樹脂層を形成し、第１のマスクを介して波長が４００ｎｍ未満の光を照射する工程、現像処理を施すこと無く、前記工程により感光処理された第１の感光性樹脂層の上に、波長が４００ｎｍ以上の光に感光する固形分９０重量％以上の固形又は半固形の第２の感光性樹脂層を形成し、第２のマスクを介して波長が４００ｎｍ以上の光を照射する工程、前記第１及び第２の感光性樹脂層に一括で加熱処理を施す工程、及び前記第１及び第２の感光性樹脂層の未感光部を一括で現像する工程を有する、中空構造を有する成形体の製造法。 （もっと読む）

【課題】ｉ線（３６５ｎｍ）において高い透過率を有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体を用いて、半導体素子の保護膜及びディスプレー用プラスチック基板として有用なポリベンゾオキサゾールイミド膜を提供する。
【解決手段】下記一般式（４）：


（式（４）中、Ａは４価の芳香族基を表し、Ｂは２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）で表される反復単位を含有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体中に、ジアゾナフトキノン系感光剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物の膜をパターン露光及びアルカリ現像した後、加熱することにより得られることを特徴とするポリベンゾオキサゾールイミド膜である。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法において有用である、除去可能な撥液性層を容易に形成することができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】パーフルオロアルキル基含有重合性不飽和モノマーと、ターシャリーブチル基で保護されたカルボキシル基を有する重合性不飽和モノマーおよび／またはターシャリーブチルオキシカルボニル基で保護されたフェノール基を有する重合性不飽和モノマーと、を少なくとも共重合することにより得られる、パーフルオロアルキル基含有樹脂（Ａ）；および、露光により酸を生じる光活性剤（Ｂ）；を含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、感放射線性樹脂組成物に使用する高分子樹脂組成物において、経時変化に伴うカルボキシル基とエポキシ基との架橋反応による分子量変化が起き、露光現像により得られる微細パターン、およびその諸特性の劣化が起こることにある。
【解決手段】（Ａ１）分子中に不飽和炭化水素とエポキシ基を有する特定のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル化合物と、（Ａ２）分子中に不飽和炭化水素を有するカルボン酸化合物と、（Ａ３）分子中に不飽和炭化水素を有する化合物を、含有することを特徴とする高分子樹脂組成物。及び、その高分子樹脂組成物を使用して感放射線性樹脂組成物を得ること。 （もっと読む）

【課題】高感度で、現像性、保存安定性が良好であり、さらに耐熱性の高い硬化膜を形成できる感光性組成物、及び該硬化膜を含む表示素子を提供する。
【解決手段】Ｎ−置換マレイミドとカルボキシ含有ラジカル重合性モノマーとを含有するモノマーの混合物を重合して得られる共重合体（Ａ）、Ｎ−置換マレイミドと熱架橋性官能基含有ラジカル重合性モノマーを含有するモノマーの混合物を重合して得られる共重合体（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、二つ以上のラジカル重合性二重結合を有するラジカル重合性化合物（Ｄ）を含有する感光性組成物、この組成物を用いて製造された硬化膜、カラーフィルター用保護膜及び表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】フェノール性水酸基およびメチロール基を有し、樹脂原料（例えば、フェノール樹脂原料）などとして有用なフルオレン化合物を提供する。
【解決手段】塩基触媒の存在下、フェノール性水酸基を有するフルオレン類［９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−Ｃ_１−４アルキルフェニル）フルオレンなど］と、アルデヒド類（ホルムアルデヒドなど）とを反応させる。このような反応により、９，９−ビス（モノメチロール−ヒドロキシフェニル）フルオレン類（９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチロール−５−アルキルフェニル）フルオレンなど）などの９，９−ビス（ヒドロキシアリール）フルオレンのアリール基に少なくとも１つのメチロール基が置換した新規な化合物が得られる。このような化合物は、反応性が高く、しかも、フルオレン骨格を有しているため、樹脂原料などとして使用すると、効率よく優れた特性を有するフルオレン骨格を導入できる。 （もっと読む）

【課題】高回折効率、良保存性、低収縮率、乾式処理、多重記録特性（高記録密度）などの特性に優れるとともに、再生用に照射される光に対する耐久性の高いホログラフィック記録媒体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含む光記録用組成物。


［一般式（１）中、Ｘⁿ⁺はｎ価のカチオンを表し、ｎは１以上の整数を表し、Ｙは脱離基を表し、Ｚは置換基を表し、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ａ¹およびＡ²は、それぞれ独立に置換基を表し、ｍは０〜５の範囲の整数を表し、ｌは０〜４の範囲の整数を表す。ｍが２以上の整数である場合、複数存在するＡ¹はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、ｌが２以上の整数である場合、複数存在するＡ²はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】ＯＤＦ方式の液晶注入でも気泡なく、パネル化マージンを持ち、低温下にても気泡がなく、外圧でも表示不良を生じ難いフォトスペーサを形成する感光性樹脂組成物用のアルカリ現像型樹脂、フォトスペーサ用感光性樹脂組成物、液晶表示装置用基板を提供する。
【解決手段】１分子に１個以上のエポキシ基を持つエポキシ化合物と、１分子に２個のカルボン酸を持つジカルボン酸化合物との交互共重合体であって、前記ジカルボン酸化合物はジスルフィド基を持つジカルボン酸化合物である交互共重合体に酸無水物を付加させてなるアルカリ現像型樹脂。該アルカリ現像型樹脂を含有したフォトスペーサ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】より安価で耐熱性の良好な塩基増殖剤、及び、その塩基増殖剤を含有した樹脂組成物、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される構造を少なくとも１つ有し、アミノ化合物と共存下で１５０℃以上の加熱により分解し、アミノ化合物を生成することを特徴とする塩基増殖剤。


（式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、メルカプト基、ニトロ基、シリル基、シラノール基、又は１価の有機基であり、それらは互いに同一であっても異なっていても良く、それらが互いに結合を介して環状構造を形成していても良い。Ｒ^６は置換又は無置換の脂肪族炭化水素基、或いは置換又は無置換の芳香族炭化水素基である。） （もっと読む）

【課題】４００ｎｍ以上の波長領域に、光反応活性を有する新規な光塩基発生剤を提供する。また、高感度で、高分子前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１Ａ）〜（１Ｃ）で表わされる光塩基発生剤、及び当該光塩基発生剤と高分子前駆体を含有する、感光性樹脂組成物である。


（式中、Ｒ^ａとＲ^ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、シリル基、シラノール基、もしくは１価の有機基を示す。Ｒ^ｃは、それぞれ独立に、水素原子、もしくは１価の有機基を示す。但し、Ｒ^ｃの少なくとも１つは、１価の有機基である。） （もっと読む）

【課題】高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池の実現を可能とする負極基材、この負極基材を用いた二次電池、この負極基材の形成に用いられるポジ型ホトレジスト組成物、及びこの負極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を含有するポジ型ホトレジスト組成物により形成された有機膜を備えた支持体に、金属膜を形成してなることを特徴とする負極基材、又は前記有機膜をパターン露光により所定形状にパターン化したパターン化有機膜を備えたことを特徴とする負極基材によれば、高い出力電圧と高いエネルギー密度を有し、且つ充放電サイクル特性に優れた電池を提供できる。 （もっと読む）

【課題】加熱時に分解し難く、且つ優れた溶解性を有し、アルカリ可溶性を有し得る重合性化合物を提供することを主目的とする。
【解決手段】下記式（１）で表される、１分子中に１個以上の重合性不飽和結合を有する化合物からなる重合性化合物である。


（式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^４のうち少なくとも１つは、重合性不飽和結合を含有する置換基であり、その他のＲ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、又は１価の有機基である。Ｒ^５〜Ｒ^１０は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基である。） （もっと読む）

【課題】半導体デバイス等における基板同志を接着するための接着剤として用いた場合、十分に高い接着強度が得られるとともに、基板（被接着部材）との間にボイドが生じることを十分に抑制することが可能な感光性接着剤組成物及び基板の接着方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定の構造を有するポリアミック酸と、（Ｂ）分子内にエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、を含む感光性接着剤組成物及び該接着剤を用いた基板の接着方法。 （もっと読む）

【課題】感度の良好なフラットパネルディスプレイ用ブラックマトリクス、絶縁膜、隔壁および回路材料等を形成することのできる無機粉体含有樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、（Ａ）顔料およびガラス粉体を含む無機粉体、（Ｂ）下記式（１）で表される化合物に由来の構成単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含む結着樹脂、（Ｃ）光重合性モノマーおよび（Ｄ）光重合開始剤を含有する。


〔Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜５の１価の炭化水素基、Ｒ²は２価の有機基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの色材として用いたときに高いコントラストを示し、かつ経時安定性に優れた有機顔料ナノ粒子分散物の製造方法を提供する。また、上記のカラーフィルタを液晶表示装置に実装して使用したときに、良好な表示特性を発揮する有機顔料ナノ粒子分散物の製造方法、それにより得られる分散物、並びに、それを含有するインクジェットインク、着色感光性樹脂組成物、及び感光性転写材料、それらを用いたカラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】有機顔料をそれに対する良溶媒である第１溶媒に溶解した有機顔料溶液と、前記有機顔料に対して貧溶媒となる第２溶媒とを混合し、前記有機顔料をナノ粒子として混合液中に析出させ、次いで、該混合液中の溶媒分を前記第１溶媒および第２溶媒のいずれとも異なる第３溶媒で置換するとともに、その際に質量平均分子量１０００以上の高分子化合物を導入する有機顔料ナノ粒子分散物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】経時での粘度低下を抑制でき、安定して厚膜のレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、およびそのレジストパターンの形成方法、さらにはそのレジストパターン形成方法を用いて形成されたレジストパターンをスペーサとして含むタッチパネルデバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）アクリル樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有するモノマー、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）液温２５℃の水１００ｇに対する溶解量が２０ｇ以上である溶剤を含有する感光性樹脂組成物により解決される。また、レジストパターンは、上記感光性樹脂組成物を支持体上に塗布し、乾燥してから所定のパターン露光をした後、現像して得られる。 （もっと読む）