【課題】インキ着肉性が良好な直描型水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に、少なくとも感熱層、およびシリコーンゴム層を有する直描型水なし平版印刷版原版であって、前記感熱層の表面の中心平均粗さ（Ｒａ）が２５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。また感熱層表面をドライエッチング処理により粗面化することが好ましく、それにより、インキ着肉性が良好な直描型水なし平版印刷版原版を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性を従来よりも向上させたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】レジスト組成物に、レジストと、ハロゲンを含まない芳香族系溶媒と、芳香族系溶媒に１０重量％以上溶解するフラーレン誘導体とを含有させる。 （もっと読む）

【課題】アニソールに代表されるアルコキシベンゼン溶媒への溶解性を有するフラーレン誘導体、並びにそのフラーレン誘導体を含有する溶液、及びそのフラーレン誘導体を含有する膜を提供する。
【解決手段】常圧２５℃におけるアニソールへの溶解性が１０重量％以上であり、且つフラーレン骨格の下記式（Ｉ）で表わされる部分構造において、Ｃ¹が水素原子又は任意の置換基と結合しており、少なくともＣ⁶〜Ｃ⁸が例えばアニソール構造と結合していることを特徴とするフラーレン誘導体を用いる。


（前記式（Ｉ）中、Ｃ¹〜Ｃ¹⁰は何れもフラーレン骨格を構成する炭素原子を表わす。） （もっと読む）

【課題】画像記録用着色組成物および画素形成用着色組成物に使用された場合、優れた特性を有するフタロシアニン系色素を含む着色組成物、それらの製造方法、着色方法などを提供すること。
【解決手段】アルキル基および／またはアルキルオキシ基を有するフタロシアニン系色素（アルキルフタロシアニン系色素）を含有することを特徴とする画像記録用・画素形成用着色組成物。 （もっと読む）

【課題】工程が簡便で、歩留まりが高く、高精度なアスペクト比の高い微細な構造体の形成を可能にする感光性樹脂製の転写層並びに高アスペクト比の構造体を有する成形体を簡便に作成する方法を確立する。
【解決手段】表面に凹凸の設けられた基板と表面に感光性樹脂層が形成された基材とを該凹凸と感光性樹脂層が内側になるように対向させ、次いで、前記基板と感光性樹脂層を圧着させた後、基材を感光性樹脂層から剥離することにより凹凸の設けられた基板上に感光性樹脂製の転写層を形成する方法において、前記感光性樹脂層が多官能エポキシ樹脂及び光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする前記転写層の形成方法、及びこのようにして得られた転写層にフォトリソグラフィーによるパターニングを施すことにより得られる高アスペクト比の構造体を有する成形体。 （もっと読む）

【課題】
ガラス転移温度及び熱重量減少温度といった耐熱性、並びに現像性、感度、及び解像度といった感光性に優れた効果を有するポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリフェニレンエーテル１００質量部に対して、（Ｂ）酸触媒の存在下、架橋反応を起こすＣＨ_２ＯＲ基（ここで、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示す。）を有する架橋剤１０〜４０質量部、（Ｃ）ナフタレン核またはアントラセン核を有する光酸発生剤２〜２０質量部、および（Ｄ）溶媒４００〜２５００質量部を含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料などに有用な単分子膜およびそれらが複数積層した積層膜を提供する。
【解決手段】 シルセスキオキサン誘導体からなるアクリル系又はスチレン系付加重合性単量体と一般式（Ｂ）で表される付加重合性単量体との共重合体の単分子膜を基板に被覆することによって、単分子膜、または積層膜を得る。


（一般式（Ｂ）において、Ｒ^bは水素もしくはメチルを表し、Ｚ²は−ＮＨ−であり、ｎは２〜２０の整数である。） （もっと読む）

【課題】電子部品の絶縁材料や半導体装置におけるパッシベーション膜、バッファーコート膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜などに用いられる、低残留応力及び強靭性（高伸度）を有する薄膜パターンを形成するためのネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表されるポリアミド共重合体１００質量部に対して、（Ｂ）放射線照射により酸を発生する化合物０. ５〜２０質量部、及び（Ｃ）酸の作用により上記（Ａ）共重合体を架橋し得る化合物３〜４０質量部を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。
【化１】
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【課題】感光性導体ペースト中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題のない積層チップ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 導体層転写シート２２によれば、感光性導体ペースト１８は転写支持体１２の一面にビヒクル層１０を介して塗着されていることから、所定のパターンの導体層１８を形成するための露光および現像時において、必ずしも十分な露光・現像性能を必要とせず、感光性樹脂、重合開始剤等の樹脂成分である樹脂量の少ない導体ペーストを用いることができる。したがって、感光性導体ペースト１８中の感光性樹脂成分の含有量を少なくしても露光・現像に際して残査の問題が生じない。 （もっと読む）

【課題】波長４００〜４４０ｎｍの露光において、十分な感度及び解像度でレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー（Ｂ）重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物（Ｃ）光ラジカル重合開始剤（Ｄ）下記一般式（１）で表される化合物を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブの表面に陽イオン重合に参加することが可能なオキシラン基又はアンハイドライド基を導入し、前記カーボンナノチューブを光酸発生剤又は光塩基発生剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、フォトマスクを介してＵＶに露光させ、露光部でカーボンナノチューブの陽イオン重合を誘発した後、非露光部を現像液で除去することにより、カーボンナノチューブのネガティブパターンを形成する。また、カーボンナノチューブを熱硬化剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、熱硬化させてカーボンナノチューブ高分子複合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。
【解決手段】特定の骨格を有する有機溶剤可溶性のポリイミド樹脂と、（ｂ）活性光線照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型感光性ポリイミド樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】可視光領域で高感度な光反応性を持つ機能性支持体、及び、それを用いて形成された、高感度で、加熱保存後も経時的な膜厚の減少が抑制されたグラフトパターン層を備えるグラフトポリマー層積層体、それを用いて得られる金属イオン含有材料、金属膜積層体を提供する。
【解決手段】支持体上に、光重合開始能を有する開始部位と支持体との結合部位とを有するオキシムエステル化合物を、該結合部位を介して結合させてなる機能性支持体である。該機能性支持体表面に、重合性基を有する化合物を含む組成物を接触させた後、エネルギーを付与することで、支持体表面に直接結合してなるグラフトポリマー層を有するグラフトポリマー層積層体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路、プリント配線基板又は液晶パネルの製造に用いることのできるフォトレジスト技術に関し、ポジ型フォトレジストである従来の反応現像画像形成法を高感度に改良し、露光量又は露光時間を大幅に削減する。
【解決手段】従来のフォトレジスト層が含むヘテロ原子に結合したカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に含む縮合型ポリマーと光酸発生剤に、下式の増幅剤を併用することにより、感度を改良した。 Ｒ^１−Ｙ−Ｘ−Ｏ−Ｒ^２（式中、Ｒ^１はアリール基等、Ｙは単結合等、Ｘはカルボニル基（−ＣＯ−）等、Ｒ^２はアルキル基を表す。）で表される。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路、プリント配線基板又は液晶パネルの製造に用いることのできるフォトレジスト技術に関し、従来のネガ型の反応現像画像形成法を高感度に改良し、必要な露光量や露光時間又は光酸発生剤量を大幅に削減する。
【解決手段】酸素原子を介してアルキル基を有する下記エステル化合物を増幅剤として、ポリマー、アニオン再生剤及び光酸発生剤と併用すると、その露光に対する感度が格段に改善することを見出した。 Ｒ^１−Ｙ−Ｘ−Ｏ−Ｒ^２（式中、Ｒ^１はアリール基等、Ｙは単結合等、Ｘはカルボニル基（−ＣＯ−）等、Ｒ^２はアルキル基を表す。）で表される。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体において、露光時に、感光性樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減でき、現像後に良好なパターンを得ることができる凸版印刷版製造用多層積層体、及びこれを用いて行う凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）支持体上に、（Ｂ）感光性樹脂層と、（Ｃ）マスク層と、がこの順に積層されてなり、前記マスク層が、（ａ）少なくとも１種の赤外線吸収性物質、（ｂ）少なくとも１種の紫外線吸収性物質、及び（ｃ）ポリビニルブチラールを含む、凸版印刷版製造用多層積層体。 （もっと読む）

【課題】シリコウエハーまたは有機薄膜上での塗布時の濡れ性、ＵＶ−ｉ線での感光特性に優れるポリオルガノシロキサン組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターン、及び半導体装置の提供。
【解決手段】 下記（ａ）〜（ｃ）の各成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。
（ａ）少なくとも１種の特定のシラノール化合物、及び少なくとも１種の特定のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部。
（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部。
（ｃ）非イオン性界面活性剤０．０１〜１０質量部。 （もっと読む）

【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、経時安定性に優れた感光性組成物、及び硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物と重合性化合物とを含有することを特徴とする硬化性組成物〔一般式（Ｉ）中、Ｒ、Ｒ^１、及びＲ^２は、各々独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。〕。
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【課題】高集積且つ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、高感度、且つトレンチパターンの解像性に優れ、更には疎密依存性の良好なパターンを形成する為のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（ウ）金属不純物の含有量が、１００ｐｐｂ以下の有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像を行う工程を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが小さく、パターン倒れ性能が良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の脂環炭化水素構造から選ばれる、異なる部分構造を有する繰り返し単位を少なくとも２種類有し、酸の作用により極性が増大し、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）