【課題】
本発明の目的は、超微細化工が可能なフォトレジスト樹脂組成物を達成するために、分子量が均一な樹脂とすべく、重合温度を効果的に制御する方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となるモノマー（Ａｍ）と極性基を有する脂環式骨格を含むモノマー（Ｂｍ）を少なくとも含むモノマー溶液を重合開始剤溶液とともに重合温度に昇温された溶媒中に添加し重合してフォトレジスト用樹脂を製造する方法において、重合の温度を制御する熱媒が水であり、その熱媒系に直接加圧蒸気および冷水を制御弁を介して導入することによって重合温度を制御することを特徴とするフォトレジスト用樹脂の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 保存安定性と光感度に優れた感光性樹脂組成物、及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 エポキシ基のβ-位に炭素原子数１〜４のアルキル基を置換基として有するエポキシ樹脂と、不飽和一塩基酸とを反応されて得られるエポキシビニルエステル樹脂であって、かつ、その分子構造中、不飽和一塩基酸の付加位置が下記一般式（２）


〔式中、Ｒ^１はアルキル基、Ｒ²は水素原子またはメチル基を表す。〕で表される構造であるものの割合が約９５モル％以上であるエポキシビニルエステル樹脂、及び、光重合開始剤を必須成分とする。 （もっと読む）

【課題】化学増幅ポジ型リソグラフィーにおいて使用され、溶解コントラスト等のリソグラフィー特性に優れた共重合体を提供する。
【解決手段】ポジ型リソグラフィー用共重合体は、式（Ａ）


で表される繰り返し単位（Ａ）と、式（Ｂ）


で表される、酸解離性溶解抑制基でアルカリ可溶性基を保護した末端構造（Ｂ）を有する。 （もっと読む）

【課題】ディフェクト、特にブリッジモードディフェクトの発生を抑制できる半導体リソグラフィー用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】ラクトン含有環式基を有する構成単位（ａ２）を含有する半導体リソグラフィー用樹脂（Ａ１）が有機溶剤（Ｓ１）に溶解した樹脂溶液（Ｒ１）を、溶解度パラメータが１７〜２０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲にあり、かつ比表面積が０．００５〜１ｍ^２／ｇの範囲にある樹脂（Ａ１’）に接触させる。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の分解を極力抑制しつつ、低沸点不純物の含有量が極めて低いフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位と、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位とを含有するフォトレジスト用樹脂を塗膜形成用溶媒に溶解したフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法であって、重合により得られた前記フォトレジスト用樹脂を貧溶媒に沈殿させ、沈殿したフォトレジスト用樹脂を遠心分離機により湿結晶として分離し、該湿結晶を塗膜形成用溶媒を含む溶媒に再溶解させ、得られた再溶解液を蒸留缶内の液温度を８０℃以下に制御するように缶内圧力を調節し、且つ,蒸留缶内を撹拌機により撹拌しながら蒸留して、前記フォトレジスト用樹脂の湿結晶中に含まれる低沸点不純物を減圧下に留去する工程を含むフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】保存時の安定性に優れ、感度の高いネガ型平版印刷用版材が作製できるものが得られる製版層塗布液の調整方法、および前記製版層塗布液を用いたネガ型平版印刷版の製造方法の提供。
【解決手段】酸架橋性化合物のｐＨを２．５〜６の範囲に調節する第１の工程と、ｐＨを前記範囲に調節した酸架橋性化合物と、アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、および赤外線吸収剤と混合して製版層塗布液を調製する第２の工程とを有することを特徴とする製版層塗布液の調製方法、および前記製版層塗布液を支持体に塗布して製版層を形成する平版印刷材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板密着性、酸脱離性、ドライエッチング耐性のみならず、レジスト溶剤への溶解性、及びアルカリ可溶性のバランスが良いフォトレジスト用高分子化合物と、そのフォトレジスト用高分子化合物を含むフォトレジスト用樹脂組成物を提供し、更に、微細なパターンを精度よく形成できるフォトレジスト用高分子化合物、フォトレジスト用樹脂組成物、及び半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）


で表されるフォトレジスト用（メタ）アクリル系単量体に相当する繰り返し単位を少なくとも１種以上含むフォトレジスト用高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】レジスト用酸発生剤あるいは光カチオン性重合開始剤、光ラジカル性重合開始剤として有用なスルホニウム塩の新規な製造方法を提供すること。
【解決手段】アリールハライド化合物と式（I）で表される化合物とを、酸触媒の存在下で反応させる工程を含むことを特徴とする式（II）で表されるスルホニウム塩の製造方法。式（I）中、Ｙ¹及びＹ²はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルコキシ基、又は、アリールオキシ基を表し、また、式（II）中、Ａｒはｎ＋１価の芳香族化合物残基を表し、Ｘは前記芳香族化合物残基の芳香環に結合するハロゲン原子を表し、Ｚは任意の対アニオンを表し、ｎは１以上の整数を表し、また、複数存在するＡｒ、Ｘ及びｎはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【化１】
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【課題】各高分子鎖ごとの組成分布が均一で、レジスト組成物用として好適な重合体およびその製造方法、その重合体を含むレジスト組成物、並びにパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【解決手段】構成単位α_１〜α_ｎ（ｎは２〜１０の整数）からなる重合体（Ｐ）であって、前記構成単位α_１〜α_ｎのうちの少なくとも１つの構成単位α_ｉ（ｉは１〜ｎの任意の整数）の臨界吸着条件で実施される臨界吸着クロマトグラフィー法により求められる共重合組成分布曲線Ｃα_ｉが下記式（Ｉ）［Ｓ（Ｔα_ｉ＋１５）／Ｓ（ｔｏｔａｌ）≦０．０５ （Ｉ）］を満足する重合体（Ｐ）。 （もっと読む）

【課題】アルカリ水溶液による短時間での現像が可能であり、量産設備で製造が可能で、かつ高解像度で膜厚保持率の高いパターンを形成できるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される構造単位を主成分とするポリマーと光酸発生剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物の製造方法であって、（ａ）該ポリマーを９０℃以下の温度で乾燥し、該ポリマーの水分率を２重量％以下に調節する工程、（ｂ）該ポリマーと光酸発生剤を溶媒に溶解する工程を有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物の製造方法。
【化１】


（Ｒ^１は炭素数２以上の３〜８価の有機基を示す。Ｒ^２は炭素数２以上の２〜６価の有機基を示す。Ｒ^３は水素原子または炭素数１〜２０の有機基を示し、同じでも異なっていてもよいが、少なくとも１つは炭素数１〜２０の有機基である。ｎは３〜１０００００の整数、ｍは１または２、ｐおよびｑは０〜４の整数を示す。ただし、ｐ＋ｑ＞０である。） （もっと読む）

【課題】重合体、特に半導体製造工程で使用される重合体を精製する精製工程において当該重合体の精製用として好適に使用でき、当該精製工程により得られる重合体を用いて形成されるレジストパターンにおけるディフェクトの発生を低減できる重合体を提供する。
【解決手段】溶解度パラメータが１７〜２０（Ｊ／ｃｍ^３）^１／２の範囲にあり、かつ比表面積が０．００５〜１ｍ^２／ｇの範囲にある重合体（Ｌ）。 （もっと読む）

【課題】 収率を高くすることができることにより、コスト削減及び廃棄物削減が可能なノボラック型クレゾール樹脂及びその製造方法を提供するものである。
【解決手段】 パラクレゾールと酸性触媒の混合物（Ａ）の中に、メタクレゾールとホルムアルデヒドの混合物（Ｂ）を逐次添加し反応させることを特徴とする、ノボラック型クレゾール樹脂の製造方法であり、この方法によって得られることを特徴とするノボラック型クレゾール樹脂であり、¹³Ｃ−ＮＭＲより算出したノボラック型クレゾール樹脂中のメタクレゾール（ｍ）とパラクレゾール（ｐ）との含有比率（ｍ）／（ｐ）が、８０／２０〜２０／８０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】２核体成分の少ないフォトレジスト用フェノール樹脂及びその製造方法を提供すること、及び昇華物が少なく、膜ベリ率が小さく、感度及び耐熱性が良好なフォトレジスト用樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】極性非プロトン溶媒に溶解させたフェノール樹脂と、アルデヒド類とを固体酸触媒の存在下で反応させる工程（Ａ）、フェノール樹脂溶液を固体酸触媒と分離する工程（Ｂ）、及び上記工程（Ｂ）後のフェノール樹脂を反応及び／又は濃縮する工程（Ｃ）を有することを特徴とし、この製造方法により得られたフォトレジスト用フェノール樹脂と、感光剤、及び溶剤を含むことを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料として有用な、リビングラジカル重合で得られる重合体であって、リビングラジカル重合で用いるＲＡＦＴ剤由来の末端基が残っていても、実用レベルの膜厚での露光光源波長での光透過性に優れ、また、多分散度Ｍｗ／Ｍｎが小さいためにラインエッジラフネスが良好に改善された重合体を提供すること、および、そのような重合体を製造するために好ましく用いることができる連鎖移動剤（ＲＡＦＴ剤）を提供すること。
【解決手段】本発明のリビングラジカル重合用連鎖移動剤は、一般式（１）で表される構造を有する。
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【課題】感度、解像度、現像性、密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】下記一般式（I）で表されるエポキシ化合物とポリヒドロキシ芳香族化合物を交互共重合させた構造を有するエポキシ樹脂（Ａ）に、不飽和一塩基酸（Ｂ）を付加させた構造を有するエポキシ付加物に、多塩基酸無水物（Ｃ）をエステル化させて得られる構造を有する光重合性不飽和化合物（Ｘ）を含有するアルカリ現像性樹脂組成物に、さらに光重合開始剤（Ｆ）及び色材（Ｇ）を含有させることを特徴とする着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物。
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【課題】 膜厚の均一なレジスト塗膜を形成でき、微細なパターンを精度よく形成できるフォトレジスト用樹脂を得る。
【解決手段】 ルテニウム化合物で構成された重合触媒を用いて単量体を重合させフォトレジスト用樹脂を製造することを特徴とするフォトレジスト用樹脂の製造方法。ルテニウム化合物としてはルテニウム錯体が好ましい。ルテニウム錯体として、ルテニウム金属に、炭化水素環を含む炭化水素配位子、リン原子を含む配位子及びハロゲン原子から選択された少なくとも１種の配位子が配位した錯体を使用できる。ハロゲン含有化合物で構成された重合開始剤の存在下で重合を行ってもよい。ハロゲン含有化合物のハロゲン種は塩素又は臭素であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】感度及びラインエッジラフネスを向上させたＥＵＶ用レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】シェル部がビニル安息香酸ｔｅｒｔブチルエステル等の酸分解性の繰り返し単位を有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーと、下記式で表される光酸発生剤とを含有するレジスト組成物。


（式中、Ｒ⁹は置換されてもよい水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、又は炭素数６〜３０のアリール基を表す。Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状の少なくとも１個以上のフッ素原子を含むアルキル基を示すか、或いは互いに一緒になって環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】分子量分布が狭く、重量平均分子量が8000以下であるハイパーブランチポリマーを、簡便に製造する方法を提供すること。
【解決手段】 （A）金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりハイパーブランチポリマーを製造する工程；
（B）得られたハイパーブランチポリマーの重量平均分子量の４分の１以下の分子量を有する物質を該ハイパーブランチポリマーから除去する工程；及び
（C）重量平均分子量が8000以下であるハイパーブランチポリマーを得る工程；
を含むことを特徴とする、ハイパーブランチポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、現像欠陥に優れ、且つ、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアミド構造を少なくとも一つ含有する繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

微粒子の変形、破壊による刷版性能劣化のない平版印刷版の製造方法を提供する。無機化合物分散液からなる塗布液を、この塗布液にかかる圧力Ｐを１．５×１０^５Ｐａ以下にして帯状可撓性支持体の表面に塗布して塗布層を形成する。また、無機化合物分散液からなる塗布液を、この塗布液にかかるせん断応力τを１．５×１０^５Ｐａ以下にして帯状可撓性支持体の表面に塗布して塗布層を形成する。
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