【課題】良好な保存安定性、光感度及びアルカリ現像性を維持しつつ、硬化後の耐熱性、ＨＡＳＴ耐性及び耐クラック性に優れる感光性樹脂組成物、並びに、これを用いた感光性エレメント、ソルダーレジスト及びプリント配線版を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）増感剤と、（Ｅ）下記一般式（１）で表されるビスアリルナジックイミド化合物と、（Ｆ）特定構造のビスマレイミド化合物と、を含有する、感光性樹脂組成物。一般式（１）中、Ｒは炭素数１〜３６のアルキレン基を示す。
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【課題】平版印刷版原版から作成した平版印刷版における白抜けを防止することができる平版印刷版原版包装体を提供すること。
【解決手段】合紙を挿入することなく積層されたネガ型平版印刷版原版の少なくとも最上部に、厚紙の片面又は両面にプラスチックが存在する厚紙のプラスチック面が前記平版印刷版原版の記録層と対向するように載置され、前記積層された平版印刷版原版及び前記厚紙の全体が遮光部材により包装されたことを特徴とする、平版印刷版原版包装体。 （もっと読む）

【課題】硬化物が可とう性を備え、基板に積層した場合に反りの発生を極力抑制することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（Ａ）シロキサン含有ポリアミド酸樹脂、（Ｂ）二官能の（メタ）アクリレート及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する。（Ａ）成分は、芳香族テトラカルボン酸無水物を含む酸無水物成分と、シロキサンジアミンを含むジアミン成分とを反応させて得られるシロキサン変性率が８５〜１００％の範囲内のシロキサン含有ポリアミド酸樹脂であり、（Ａ）成分１００重量部に対し、（Ｂ）成分を５〜６０重量部、（Ｃ）成分を０．５〜２０重量部含有する。さらに、（Ｄ）有機ホスフィン酸の金属塩を２０〜４０重量部含有することにより、難燃性を持たせることができる。 （もっと読む）

【課題】現像液中においてカスの発生を抑制でき、感度、耐刷性、及び、現像性に優れた平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される単量体単位を有するバインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和化合物、及び、（Ｃ）重合開始剤を含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版。式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ²は酸素原子又はＮＲ³を表し、Ｒ³は水素原子又は炭素数１〜１０の一価の炭化水素基を表し、Ｌ¹は水素原子以外の構成原子の数が２〜１０である二価の連結基を表し、Ｌ²は水素原子以外の構成原子の数が２〜５０である（ｎ＋１）価の連結基を表し、Ａ−Ｈは酸解離定数（ｐＫａ）が１１以下である残基を表し、ｎは１〜５の整数を表す。
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【課題】
流動性、及び諸耐性に優れる安定なカラーフィルタ用着色組成物、並びに、コントラスト比が高いカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】
前記課題は、酸性顔料、片末端領域に水酸基を有するビニル系重合体の水酸基と芳香族テトラカルボン酸ニ無水物の酸無水物基とを反応して得られた分散剤（Ａ）、３級アミノ基を有するビニル系樹脂（Ｂ）、有機溶剤（Ｃ）、活性エネルギー線重合性単量体（Ｄ）、活性エネルギー線重合開始剤（Ｅ）、及び、バインダー樹脂（Ｆ）を含有してなるカラーフィルタ用着色組成物によって解決することができる。 （もっと読む）

【課題】良好な現像性を示し、焼成後の反りが小さく、難燃性を発現する感光性組成物及び該感光性樹脂組成物からなる感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】
（Ａ）アルカリ溶解性ポリイミド及び／又はポリイミド前駆体、（Ｂ）芳香族性水酸基を有するホスファゼン化合物の水酸基の一部の水素原子がキノンジアジド構造を有する官能基で置換されているキノンジアジド化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、パターン形状に優れた微細パターンを提供することができる、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される構造を含む繰り返し単位及び下記一般式（Ｉ）で表される構造を含む繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式（１）及び（Ｉ）中の符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】


【化２】
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【課題】マイクロブリッジ欠陥やＢＬＯＢ欠陥と呼ばれる各種現像欠陥が低減されたパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有する疎水性樹脂、を含有してなり、樹脂(A)が、極性基を含む保護基を有する繰り返し単位を有し、かつ、疎水性樹脂（Ｃ）が、下記(x)〜(z)の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：(x)アルカリ可溶性基；(y)アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する基；(z)酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する感活性光線または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】イオン性構造部位を有し、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、少なくとも１個のフェノール性水酸基を有し、その水酸基の水素原子の一部又は全部が酸の作用により脱離する基で保護された基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを有する樹脂（Ｐ）を含有し、樹脂（Ｐ）が有する繰り返し単位（Ａ）のイオン性構造部位が、活性光線または放射線の照射により樹脂の側鎖に酸アニオンを生じる構造であり、且つ、発生した酸のｐＫａが０以下であることを特徴とする、感活性光線または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、および当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と下記一般式（ｆ２−１）［式中、Ｗは多環式の脂肪族環式基を含む基である。］で表される構成単位（ｆ２）とを有する含フッ素高分子化合物（Ｆ１）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成したレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱し、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。レジスト膜１０２を構成するレジスト材料には、イオン性の光酸発生剤と、酸脱離基と親水性基とを含む第１のポリマーと、第１のポリマーと比べて光酸発生剤に対する親和性が小さい分子又は第２のポリマーとを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】臭素化エポキシ樹脂やハロゲン系難燃剤を用いずに優れた難燃性を得ることができ、解像性、密着性、耐熱性、耐薬品性、耐折性に優れ、燃焼時の臭化水素やダイオキシン類等の有害ガスの発生が抑制された感光性熱硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）１分子中に（メタ）アクリロイル基とカルボキシル基とを有し、希アルカリ溶液に可溶な樹脂成分、（Ｂ）エポキシ基を有する熱硬化成分、（Ｃ）下記一般式［１］で示される（メタ）アクリロイル基含有リン化合物、


（但し、式中、Ｒ^１は水素またはメチル基を示す。）
（Ｄ）ホスファゼン化合物、（Ｅ）光重合開始剤、および（Ｆ）希釈剤を含有する感光性熱硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に、連結基を介してその環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−１）、側鎖に、酸解離性基を有するエステル基と、連結基を介したエステルを縦に連結した（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ０−２）、および側鎖に酸解離性基を有する（メタ）アクリレート構造で表される構成単位（ａ１−０−１）を有し、全構成単位に対し、構成単位（ａ０−１）の割合は１０〜４０モル％であり、構成単位（ａ０−２）の割合は５〜２０モル％であり、構成単位（ａ１−０−１）の割合は１０〜５５モル％である高分子化合物（Ａ１）。 （もっと読む）

【課題】保護層に対して適度な剥離性と適度な密着性とを発揮するカバーフィルム、およびカバーフィルムと保護層との間に適度な剥離性と適度な密着性とを兼ね備えた凸版印刷用の感光性樹脂構成体を提供すること。
【解決手段】表面に樹脂層４２を有し、該樹脂層が、酸変性成分１〜１０質量％の酸変性ポリオレフィン樹脂と、架橋剤および／またはポリビニルアルコールとを含有し、架橋剤がカルボジイミド化合物および／またはオキサゾリン化合物にて構成され、酸変性ポリオレフィン樹脂１００重量部に対する架橋剤の含有量Ｘ（質量部）と、ポリビニルアルコールの含有量Ｙ（質量部）とが以下の関係式；１≦Ｘ≦５０かつ０≦Ｙ≦１０００；または０≦Ｘ≦５０かつ５≦Ｙ≦１０００；の少なくとも一方を満たすカバーフィルム４。ベースフィルム１、感光性樹脂組成物層２、保護層３、および上記カバーフィルム４の順に積層された構造を有する凸版印刷用感光性樹脂構成体。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥の発生が抑制され、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中の符号は、明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れる。
【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、下記式（１）で表される酸解離性基を有する繰り返し単位と、下記式（２）で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位との２成分のみからなる共重合体である酸の作用によりアルカリ易溶性となる樹脂成分と、放射線により酸を発生する酸発生成分とを含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】副生成物がなく、耐熱性が改善された光塩基発生剤、さらに高温キュアの必要がないアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板を提供。
【解決手段】光塩基発生剤は、式（１）で表されるアシルオキシイミノ基を含有し、光による解裂部位を環状構造内に含む環状化合物を含有することを特徴とし、感光性樹脂組成物は、光塩基発生剤とポリアミド酸とを含有。


（式中、Ｘ¹は４価の有機基であり、ｎは０〜３の整数を表す。Ｒ^１は芳香族基または炭素数が１以上のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工基板上に、酸不安定基の脱離によってアルカリ性現像液可溶になる樹脂、光酸発生剤又はこれと熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料を塗布しレジスト膜を形成する工程、位相シフトマスクを用いて露光し、露光後加熱しアルカリ性現像液で現像してポジ型パターンを得る工程、パターンを露光又は加熱し、上記樹脂の酸不安定基を脱離させアルカリ溶解性を向上させ、樹脂に架橋を形成させ上記ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物用の有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜を形成する工程、上記架橋形成されたポジ型パターンをアルカリ性ウェットエッチング液で溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 得られる硬化物に十分なメルト性を得られながら十分な耐熱性が得られる感放射線性組成物、これを用いて形成されるマイクロレンズおよびその形成方法の提供。
【解決手段】 感放射線性組成物は、（Ａ）成分：不飽和二重結合基を有するポリシロキサンと、（Ｂ）成分：上記（Ａ）成分以外のポリシロキサンと、（Ｃ）成分：少なくとも２つ以上のメルカプト基を有する有機化合物と、（Ｄ）成分：感放射線剤と、（Ｅ）成分：溶剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）