【課題】１回のコーティング工程で厚い層を形成するのに用いることができる感光性組成物の供給が望まれている。厚い層の正確な画像形成を可能にする感光性組成物の供給が望まれている。
【解決手段】厚いフォトレジスト層を１回のコーティング適用で堆積させるのに好適なフォトレジスト組成物および方法が提供される。かかるフォトレジスト層はチップスケールのパッケージング、例えば、金属バンプの形成における使用に特に好適である。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性に優れるカラーフィルター、スペーサー（カラーフィルターと電極基板との間のセルギャップを維持するスペーサー）、およびＴＦＴ素子平坦化膜（ＴＦＴと透明電極との間に形成される透明絶縁膜）、並びにこれらに有用な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 バインダー樹脂（Ａ）並びにバインダー樹脂（Ａ）の原料であるモノマー（ａ）の未反応物および連鎖移動剤（ｂ）の未反応物を含む樹脂組成物であって、モノマー（ａ）の未反応物と連鎖移動剤（ｂ）の未反応物の合計量Ｘが、樹脂組成物の固形分１００質量部に対して５質量部以下である樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明により、光リソグラフィを中心としたナノファブリケーションのための高分子素材として好適なハイパーブランチポリマーを提供する。また、本発明により、スチレン誘導体をリビングラジカル重合反応させて得られるハイパーブランチポリマーの分子末端に酸分解性基を有することを特徴とするハイパーブランチポリマーを提供する。
【解決手段】本発明のハイパーブランチポリマーは、クロロメチルスチレン等のリビングラジカル重合により形成されるコア部に結合した、ｐ-ｔｅｒｔ-ブトキシスチレン等の酸分解性基をポリマー分子末端に有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する
【解決手段】（ａ）アルコール性水酸基を含有するポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）架橋性化合物を含有し、（ｄ）架橋性化合物がポリシロキサン中のアルコール性水酸基と反応することでポリシロキサンが架橋する化合物である感光性シロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】酸発生剤、ラジカル発生剤として有用な高純度のジアリールヨードニウム塩を安定に、且つ、高収率で得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】分子内にアミノ基及びカルボン酸基を有する化合物と、ヨードアリール化合物と過酸とを混合し、その後、芳香族化合物を加えることを特徴とする。ここで、芳香族化合物とともに酸を添加することが好ましい。また、芳香族化合物として、電子供与性の置換基を有する化合物を用いることが可能である。 （もっと読む）

【課題】収率の高い化学増幅型ポジ型レジスト用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】重合により化学増幅型ポジ型レジスト用樹脂を与えるモノマーまたはオリゴマーを重合開始剤を用いて重合させる化学増幅型ポジ型レジスト用樹脂の製造方法において、２種以上の重合開始剤を用いる化学増幅型ポジ型レジスト用樹脂の製造方法。２種以上の重合開始剤それぞれが、下式（１）または（２）で表される構造を有する前記記載の製造方法。


（Ｚ¹、Ｚ²は電子吸引性基である。Ｒ¹〜Ｒ⁶は直鎖または分枝の炭素数１〜１０のアルキル基、環状構造を含む炭素数３〜１０のアルキル基であり、Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴は結合して２価の飽和炭化水素基を形成してもよい。Ｒ¹〜Ｒ⁶の水素原子は芳香環、水酸基、ハロゲン原子、アミノ基で、−ＣＨ_２−はカルボニル基、カルボキシル基で置換されていてもよい。） （もっと読む）

【課題】解像度、はんだ耐熱性、温度サイクル試験に対する耐性、及び電気絶縁特性といった特性において十分に高いレベルを達成することのできる感光性樹脂組成物及び感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表される構造を含む酸変性ポリエステルイミド樹脂。


式（１）中、Ｒ^１はイミド基を１又は２以上有する２価の有機基を示し、Ｒ^３は水素原子又はカルボキシル基を有する１価有機基を示す。 （もっと読む）

【課題】金属微粒子が高濃度である金属微粒子分散液を、用いる溶媒を問わず、安価に製造することができる金属微粒子分散液の製造方法を提供する。
【解決手段】窒素原子または硫黄原子を含有する化合物を溶解させた溶液中で調製した金属微粒子液のｐＨを変えることによって金属微粒子を凝集沈降させた後、任意の溶媒中に再分散する工程を有することを特徴とする金属微粒子分散液の製造方法である。前記化合物は分子中に酸性基を含むことが好ましく、該化合物の酸性基としては、カルボキシル基であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 耐クリーナ性に優れ、且つバーニング耐刷性、及び網点再現性に優れた平版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、下記一般式（１）で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有し、該支持体上に該記録層を塗設後、該記録層を乾燥する乾燥工程が、１５０℃以上２５０℃以下の温度条件を０．１秒以上６０秒以下の間維持する加熱処理を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。


［一般式（１）中、Ｚ¹、Ｚ²及びＺ³は、各々独立に、水素原子又は非金属原子からなる１価の置換基を表す。］ （もっと読む）

【課題】良好な寸法均一性を有するパターンを形成できるパターン形成方法及びそれに用いるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、界面活性剤、溶剤Ａ群及び溶剤Ｂ群からそれぞれ少なくとも１種、もしくは溶剤Ａ群及び溶剤Ｃ群からそれぞれ少なくとも１種を含有する混合溶剤を含有する組成物を、基板上に塗布し、５００〜１５００ｒｐｍの回転数にて膜厚を目的とする厚みに調整し、乾燥、露光、現像するパターン形成方法。 Ａ群：プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート Ｂ群：プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、酢酸エステル、鎖状又は環状ケトン及びアルコキシアルキルプロピオネート Ｃ群：γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネート （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を超えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができそして焼成時に発生する昇華物が低減された、層間絶縁膜やマイクロレンズの形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシル基およびエポキシ基を有し、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）とポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．７以下である重合体、ならびに（Ｂ）１，２−キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）重合体を製造するリビングラジカル重合が特定のチオカルボニルチオ化合物を分子量制御剤として用いる重合である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの寸法精度を向上し、さらにはレジスト塗布から描画までのレジスト基板の放置時間に依存するレジストパターンの寸法変動を低減し、今後さらに進展し続けるフォトプロセスパターンの微細化に対応できるレジストパターンの寸法精度が得られるレジスト基板、その保存方法、及び、当該レジスト基板を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】膜厚５００ｎｍ以下で、かつ残留溶剤量が０．５〜２０ｐｐｍの感光性組成物からなるレジスト層が基板上に設けられていることを特徴とするレジスト基板である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストインクとしての優れた諸特性を維持しつつ、基板密着性、鉛筆硬度、乾燥塗膜の指触タック性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）１分子中に水酸基を有する感光性樹脂（Ａ１）における水酸基の全部若しくは一部に、下記構造式〔Ｉ〕に示す酸無水物を反応させて得られる感光性樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）稀釈剤を含有する。感光性樹脂（Ａ）は、構造式〔Ｉ〕に示す酸無水物に起因する残基を側鎖に有し、この感光性樹脂組成物にて形成される被膜の基板密着性が向上し、この被膜の鉛筆硬度が向上し、その乾燥塗膜の指触タック性が向上し、またアルカリ可溶性が向上する。
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【課題】実質的にイオン性不純物や酸成分を含まないスルホニウム塩を製造する方法の提供
【解決手段】式（１）の化合物（Ｒ¹、Ｒ²は炭化水素基又は複素環基を表すか、双方が直接又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜３のアルキレンかフェニレン基を介し結合して環を形成し、Ｒ’はＣ１〜５のアルキル又はＣ６〜１０のアリール）とアリール化合物とを、フッ素化アルカンスルホン酸又はフッ素化アレーンスルホン酸と脱水剤との存在下に反応させる、式（２）（Ａｒはアリール基、Ｘ^-はフッ素化アルカンスルホン酸又はフッ素化アレーンスルホン酸のアニオン残基）


のスルホニウム塩の製造方法。 （もっと読む）

【課題】被着体上にてパターン形成した後においても、加熱すれば、そのパターンを維持したまま、高い接着性を有し、そのパターン上に第２の被着体を接着することができ、特に、フィルム厚みが大きい場合であっても、そのパターン上に第２の被着体を接着する際に、パターンの変化、主として、膜厚の減少が少ない感光性エポキシ樹脂接着性フィルムを提供する。
【解決手段】中間層とこれを挟む一対の表面層とからなる感光性エポキシ樹脂接着性フィルムにおいて、上記中間層と上記一対の表面層のいずれもがエポキシ当量１００〜３００ｇ／当量のグリシジル基を有する多官能エポキシ樹脂とエポキシ当量４５０〜１００００ｇ／当量のグリシジル基を有する多官能エポキシ樹脂とからなる低反応性エポキシ樹脂と光酸発生剤とを有し、上記中間層が更に脂環式エポキシ樹脂及びオキセタン樹脂から選ばれる少なくとも１種の高反応性樹脂を含有している。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイルに優れＰＥＢ温度依存性を改善したポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ１）特定構造の繰り返し単位を含有する酸分解樹脂、
（Ａ２）特定構造の繰り返し単位を含有する酸分解樹脂、および、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
を含有するポジ型レジスト組成物であって、該酸分解樹脂（Ａ１）、（Ａ２）とも、残留モノマーが各樹脂に対して０．５質量％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】未反応フェノール類や２核体成分などの低核体成分の含有量が少ないノボラック型フェノール樹脂を、効率的かつ簡易に製造することができる製造方法、及び得られたノボラック型フェノール樹脂を用いることにより、昇華物による生産ラインの汚染を低減し、生産性を向上させることができるフォトレジスト用フェノール樹脂組成物を提供するものである。
【解決手段】フェノール類とアルデヒド類とを縮合反応させる縮合反応工程、及び反応系内に気体を流しながら、該反応系内の温度よりも沸点が低い低沸点化合物を添加して、ノボラック型フェノール樹脂の低核体成分を実質的に留去する留去工程、を有することを特徴とする製造方法であり、得られたノボラック型フェノール樹脂の２核体成分の含有量が７％以下であることが好ましく、前記ノボラック型フェノール樹脂、感光剤及び溶剤を含むフォトレジスト用フェノール樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】製造工程の短縮化が可能であって、かつ、フェノール性水酸基に導入する保護基の導入率の制御が容易なポジ型感光性樹脂組成物の製造方法等を提供する。
【解決手段】本発明の一態様におけるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法は、ビス−ｏ−アミノフェノール化合物と、ジカルボン酸化合物を重縮合反応し、得られた重縮合物を溶媒に溶解して溶液を調製し、１気圧下での沸点が１３０℃以下である塩基性触媒下、前記重縮合物中のフェノール性水酸基の少なくとも一部に、tert−ブトキシカルボニル基を導入し、前記溶液に、活性光線の照射により酸を発生する光酸発生剤を配合する。 （もっと読む）

【課題】表示装置用部材用に高解像度化した露光装置を用いても、感光層の表面を平坦にし、高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れた液晶表示装置などに好適に用いられる表示装置用部材の製造方法、及び表示特性に優れた表示装置用部材、並びに該表示装置用部材を用いた表示装置を提供すること。
【解決手段】感光性組成物からなり、基材上に形成された感光層に対して、光照射手段及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、感光層のいずれかを移動させつつ、光照射手段から出射された光を光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら露光ヘッドから照射して、感光層を露光する露光工程を含み、感光性組成物が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、感光層の厚みが０．１〜６μｍ、かつ感光層における最大の厚みと最小の厚みとの差が、平均厚みの３％以内である表示装置用部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】解像性能、感度、及び露光余裕に優れた感放射線樹脂の提供。
【解決手段】式（１）で表される単量体及び特定のターシャリーエーテル基を持つ単量体を含む単量体を共重合後、酸により式（１）で表される単量体の酸解離性基を完全に加水分解し、かつ単量体の一部の酸解離性基を加水分解することにより得られる共重合体。


Ｒ¹は水素原子又はメチル基を、Ｒ²及びＲ³は飽和炭化水素基を表す。 （もっと読む）