【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、プロファイル、ラインエッジラフネスが改善され、液浸露光にも好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物であって、（Ａ）成分の樹脂が、極性基を有する連鎖移動剤を用いて重合した樹脂であるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レジストなどの感光性組成物に好適に用いられる光酸発生剤或いは光カチオン性重合開始剤として有用なスルホニウム化合物の新規な製造法を提供する。
【解決手段】
一般式（Ｉ）で表されるスルホキシドをスルホニウム化することを特徴とするスルホニウム化合物の製造方法。
【化１】


一般式（Ｉ）中、
Ｒ₁〜Ｒ₁₃は水素原子または置換基を表し、隣接している置換基は、お互いに結合して、環を形成しても良い。
Ｚは単結合又は２価の連結基を表す。 （もっと読む）

【課題】 高精細なパターン形成物のピンホール等の欠損を、抑制し得る微粉砕化された状態で湿式分散されたガラススラリー、及びそれを用いた感光性ペースト組成物、感光性導電性ペースト、及び感光性黒色ペーストを提供し、それにより、歩留まりの良いプラズマディスプレイパネルを供給する。
【解決手段】 （ａ）軟化点４２０〜５８０℃のガラスフリット４０〜９０質量部、（ｂ）有機溶剤１０〜６０質量部、及び（ｃ）分散剤０．０３〜１０質量部を含む混合物を、湿式分散する工程を経て得られるガラススラリー、及びそれを用いた感光性ペースト並びにプラズマディスプレイパネルが提供される。 （もっと読む）

【課題】
ＡｒＦ露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】
（Ａ）オキセタニル基を含有するシルセスキオキサン単位、（Ｂ）炭化水素基を含有するシルセスキオキサン単位を含むことを特徴とするシリコーン共重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】
自動給版装置に於ける合紙剥離性が良好な水なし平版印刷版原版積層体を得ること。
【解決手段】
基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する水なし平版印刷版原版と、シリコーンゴム層に接する合紙とを積層してなる水なし平版印刷版原版積層体であって、該シリコーンゴム層と合紙が実質的に接着していないことを特徴とする水なし平版印刷版原版積層体。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版原版端部に対応する紙面に汚れが発生するという問題点が改良され、セッター搬送性の良好な、合紙除去の工程を必要としない、製版作業における生産性を向上しうる平版印刷版原版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】親水性表面を有するアルミニウム支持体上に、感光層、無機層状化合物を含む保護層をこの順に積層した塗工ウェブを裁断部材で板厚方向に挟み付けて裁断することで製造される平版印刷版原版の製造方法であって、前記塗工ウェブの塗工面に合紙を介在させることなく裁断することを特徴とする平版印刷版原版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 現像液の寿命を延ばすことのできるパターン形成方法及び露光システムを提供する。
【解決手段】 感光性樹脂膜１１０上に酸素遮断膜１２０を形成する工程と、酸素遮断膜１２０が形成された感光性樹脂膜１１０に対してパターンを露光する工程と、露光された感光性樹脂膜１１０を現像する工程と、を備える。酸素遮断膜１２０を形成する工程では、感光性樹脂膜１１０上に高分子水溶液の液膜１１８を形成し、液膜１１８に対してエアナイフ３１からガスを吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】プリント配線板として有用な感光性樹脂組成物及び光硬化性樹脂組成物を提供するものである。
【解決手段】分子主鎖中に、一般式で表される結合単位を有する変性ポリビニルアルコールを含有する。
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【課題】 ポジ型レジスト組成物用として好適な低分子材料を容易に製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】 多価フェノール化合物（Ｉ）、および該多価フェノール化合物（Ｉ）のフェノール性水酸基の一部または全部が酸解離性溶解抑制基で保護された化合物からなる群から選択される２種以上の化合物からなる混合物（Ａ０）が溶解した有機溶剤溶液（Ｐ）と、アルカリ水溶液（Ｑ）とを混合し、有機相と水相とに分離する。
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【課題】 酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。
【解決手段】光硬化反応を生じる機能を有する高分子ケイ素化合物を含むナノインプリント用の膜形成組成物。高分子ケイ素化合物は、電磁波に感応して開裂する官能基を有し、電磁波照射によって硬化反応を生じるものであることが好ましく、シロキサン系高分子化合物、シリコンカーバイド系高分子化合物、ポリシラン系高分子化合物、およびシラザン系高分子化合物またはこれらの任意の混合物であることがさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】レジスト液の輸送コストの低減化をはかりつつ、現在のＬＣＤパネル製造ラインにそのまま直結できる高価な小型専用容器の使用を回避し、トータル的にレジスト液の供給コストを削減することのできるレジスト液製造方法を提供する。
【解決手段】レジスト液製造方法において、調合タンク内の液体の濃度及び／又は粘度を測定し、この測定結果に基づいて原料液と溶剤の注入分量を調整して希釈制御を行なうとともに、希釈制御されて得られた製品用レジスト液をバッファ槽にて一定期間貯留して安定化させる。 （もっと読む）

【課題】可撓性や耐熱性に著しく優れ，特にフレキシブルプリント配線板用途において基板フィルムとの密着性が良好で，優れた可撓性及び半田耐熱性を兼備したフレキシブルプリント配線板用光硬化性樹脂組成物、可撓性ソルダーレジストインキ用エポキシアクリレート樹脂，これを配合した硬化性樹脂組成物，アルカリ現像型感光性樹脂組成物，その硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）にアクリル酸類を反応させて得られることを特徴とするエポキシアクリレート樹脂，更に多塩基酸化合物を反応させたエポキシアクリレート樹脂、該樹脂と重合開始剤を必須成分とする硬化性樹脂組成物。
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【課題】 有機半導体素子等の機能を阻害することなく低温硬化が可能であり、かつ解像性、電気絶縁性、熱衝撃性、耐薬品性等の諸特性に優れた硬化膜およびその製造方法、ならびにこの硬化膜を得ることができ、半導体素子の層間絶縁膜、表面保護膜などの用途に適した感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感放射線性酸発生剤（Ｂ）、架橋剤（Ｃ）、密着助剤（Ｄ）、および有機溶媒（Ｅ）を含有し、固形分濃度が７〜２５質量％であることを特徴とする絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】遠紫外線及び放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチ耐性、パターン形状及びラインエッジラフネス等のレジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。
【解決手段】レジスト組成物は、アクリル酸エステル誘導体等に由来する繰り返し単位を少なくとも１種類有し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸解離性基を有する重合体と、光又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤を含有している。重合体は、１９３ｎｍにおける吸光度が１．０(１／μｍ)以下であり且つ分散度が１．４以下である。
【選択図面】なし （もっと読む）

【課題】 感光性組成物塗布液を支持体上に塗布した際に、面状が安定し、かつ残膜も少ない感光層が形成される感光性フィルムの製造方法を得ることができ、プリント配線板、高密度多層板及び半導体パッケージ等の製造に好適に用いられる感光性フィルムを提供すること。この感光性フィルムからなる感光層を支持体に積層し、優れた耐熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気絶縁性を有する硬化膜が得られる感光性フィルムの提供。更に、青紫色レーザーダイレクト露光方式に最適な永久パターンを提供すること。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び熱硬化促進剤を含み、調製直後の液粘度（ｍＰａ・ｓ）に比して、３０℃にて２４時間保存した後の液粘度（ｍＰａ・ｓ）の増加率が５０％以内である塗布液を、支持体上に塗布して感光層を形成することを特徴とする感光性フィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】長時間連続してレジストを塗布しても、塗布されたレジストの厚さに差が生じることを抑制できるレジスト塗布装置を提供する。
【解決手段】レジストを溶媒に溶解したレジスト溶液が保持され、ローラー４ａの一部がレジスト溶液に浸漬される浸漬槽５と、浸漬槽５との間でレジスト溶液が循環するバッファー容器７と、レジスト溶液の濃度を測定する濃度計１１と、濃度計１１の測定結果に基づいて、レジスト溶液の濃度が一定になるように、レジスト溶液に溶媒を添加する溶媒添加部（８，８ａ，９，１２）とを具備する。濃度計１１の代わりに粘度計を用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】 レジスト用溶剤に極めて溶解しやすいフォトレジスト用高分子化合物を簡易な手段で効率よく製造する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸によりアルカリ可溶性となる基を有する単量体と極性基含有脂環式骨格を含む基を有する単量体とを少なくとも含む単量体混合物を滴下重合法により重合してフォトレジスト用高分子化合物を製造する方法であって、重合系に滴下すべき溶液を重合容器の器壁に伝わらせることなく直接重合系に導入することを特徴とする。この製造方法において、重合系に滴下すべき溶液の供給ラインの先端に重合系液面に向かって延びるノズルを設け、重合系に滴下すべき溶液を該ノズルを通して、重合容器の器壁に伝わらせることなく直接重合系に導入してもよい。 （もっと読む）

【課題】感光層中に適正な量の有機溶媒を含有し、表面のタック性が小さく、ラミネート性及び取扱い性が良好で、基板への追従性に優れた感光性フィルム及びその製造方法、並びに該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び有機溶媒を含む感光性組成物からなる感光層を有してなり、前記感光層における前記有機溶媒の含有量が０．０１〜３質量％である感光性フィルム及びその製造方法、並びに該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法である。前記有機溶媒が、沸点の異なる少なくとも２種以上の有機溶媒である態様等が好ましい。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性、低反り性、可とう性、耐めっき性、はんだ耐熱性、長期信頼性に優れた硬化物を形成し得るソルダーレジストインキの原料とすることのできるカルボキシル基含有ポリウレタンを提供すること。
【解決手段】（Ｂ）（i）数平均分子量が５００〜５０，０００であり、（ii）骨格中に
炭素数が８以上１８以下のアルキレン基を有し、（iii）両末端に水酸基を有するポリカ
ーボネートジオールに由来する構造を有するカルボキシル基含有ポリウレタン。 （もっと読む）

【課題】 ブリッジ系ディフェクトおよび再析出系ディフェクトの両方が低減されたレジストパターンが形成できるポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるポジ型レジスト組成物を、ナイロン製の膜を備えたフィルタ（ｆ１）を通過させる工程（Ｉ）を有し、前記樹脂成分（Ａ）が、少なくとも１種の単量体を重合させて製造する際に酸を存在させることにより得られる少なくとも２種の構成単位を有する共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）