【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成においても、ラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物を調製することができる、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を重合によって製造する方法であって、重合溶媒として、窒素原子を有する溶媒を単独で又は混合して用いる樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】放射線で露光されることにより１，１−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる光感応性酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】１，１−ジフルオロアルキルスルホン酸の合成方法としては例えば１，１−ジフルオロ−２−（１−ナフチル）エチニレンと亜硫酸ナトリウムを反応させて１，１−ジフルオロ−１−スルホン酸−２−（１−ナフチル）エチレンを得る方法である。更に、１，１−ジフルオロ−１−スルホン酸−２−（１−ナフチル）エチレンをジ（４−ｔ−ブチルフェニル）−ヨードニウム硫酸塩と反応させて光感応性酸発生剤化合物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、特にネガ型レジスト組成物用としての利用が可能な新規化合物を合成する際の新規中間体化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｊ−１）で表される化合物［式（Ｊ−１）中、Ｙはラクトン環を有する基であり；Ｒ^１３〜Ｒ^１６はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基または芳香族炭化水素基であって、その構造中にヘテロ原子を含んでもよく；ｈは１以上の整数であり、ｌ、ｍはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり、かつｈ＋ｌ＋ｍが４以下であり；ｉは１以上の整数であり、ｎ、ｏはそれぞれ独立に０または１以上の整数であり、かつｉ＋ｎ＋ｏが４以下であり；Ｘはアルキレン基、脂肪族環式基または芳香族環式基である。］。
［化１］
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【課題】より安全性の高いハイパーブランチポリマーを合成するとともに、合成にかかるコストの低減を図ることができるハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】ハロゲン元素を含むモノマーのリビングラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって重合された共重合体に酸分解性基を導入する導入工程と、フェニルシランまたはシランを用いて、導入工程において酸分解性基が導入された共重合体におけるハロゲン元素を水素元素に置換する置換工程と、をおこなうようにした。 （もっと読む）

【課題】反応系全体に亘る均一な反応の進行を図ることができるスターポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのリビングラジカル重合を経てスターポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって共重合体を合成し、合成された共重合体と芳香族ジビニル系炭化水素を含むジビニルモノマーと重合させることによって、ジビニルモノマーから誘導されるコア部の末端に、共重合体によって構成されるアーム部が設けられたスターポリマーを合成するようにした。 （もっと読む）

【課題】反応性を低下させることなく金属触媒の量を低減し、高い分岐度を有するハイパーブランチポリマーを簡便に合成すること。
【解決手段】ハイパーブランチポリマーの合成に際して、第１の金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりコア部を製造する第１の工程と、第２の金属触媒存在下、第１の工程で得られたコア部に酸分解性基を導入することによりシェル部を形成する第２の工程と、第２の工程において形成されたハイパーブランチポリマーにおけるシェルを構成する酸分解性基の一部を、酸触媒を用いて分解して酸基を形成する第３の工程と、を含み、第１および第２の工程においては、第１または第２の金属触媒とともに還元剤を添加するようにした。 （もっと読む）

【課題】ＡＴＲＰ法にしたがってスターポリマーを合成する場合と比較して、合成にかかる操作の簡易化を図るとともに、合成にかかるコストの低減を図ることができるスターポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】金属触媒の存在下におけるモノマーのリビングラジカル重合を経てスターポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって合成された共重合体が存在する反応系に、芳香族ジビニル系炭化水素を含むジビニルモノマーを添加し、ジビニルモノマーを添加してから所定時間内に、リビングラジカル重合を停止させるようにした。 （もっと読む）

【課題】高度に制御された構造を有するハイパーブランチポリマーを、安定した収量を確保しつつ、簡易に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下におけるモノマーのリビングラジカル重合を経てハイパーブランチコアポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって合成された重合物が存在する反応系から金属触媒を除去し、金属触媒が除去された反応系から微量金属成分を除去してから、微量金属成分が除去された反応系における重合物と前記モノマーとを分離するようにした。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に優れ、高遮光又は高精彩カラーフィルター用材料に好適な感光性樹脂組成物を形成するアルカリ可溶性樹脂を提供する。
【解決手段】一般式(１)で表され、分子内にカルボン酸残基及び重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂である。
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【課題】本発明は、適度な分子量を有しつつも側鎖にカルボキシル基を有する変性重合体を含む樹脂組成物と該樹脂組成物を含む感光性樹脂組成物、および該樹脂組成物と該感光性樹脂組成物を効率よく製造できる製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の樹脂組成物は、チオール化合物存在下にヒドロキシル基含有単量体を必須成分として得たヒドロキシル基含有重合体の少なくとも一部のヒドロキシル基に多塩基酸無水物が反応した、側鎖にカルボキシル基を有する変性重合体（I）と、チオール基と反応する化合物と前記チオール化合物との反応生成物とを含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、高耐熱性・高解像度・高感度を兼ね備え、作業性を向上させたフォトレジスト用ノボラック樹脂およびそのの製造方法ならびにそれから得られるフォトレジスト用ノボラック樹脂を提供することを目的とする。
【解決手段】
メタクレゾ−ル及び／又はフェノールを含有するフェノール類（Ｐ）と、架橋基としてベンズアルデヒド類（ａ１）及びモノヒドロキシベンズアルデヒド類（ａ２）を含有し、その重量比（ａ１／ａ２）が５０／５０〜９５／５である芳香族アルデヒド類（Ａ）とを含むことを特徴とするフォトレジスト用ノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法により達成できる。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、耐熱変色性等に優れる皮膜を形成できるとともに、該樹脂を含む樹脂組成物の保存安定性が極めて高く合成も容易なポリマーを提供する。
【解決手段】 （Ａ）アルカリ可溶性基を含むモノマー単位、（Ｂ）オキシラン環、オキセタン環又はオキソラン環を含有する重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位、及び（Ｃ）Ｎ−置換マレイミド等の重合性不飽和化合物に対応するモノマー単位からなる共重合体であって、前記モノマー単位（Ｂ）の割合が全モノマー単位に対して１重量％以上４０重量％未満であり、且つ前記モノマー単位（Ｂ）のうち６０重量％以上が特定の３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン環含有化合物に対応するモノマー単位であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト性能に悪影響を及ぼす低分子量成分を効果的且つ簡便に除去した樹脂の製造方法及び樹脂を提供し、さらに、レジスト性能（露光ラチチュード・ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）・現像欠陥・保存安定性）が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂の製造方法に於いて、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含む溶液（ａ）に貧溶媒を含む溶媒（ｂ）を添加して溶液（ｃ）を調製する工程と、溶液（ｃ）を貧溶媒を含む溶媒（ｄ）に添加して酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を析出させる工程を含む酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂の製造方法、その製造方法によって製造された樹脂、その樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮特性、ラビング耐性、耐熱性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を形成することができ、焼成時の昇華物の発生およびＬＣＤ表示における焼き付きが抑制され、負荷荷重に対し塑性変形を起こしにくく、配向膜剥離液などの薬液に対する十分な耐性を備えたスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に２つ以上の重合性不飽和基を含む化合物に由来する重合単位を少なくとも１種含む共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物および（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有するスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】９，１０−ジアルコキシアントラセン−２−カルボン酸化合物の製造方法、およびこの化合物の用途を提供する。
【解決手段】９，１０−ジアルコキシアントラセン−２−カルボン酸化合物を製造するにあたり、まず、９，１０−アントラキノン−２−カルボン酸を還元して、ついで、これをエーテル化することを特徴とする、９，１０−ジアルコキシアントラセン−２−カルボン酸化合物の製造方法、得られた化合物を含む可視光重合開始剤、可視光重合開始剤を含む光硬化性組成物の硬化方法。 （もっと読む）

【課題】各成分が均一に分散し品質バラツキがない感光性組成物および光記録媒体を提供する。
【解決手段】感光性組成物を形成する成分を第一の溶媒中に溶解させた溶液を凍結させて、得られた固形物を減圧雰囲気中で乾燥させることを特徴とする粉末状感光性組成物の製造方法、この感光性組成物、およびこの感光性組成物から形成された光記録媒体。 （もっと読む）

【課題】半導体製造等の微細なパターン形成に用いられる、従来品よりも高感度で、パターン倒れが改良された高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造の連鎖移動剤と重合開始剤とを使用してエチレン性二重結合を有する重合性化合物を重合させる高分子化合物の製造方法において、特定構造の連鎖移動剤（Ｓ）と重合開始剤（Ｉ）との添加モル比（Ｉ／Ｓ）が、１．０以下であることを特徴とする高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】一部メチレン基が酸素に置換されていてもよいノルボルナン骨格と珪素原子とが直接結合された構造を有する側鎖を持ったシルセスキオキサンユニットを含有する縮合度が実質的に100％であるシルセスキオキサン系化合物混合物であり、該ノルボルナン骨格の珪素が結合していない側のジメチレン鎖が１つ以上の水素以外の置換基により置換されており、かつ、該ジメチレン鎖上の、より嵩高い置換基がｅｘｏ位を占める異性体の比率の方が高い側鎖を持ったシルセスキオキサンユニットを含有する。
【効果】本発明は、特に化学増幅ポジ型レジスト組成物に好適な実質的に100％の縮合度を持つシルセスキオキサン系化合物あるいはその混合物を与える。更に、本発明により得られる100％の縮合度を持つシルセスキオキサン系化合物混合物を用いたレジスト組成物は、従来のものに比較して、高い解像性、特に微小な繰り返しパターンの形成に対し高い性能を有する。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高解像性、ラインエッジラフネス、疎密依存性、露光マージンについて良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ヒドロキシスチレン単位（１）と酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる(メタ)アクリル酸エステル単位（２）を含み、（２）の混入量が０．１質量％以下である、アルカリ現像液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、オキシム基を含むフォトレジストモノマー、ポリマー及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記フォトレジストモノマーは、下記化学式で表される。


式中、Ｒ^＊は各々独立的に水素又はメチル基であり、Ｒはエーテル基を含むか又は含まない置換又は非置換の炭素数１〜２５のアルキル基であるか、あるいは、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基又はマルチシクロアルキル基を含み、エーテル基、ケトン基又は硫黄を含むか又は含まない置換又は非置換の炭素数４〜２５の炭化水素基である。 （もっと読む）