【課題】耐熱性や現像性の犠牲を伴わず、回路パターンへの追随性や現像性に優れ、表面に凹凸を設けた保護フィルムを使用した場合に感光層への凹凸の転写に優れ、プリント配線板を効率よく製造できるプリント配線板保護膜用感光性ドライフィルムを提供する。
【解決手段】（Ｉ）支持フィルム、（II）カルボキシル基を有する光硬化性樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）およびエポキシ樹脂（Ｃ）を必須成分とする感光性組成物からなる感光層および（III）保護フィルムからなり、感光層（II）中に含有される有機溶剤の含有量が0.05〜5.0質量％であるプリント配線板保護膜用感光性ドライフィルム、その製造方法およびそのドライフィルムの感光層（II）を用いて形成される永久保護膜を有するプリント配線板。 （もっと読む）

【課題】 ソルダーレジスト、特にフィルムタイプのソルダーレジストにおいて保存安定性が向上し、熱処理温度で速やかな架橋反応性を有し、良好な表面硬度と耐アルカリ性を有する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及び該永久パターンの効率的な形成方法の提供。
【解決手段】 分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を有する重合体と、重合性化合物と、光重合開始剤と、分子中に少なくとも１つのヒドロキシル基を有する化合物と、エステル化触媒とを含有してなり、該エステル化触媒が、２−エチルヘキサン酸と２−フェノキシエタノールとのエステル化反応において、１５０℃では１０％反応するのに必要な時間が１００秒以下であり、かつ４０℃では１０％反応するのに必要な時間が５０時間以上である触媒活性を有するエステル化触媒から選択される少なくとも１種である感光性組成物である。 （もっと読む）

（ａ）多環式オレフィンモノマーを含むモノマー配合物、非オレフィン系連鎖移動剤および活性剤化合物を合わせて混合物を形成すること；（ｂ）混合物を加熱すること；および（ｃ）Ｎｉおよび／またはＰｄを含有する重合触媒を加えることを含む、多環式オレフィンモノマーの重合方法。非オレフィン系連鎖移動剤には、Ｈ_２、アルキルシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルゲルマン、アルキルアルコキシゲルマン、アルキルスタナン、およびアルキルアルコキシスタナンからなる群より選択される１種以上の化合物が含まれる。活性剤は、ｐＫａが少なくとも５の活性水素を有することを特徴とする。得られる多環式オレフィンポリマーはフォトレジスト組成物に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】簡便な感光性フォトレジスト溶液の調製方法の提供。
【解決手段】ノボラック樹脂とジアゾナフトキノンスルホニルクロリドを複数のフォトレジスト溶媒に溶解し、ノボラック樹脂のフェノール性ヒドロキシル基の１〜７０ｍｏｌ％の割合を塩基存在下で（置換基を有していても良い）ジアゾナフトキノンスルホニルクロリドと反応させる。そして、この反応混合物を水洗し、塩基成分を除去し、所望により、さらなるフォトレジスト溶媒で希釈することを特徴とする、ノボラック樹脂の部分エステル化方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 半導体や薄型パネルディスプレイの電極パターンを製造する際のリソグラフィー工程において、感度、解像度、耐熱性など優れた特長をもつフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表されるヒドロキシナフタレン化合物とアルデヒド化合物とを酸性触媒下で反応させたノボラック樹脂において、当該樹脂中の水酸基の一部または全部をアルコキシアルキル基で保護したノボラック樹脂を必須成分とすることを特徴としたフォトレジスト組成物。
【化１０】


一般式（Ｉ）中、ｍは１〜２の整数、ｎは０〜１の整数を示す。 （もっと読む）

【課題】 鉛フリーはんだ等にも対応できる耐熱性を有し、炭酸ナトリウム水溶液などで現像が可能で、現像槽内に生成するスラッジの発生のないフォトソルダーレジストを用いたプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 片面又は両面に導体パターンが形成された基板に、樹脂成分としてグルシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応物と、a)飽和ジカルボン酸又はその酸無水物とb)不飽和テトラカルボン酸又はその酸二無水物を、a/bのモル比が0.1〜10となる範囲で反応させて得られたビスフェノールフルオレン骨格を持つアルカリ可溶性樹脂を主成分として含有するフォトソルダーレジスト層を形成後、1〜4重量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像してパターンを形成し、熱硬化してパターン化されたレジスト層を有するプリント配線板を製造する。 （もっと読む）

【課題】 十分に優れた貯蔵安定性を示すドライフィルムを形成でき、かつ、十分に高い耐溶剤性を示すソルダーレジストをを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は、（Ａ）下記一般式（１）；
【化１】


〔式中、Ｒ^１はジグリシジルエーテル型エポキシ化合物残基である二価の有機基を示し、Ｒ^２は二塩基酸残基である二価の有機基を示し、Ｒ^３は水素原子又は下記一般式（２）；
【化２】


（式中、Ｒ^４は酸無水物残基を示す。）
で表される基を示す。〕
で表される繰り返し単位を有する樹脂と、（Ｂ）分子内にエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）ブロックイソシアネート化合物とを含有する感光性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 指触乾燥性、現像性、硬化塗膜の柔軟性に優れる酸ペンダント型分岐ポリエーテル樹脂組成物の製法を提供すること。
【解決手段】 芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート（Ａ２）、芳香族二官能エポキシ樹脂のモノアクリレート（Ａ１）及び／又は前記（Ａ１）、（Ａ２）以外の芳香族二官能エポキシ樹脂（Ｂ）、及びリン系触媒（Ｃ）を含有する混合物中の芳香族二官能エポキシ樹脂のジアクリレート（Ａ２）中の水酸基とアクリロイル基とを反応させて、水酸基、アクリロイル基及びエポキシ基を有する分岐ポリエーテル樹脂（Ｘ）を含有する反応混合物を得る第一工程と、前記反応混合物に不飽和モノカルボン酸を加え、前記反応混合物中のエポキシ基と前記不飽和モノカルボン酸中のカルボキシル基とを反応させる第二工程とを含有する分岐ポリエーテル樹脂組成物の製法。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、半導体製造工程の製膜に良好な品質を備えたフォトレジスト用高分子化合物の操作性簡易な製造法の提供。
【解決手段】酸により脱離してアルカリ可溶となる基を有するモノマーＡと、極性基含有脂環式骨格を有するモノマーＢとを少なくとも含むモノマーおよび重合開始剤を溶媒に溶解して、重合温度に昇温された溶媒中に滴下しながら重合させ、重合溶液を貧溶媒に添加して、ポリマーを沈殿させ、沈殿を遠心分離機により遠心分離で、溶媒を除去後、湿結晶をグリコール系溶媒に溶解し、減圧蒸留にて濃縮してレジスト樹脂溶液を製造する方法において、湿結晶をグリコール系溶媒に溶解する時、ポリマーを主体にした固形分を１３重量％以下となるように希釈溶解してから蒸留濃縮する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、半導体等の電気特性に悪影響を及ぼさないようなフォトレジスト用高分子化合物の操作性簡易な製造法を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、酸により脱離してアルカリ可溶となる基を有し、しかも金属含有量５０ｐｐｂ以下のモノマーＡと、極性基含有脂環式骨格を有し、しかも金属含有量５０ｐｐｂ以下のモノマーとを少なくとも含むモノマーＢおよび重合開始剤を溶媒に溶解して、重合温度に昇温された溶媒中に滴下しながら重合させることを特徴とするフォトレジスト用高分子化合物の製造方法を提供する。更に、前記により製造された高分子化合物と光酸発生剤を少なくとも含むフォトレジスト用樹脂組成物を提供し、そのフォトレジスト用樹脂組成物を用いた半導体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の少ない含フッ素溶媒を用いた、光リソグラフィー用部材に用いられる含フッ素ポリマーの精製方法の提供。
【解決手段】含フッ素ポリマーが有機溶媒（Ａ）に溶解した含フッ素ポリマー溶液と、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロフルオロカーボン及びパーフルオロカーボンからなる群から選ばれる１種以上であり、沸点が１０〜２５０℃であり、該含フッ素ポリマーを実質的に溶解せず、かつ該有機溶媒と相溶する含フッ素溶媒（Ｂ）、とを混合し、含フッ素ポリマーを凝集させ、次いで凝集した含フッ素ポリマーを前記溶媒から分離する含フッ素ポリマーの精製方法。 （もっと読む）

【課題】 不純物含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を含有するＡｒＦエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のＡｒＦエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法は、ラクトン骨格を含む単量体（ａ）及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体（ｃ）から選択された少なくとも１種の単量体に対応する繰り返し単位と、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体（ｂ）に対応する繰り返し単位とを有する高分子化合物を含むＡｒＦエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液を製造する方法であって、滴下重合により生成したポリマーを沈殿精製に付し、固液分離して得られた湿ポリマーを有機溶媒に再溶解し、得られたポリマー溶液を濃縮することにより、ポリマー溶液中に含まれている低沸点溶媒を留去してフォトレジスト用ポリマー溶液を調製することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用の樹脂を提供すること。
【解決手段】 加熱された溶媒中に、極性基含有脂環式官能基を有するモノマー（Ｃ）及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を有するモノマー（Ｄ）及びラジカル重合開始剤を添加し、共重合させる工程、及び生成した樹脂を沈殿により精製する沈殿精製工程を経ることにより、極性基含有脂環式官能基及び酸によりアルカリ可溶基を生じる官能基を１分子中にそれぞれ少なくとも１つ以上有する半導体集積回路用遠紫外線感光材料用樹脂（Ａ）を得る。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ工程に適用されうるフォトレジスト用のトップコーティング組成物、及び液浸リソグラフィ工程によるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基またはスルホン酸基を含有するポリマー、塩基及び純水を含む溶媒からなるトップコーティング組成物である。本発明によるトップコーティング組成物で構成されたトップコーティング膜は、ＴＡＧを利用するか、または水に浸漬させる方法により水に溶けない不溶性膜に形成されうる。このように得られた不溶性のトップコーティング膜をバリヤーとして使用して液浸リソグラフィ工程を行うことによって、液浸媒体を通じた露光中にフォトレジスト成分が液浸媒体に溶解されることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＡｒＦエキシマレーザー用に適するフォトレジストポリマーを提供することにあり、詳しくは、生産効率がよく品質の安定したフォトレジスト用ポリマーの製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも酸によって分解してアルカリ可溶となる構造と、半導体基板に対する密着性を有する極性基を含有する脂環式炭化水素基を有するフォトレジスト用高分子化合物の製造において、単量体を重合開始剤により重合し、その重合溶液を貧溶剤に添加し、生成した高分子化合物の沈殿を、濾過操作を使用せずに、デカンテーションにより未反応単量体を除くことを特徴としたフォトレジスト用高分子化合物の製造方法による。 （もっと読む）

【課題】優れた濾過特性を有し、レジスト塗布膜上の欠陥の数を大幅に低減できるだけでなく、経時によるレジスト液の変質によるレジスト塗布膜上の欠陥も大幅に低減でき、長期保存安定性を有する半導体塗布膜用溶液を提供する。
【解決手段】粗樹脂（１）を４０〜９０℃で活性炭と接触させ、その後珪藻土類及び／又はシリカゲル類と接触させることにより得られる処理済樹脂（１）を含むことを特徴とする半導体塗布膜用溶液。該半導体塗布膜用溶液が化学増幅型レジスト組成物であり、処理済樹脂（１）とともに、酸発生剤及び溶媒を含む前記記載の半導体塗布膜用溶液。 （もっと読む）

【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜形成用組成物等の塗膜形成用組成物に好適に用いられる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法の提供。
【解決手段】本発明は、少なくとも、酸によって分解してアルカリ現像液に可溶性になる構造を有する繰り返し単位（Ａ）と、半導体基板に対する密着性を高めるための極性基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを有する半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法であり、該繰り返し単位を与えるエチレン性二重結合を有する２種類以上のモノマーを含む溶液を、加熱した溶媒中に滴下することによりラジカル重合させて半導体リソグラフィー用共重合体を製造するに際し、滴下する前のモノマーを含む溶液中に重合抑制成分として、重合禁止剤又は酸素を共存させ、この溶液を加熱した溶媒中に滴下してラジカル重合させる半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法に関する。
【選択図面】なし （もっと読む）

【課題】 脱保護により副反応を起こさず、短時間で完了し、且つ脱保護後の後処理が簡便なｐ−ヒドロキシスチレン系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ｐ−（１−エトキシエトキシ）スチレン由来の構成単位を含有する重合体をアルコールを９０重量％以上含有する有機溶媒中に溶解または分散し、水と塩酸を用いることにより１−エトキシエトキシ基を選択的に脱保護するｐ−ヒドロキシスチレン由来の構成単位を含有する重合体の製造方法、該製造方法により１−エトキシエトキシ基は、少量の水と塩酸の存在下で反応させることで低温かつ短時間で脱離させることができ、他の構成単位中のエステル骨格を壊すこともない。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト樹脂中の昇華物による生産ラインの汚染を低減し、それにより生産性を向上することができるフォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト用組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は、下記Ａ〜Ｂ工程によって製造されることを特長とするフォトレジスト用フェノール樹脂の製造方法である。
Ａ工程：有機溶媒に溶解させたフェノール樹脂を吸着剤の充填したカラムに通す工程、及び
Ｂ工程：Ａ工程後のフェノール樹脂を反応及び／又は濃縮する工程
また、本発明は、上記フォトレジスト用樹脂、感光剤、および溶剤を含むことを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】感度に優れ、且つ、露光ラチチュード、パターン倒れ、パターンプロファイル、及びラインパターンのラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸分解性樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、異なる重合開始剤で重合した少なくとも２種の酸分解樹脂を含有させたポジ型レジスト組成物を用いる。特に、―ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＮＨ−から選ばれる置換基を少なくとも一つ有する重合開始剤を用いて重合した樹脂と、―ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＮＨ−から選ばれる置換基を有さない重合開始剤を用いて重合した樹脂とを含有したポジ型レジスト組成物が良好な特性を示す。 （もっと読む）