【課題】高精度で、且つ電子線照射時間を短縮し製造効率の高い３次元モールドの製造方法の提供。
【解決手段】基体上にオルガノポリシロキサンで構成されるレジスト層を有する被加工体の該レジスト層に電子線を照射する照射工程と、電子線を照射した後のレジスト層を現像してレジスト層に凹凸部を形成する現像工程と、を有し、前記照射工程では、１次電子は前記基板に到達せず且つ２次電子は前記基板に到達するような加速電圧で照射する工程を含むことを特徴する３次元モールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板検査ユニットを組み込むにあたって占有面積が狭く、不利なレイアウトを避けることができる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】液処理ユニット及び加熱ユニットを含む塗布膜形成用のブロック及び加熱ユニット及び現像液を基板に塗布する処理ユニットを現像処理用のブロックを関そうして処理ブロックを形成し、キャリアブロックと処理ブロックとの間に、各ブロックの搬送手段との間で基板の受け渡しを行なうための棚状の受け渡しステージ群と、各受け渡しステージに対して基板の受け渡しを行う昇降自在な上下搬送手段と、を設け、前記塗布膜形成用のブロック、現像処理用のブロックの少なくともいずれか一方に各ブロックの基板搬送手段により搬送される基板の検査を行う基板検査ユニットが設けられるように塗布、現像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】基板を回転しつつ基板に処理液を供給して基板に液処理を行う液処理装置であって、基板に対する処理液のミストの再付着を抑制することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能なウエハ保持部１と、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷを囲繞し、ウエハＷとともに回転可能な回転カップ３と、ウエハＷの表面に処理液を供給する表面処理液供給ノズル４と、回転カップ３の排気および排液を行う排気・排液部６とを具備し、回転カップ３は、ウエハ保持部１に保持されたウエハＷに外側から内側に流れる気流をトラップ可能な気体溜まり部３２ａを有する。 （もっと読む）

【課題】現像液に対する溶解性が良好であり、吸水率が低いパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、（ａ）下記一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位から主としてなるポリマーと、（ｂ）現像液に対する溶解促進剤と、及び（ｃ）溶媒とを含有する。
【化１】


［式中、Ｒ¹は三価又は四価の有機基、Ｒ²は二価の有機基、Ｒは炭素炭素不飽和二重結合を有する一価の有機基又は炭素炭素不飽和二重結合を有する化合物がイオン結合したＯ^-Ｍ⁺（Ｍ⁺は水素イオン又は炭素炭素不飽和二重結合を有する化合物と水素からなる陽イオンを表わす。）で表される基であり、全繰り返し単位中に炭素炭素不飽和二重結合を少なくとも１つ含み、ｍは２以上の整数であり、ｎは１又は２である。］ （もっと読む）

【課題】 微小画像の形成性および文字部の耐カケ性を同時に満たす感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、ブタジエンを主体とする重合体ブロックを一つ以上有する熱可塑性エラストマー（ａ）、液状の共役ジエンゴム（ｂ）、光重合性モノマー（ｃ）および光重合開始剤（ｄ）を含有するフレキソ印刷用感光性樹脂組成物であって、光重合性モノマー（ｃ）が、少なくとも、アルカンジオールジメタクリレート（ｃ1）およびアルカンジオールジアクリレート（ｃ２）を含有し、感光性樹脂組成物中のｃ２量が３.１ｗｔ％以上で、且つｃ１とｃ２の比率（ｃ1／ｃ２）が０.６１以上であることを特徴とする樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】自己組織化単分子膜を形成でき、かつ長波長の光で感光する新規な化合物、該化合物を含有する膜形成用組成物および当該膜形成用組成物を用いた積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１〜Ｒ^３はそれぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基であり、ａは２〜１１の整数であり、Ｘは、隣接する酸素原子と当該酸素原子に結合した窒素原子との間の結合が開裂した際に親水性基を形成する基であり、Ｒは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、２つのＲはそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。］で表される化合物。
［化１］
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【課題】従来より低温、例えば２００℃で加熱した時の揮発成分が低減された半導体装置等用保護皮膜の提供。
【解決手段】ポリアミドと光重合性の不飽和結合を有する下記式（３）で表されるイソシアヌル酸誘導体とを必須成分とする感光性樹脂組成物。
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【課題】パターンの膨潤による変形及びパターン倒れを抑制するとともに、高アスペクト比のパターンを得ることのできる超臨界現像プロセス用レジスト組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ現像液処理を行うことなく、超臨界現像プロセスにより、現像処理を実施する超臨界現像プロセス用のレジスト組成物であって、酸の存在下においては前記超臨界現像剤により除去されることのない基材樹脂（Ａ）と、光及び／又は電磁波に感応して酸を発生する酸発生剤（Ｂ）と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】基材及び感光性樹脂層との接着力が強く、構成成分が基板へ移行することのない接着層形成用組成物、及びこれを用いた凸版印刷版、並びに凸版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の接着層形成用組成物は、（ａ）カルボキシル基含有ポリマー、及び（ｂ）カルボジイミド基含有ポリマーを含有する接着層形成用組成物である。本発明の接着層形成用組成物を用いて形成された接着層２０は、凸版印刷版における基材１０と感光性樹脂層３０とを接着する接着層として好ましく用いることができる。 （もっと読む）

【課題】基材及び感光性樹脂層との接着力が強く、構成成分が基板へ移行することのない接着層形成用組成物、及びこれを用いた凸版印刷版、並びに凸版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の接着層形成用組成物は、（ａ）カルボキシル基含有ポリマー、及び（ｂ）オキサゾリン基含有ポリマーを含有する接着層形成用組成物である。本発明の接着層形成用組成物を用いて形成された接着層２０は、凸版印刷版における基材１０と感光性樹脂層３０とを接着する接着層として好ましく用いることができる。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス、多層配線基板などの電気・電子材料の製造用として有用な、特にＬＳＩチップのバッファコート材料として好適な厚膜、低収縮、低応力に優れると同時に、下地金属配線との密着力の改善及び伸度の改善されたシロキサン構造を有する感光性樹脂組成物、及び該感光性樹脂を硬化して得られた膜を得ることを目的とする。
【解決手段】特定の有機シランを含む化合物を、ターシャリーブトキシチタンの存在下で４０℃〜１５０℃以下の温度で０．１〜１０時間重縮合して液体樹脂を得るステップを含むプロセスによって得られる感光性樹脂組成物及び該感光性樹脂を硬化して得られた膜。 （もっと読む）

【課題】安価で大きな出力のレーザパワーが得られる赤色半導体レーザを用いても微細なパターンが露光可能なレジスト材料を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体装置の製造の際、パターンを形成するために使用されるレジスト膜において、レーザ光の照射によって感光し性質が変化する感光膜１０２と、パターンを形成するためのマスク層１０４と、マスク層１０４を感光膜１０２から剥離するための剥離層１０３と、を有し、感光膜１０２は、遷移金属の不完全酸化物からなり、不完全酸化物は、酸素の含有量が遷移金属のとりうる価数に応じた化学量論組成の酸素含有量より小さい材料である。 （もっと読む）

【課題】レリーフパターン製造時の現像工程における処理時間を短縮可能で、かつ高い解像度と保存安定性を有する感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸エステル１００質量部、（ｂ）光重合開始剤１〜２０質量部、及び（ｃ）有機溶媒３０〜６００質量部を含む組成物であって、（ｃ）有機溶媒中に占めるＮ−エチル−２−ピロリドンおよび／または１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの含有量が（ｃ）有機溶媒全量に対して５０質量％以上であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】
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【課題】レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。
【解決手段】先ずレジスト膜の表面に液層を形成した状態で露光した後の基板から保護膜を除去する。次に基板を加熱処理した後、基板の現像処理を行う。この態様において、前記保護膜を除去する前に露光後の基板の表面を洗浄液により洗浄するか、あるいは前記保護膜を除去した後、基板を加熱処理する前に、基板の表面を洗浄液により洗浄する。 （もっと読む）

【課題】処理量に面内ばらつきが生じることを抑制できる半導体基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体基板処理装置は、半導体基板１を保持するステージ１０と、ステージ１０を回転させるためにステージ１０の下面に取り付けられ、かつ取付位置が可変である回転軸１２と、ステージ１０に保持された半導体基板１上に薬液を供給する薬液供給手段１６とを具備する。この半導体基板処理装置によれば、半導体基板を薬液で処理している時に半導体基板を回転させることにより、薬液を攪拌する。回転中心に位置する薬液の攪拌量は他の領域と比較して小さいが、この半導体基板処理装置では、ステージ１０に対する回転軸１２の取り付け位置を変更することができる。従って、薬液を攪拌する処理の間で回転中心を変更することにより、薬液の処理量に面内ばらつきが生じることを抑制できる。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを具現し、向上した耐エッチング性を有するフォトレジスト組成物及びこれを用いるフォトレジストパターンの形成方法が提供する。
【解決手段】フォトレジスト組成物は、非線形低分子化合物、架橋剤、感光剤、及び有機溶媒を含む。フォトレジスト組成物は、ビルディングブロックの大きさが低減される。そのため、分子レベルの解像度を有する微細なパターンを具現することができる。また、フォトレジスト組成物は、架橋剤を含んでいるので耐エッチング性を向上させることができる。 （もっと読む）

内層および外層並びに輻射線吸収化合物を含んで成るポジ型画像形成性要素。前記内層は第１高分子材料を含む。前記インク受容外層は、ポリマー主鎖と前記ポリマー主鎖に結合された−Ｘ−Ｃ(＝Ｔ)−ＮＲ−Ｓ(＝Ｏ)₂−部分（式中、−Ｘ−はオキシ又は−ＮＲ’−基であり、ＴはＯ又はＳであり、Ｒ及びＲ’は独立して、水素、ハロ、又は炭素原子数１〜６のアルキル基である）とを含む第２高分子バインダーを含む。熱画像形成後に、前記要素をアルカリ性現像剤を用いて現像することができる。特定の第２高分子バインダーにより、現像剤中でのスラッジ生成が低減される。現像剤中でのその溶解速度は、外層の非画像形成領域内の現像剤攻撃に抵抗するのに十分に遅いが、しかし、第２高分子バインダーが、画像形成された領域から素早く解放され、かなりの時間にわたって懸濁又は溶解された状態にしておかれるのに十分に速い。 （もっと読む）

【課題】厚膜形成性，硬化性，耐熱性等に優れた重合体を作製可能とする新規なオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路の提供。
【解決手段】フェノール類を、セシウム塩によりセシウムフェノラート化し、次いで、スルホン酸エステルと反応させて、下記の代表的化合物で表される、アダマンタン構造を有するビスオキセタンエーテル化合物の製造。
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【課題】 高耐熱を有すると共に高屈折率化が容易で、光導波路を作製するのに十分な屈折率差をつけることが可能な光導波路用感光性樹脂組成物等を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に少なくとも２つ以上の脂環エポキシ基を有し、かつ、分子内に少なくとも１つ以上の芳香環を含有する重合性化合物を含有する光導波路用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】フレキソ印刷フォームとして使用される感光性印刷要素と、この要素からフォームを作製するための方法を提供すること。
【解決手段】感光性要素は、エラストマー結合剤と、光開始剤と、エラストマー結合剤に架橋することができる有機材料に結合されたシリカ粒子を含んだモノマーとを含む、光重合性組成物の層を有する。 （もっと読む）