【課題】本発明は、効率よく着色層形成用塗工液の吐出量や、着色層形成用塗工液が塗布された際の色ムラ等を検査することが可能なカラーフィルタ製造用テストパターン基板を提供することを主目的としている。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、撥液性領域中に、インクジェットノズルから着色層形成用塗工液を塗布するための親液性パターンがパターン状に形成されているカラーフィルタ製造用テストパターン基板であって、上記親液性パターンが、製造されるカラーフィルタの着色層の形状と相似形状に２種類以上形成されており、かつ上記親液性パターンがノズルピッチの整数倍に合わせて配置されていることを特徴とするカラーフィルタ製造用テストパターン基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークを備える基板の位置決めにおいて、アライメントマークの正確な位置が未知である場合においても、正確に基板の位置合せを行なう。
【解決手段】基板２におけるアライメントマークの位置と同じ位置にアライメントマークを備える基準板を位置決めし、前記位置決めされた前記基準板におけるアライメントマークの位置を測定し、前記測定された前記アライメントマークの位置と同じ位置に前記基板のアライメントマークが位置するよう該基板を位置決めする。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタと遮光フィルタとを、これらの上面がカラーフィルタの配列領域からその周囲の画面外領域２０ｂに亘って規則的な凹凸面になるように形成する。
【解決手段】基板４上に、カラーフィルタの配列領域からその周囲の画面外領域２０ｂに亘って第一の遮光フィルタ９を格子形状に形成した後、第二の遮光フィルタ１０を、画面外領域２０ｂにおける第一の遮光フィルタ９の開口部に埋め込んで形成し、カラーフィルタ７の色要素７Ｒ，７Ｇ，７Ｂを、画面エリア２０ａにおける第一の遮光フィルタ９の開口部に埋め込んで形成する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルターの製造に用いる液滴吐出装置のインクの流路における汚れを好適に解消することができる液滴吐出装置の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の液滴吐出装置の洗浄方法は、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられる、着色剤と樹脂材料と着色剤を溶解または分散する液性媒体とを含むインクを吐出する液滴吐出装置の洗浄方法であって、液滴吐出装置の前記インクの流路に、インクを構成する液性媒体と同一の成分を含む第１の洗浄液を流す第１の洗浄工程と、第１の洗浄工程の後に、流路に、下記式（１０）で示される化合物Ａを含有する第２の洗浄液を流す第２の洗浄工程と、第２の洗浄工程の後に、前記流路に、前記インクを構成する前記液性媒体と同一の成分を含む第３の洗浄液を流す第３の洗浄工程と、を有することを特徴とする。
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【課題】偏光板の貼り付けなどの支障とならないと共に、入射した光の有効利用を図ることができる液晶表示パネルを提供することと。
【解決手段】複数の画素を備えた液晶表示パネル１は、ＴＦＴ１４および画素電極１５が設けられたＴＦＴアレイ基板１０と、画素電極１５に対向する対向電極２５が設けられたカラーフィルタ基板２０と、画素電極１５と対向電極２５との間に設けられた液晶層３０とを備えると共に、カラーフィルタ基板２０は、透明基板２０ａと、複数の画素に対応するように、該透明基板２０ａの液晶層３０側の面に凹設された複数の凹部２０ｂ内に設けられるレンズ形状を有した第１の着色パターン２２Ｒ１，２２Ｇ１，２２Ｂ１とこれに積層して設けられるレンズ形状を有した第２の着色パターン２２Ｒ２，２２Ｇ２，２２Ｂ２とから構成される着色マイクロレンズ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、従来は得ることが困難であった非常に微細な有機顔料を容易に製造する方法を提供することである。
【解決手段】粗製有機顔料と摩砕助剤と水溶性有機溶剤との混合物をソルベントソルトミリング法により混練する微細有機顔料の製造方法において、混練時に下記一般式（Ｉ）で表される有機酸の金属塩を有する有機物が存在することを特徴とする微細化有機顔料の製造方法。
一般式（Ｉ）

Ｘ−（Ｒ・Ｍ）ｎ（ｎ＝１〜３）

［式中、Ｘは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アリールアルキル基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、シクロアルキル基、または、ベンゼン環を表し、
Ｒはカルボン酸基、または、スルホン酸基を表す。
Ｍは有機酸の金属塩を誘導するための金属であり、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、バリウムから選ばれる。］ （もっと読む）

【課題】着色力、色相等の色彩的特性に優れ、耐熱性、耐光性、及び高コントラストを示すアゾ化合物およびその製造、アゾ顔料、アゾ顔料分散物及び着色組成物を提供することである。着色力、色相等の色彩的特性に優れ、かつ耐光性、耐オゾン性等の耐久性に優れ、また分散性、分散安定性、経時安定性に優れた顔料分散物を提供する。
【解決手段】ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が６．９°、２１．５°及び２７．３°に特徴的Ｘ線回折ピークを有し、１０．９°におけるピークの高さに対する１１．９°におけるピークの高さが０．６以下である下記式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、塩、水和物又は溶媒和物。
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【課題】明度およびコントラスト比に優れ、かつ、色むら、濃度むらの発生が抑制されたカラーフィルターをインクジェット方式により好適に製造することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルターの製造方法は、基板上に、感光性材料を含む遮光部形成用組成物を付与する工程と、露光により、遮光部形成用組成物を、現像液に対し溶解性の高い易溶性部と溶解性の低い難溶性部とを有するものとする工程と、易溶性部を除去し、難溶性部で仕切られた空間としてのセルを形成する工程と、セル内に、インクジェット方式で、着色剤を含む第１のインクを付与する工程と、加熱により、難溶性部を収縮させるとともに着色膜を形成する工程と、第１のインクが吐出されたセル内に、インクジェット方式で、熱硬化性樹脂を含む第２のインクを付与する工程と、加熱により、熱硬化性樹脂を硬化させ樹脂膜を形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、且つ光重合開始剤であるオキシムエステル光重合開始剤が加水分解せず、液状での保存安定性が良好で経時保管後における感度低下が抑制された重合性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）オキシムエステル光重合開始剤、（Ｂ）分子量３００以下の有機酸無水物、および（Ｃ）重合性化合物を含有する重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】着色力、色相、色再現性等の色彩的特性に優れ、耐熱性、耐光性、及び高コントラストを示すアゾ化合物、アゾ顔料、アゾ顔料分散物及び着色組成物を提供すること。さらに、該アゾ顔料を含有する着色組成物を提供すること。そして、特定の構造異性及び結晶多型に制御しながら再現性よく高効率に製造することのできるアゾ顔料の製造方法を提供すること。更に、該アゾ顔料の分散物を含む着色組成物を提供すること。
【解決手段】ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が６．９°、２５．８°及び２７．１°に特徴的Ｘ線回折ピークを有し、１１．９°におけるピーク高さに対する１０．９におけるピーク高さが０．２以下である下記式（１）で表されるアゾ顔料、その互変異性体、塩、水和物又は溶媒和物。
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【課題】デルタ配列する着色画素の角部が集合する部分に生じる隙間を起点にして発生する透明電極層のクラック発生の少ないカラーフィルタ基板の提供である。
【解決手段】基板上に、ブラックマトリックスとデルタ配列する着色画素層３，４，５をフォトリソ法により形成し、その後透明電極層を積層して製造するカラーフィルタ基板において、着色画素の角部が隣接する部位に生じる隙間部分７を感光性樹脂硬化物１０，１１により埋設したことを特徴とするカラーフィルタ基板であって、感光性樹脂硬化物が着色画素層かブラックマトリックスである。 （もっと読む）

【課題】再生処理を効率よく行うことを可能とした不良基板のロット構成方法を提供する
【解決手段】カラーフィルタ製造工程で発生した不良ガラス基板を再生処理して再利用するために少なくとも、前記不良ガラス基板のガラス材質情報と、前記不良ガラス基板のこれまで行われた再生回数情報と、前記不良ガラス基板の最後の製造処理が行われた最終処理工程情報と、ガラス基板の製造品名情報と、を用いて前記不良基板を再生工程に投入するためのロットに区分することを特徴とする不良基板のロット構成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好な色相を呈し、耐光性、耐熱性に優れた色画素を有すると共に、色画素との密着性に優れた酸素遮断層を有し、該酸素遮断層による輝度変化の小さい、平坦性に優れたカラーフィルタおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上にブラックマトリクスを設けるブラックマトリクス形成工程と、基板上に形成されたブラックマトリクスにより区画された凹部に、染料、および、重合性化合物を含有するインク組成物を充填する組成物充填工程と、充填されたインク組成物を予備処理する予備処理工程と、酸素遮断性化合物またはその前駆体を含有する酸素遮断性組成物を塗布する塗布工程と、充填されたインク組成物および塗布された酸素遮断性組成物を硬化する硬化工程と、をこの順に有する、カラーフィルタの製造方法。 （もっと読む）

【課題】バキューム・テーブルを備えたプリベーク装置で発生する、熱処理時の吸着状態や接触状態に起因するカラーフィルタ基板の面内で外観上のムラを発生させないプリベーク装置提供する。
【解決手段】加熱処理部７０Ａと冷却処理部７０Ｂで構成され、加熱処理部内に、加熱処理ローラー８０Ａが、その長手方向をガラス基板６０の搬送方向と直角にして、複数個が平行にフレーム８２Ａ間に、その上面を同一面として水平に設けられ、冷却処理部内に、冷却処理ローラー８０Ｂが、その長手方向を前記搬送方向と直角にして、複数個が平行にフレーム８２Ｂ間に、その上面を前記同一にして水平に設けられ、加熱処理ローラー上のガラス基板を水平に搬送しながら加熱処理を行い、冷却処理ローラー上のガラス基板を水平に搬送しながら冷却処理を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、カラーフィルタにおける同一機能部材を形成するのに有用な、階調マスクを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】列幅方向の膜厚変動が大きいために異なるカラーセンサチップ間における同色のカラーフィルタの列の膜厚のバラツキが大きくなることを防止し、安定した列幅方向の膜厚を実現するカラーフィルタの列を有するようなリニアセンサ用カラーフィルタの製造方法を提案すること。
【解決手段】カラーセンサチップを半導体基板上に複数配置するためのカラーフィルタの製造方法であって、各チップ間を仕切るスクライブラインを有し、スクライブラインに平行に最も近接して形成する色のカラーフィルタ列を１列目として、１列目を除く他のカラーフィルタ列の内、膜厚の小さい方の色の列を形成する工程で、同時にスクライブライン上にも着色パターンを形成し、しかる後に前記１列目のカラーフィルタ列を所定の位置に形成することを特徴とするリニアセンサ用カラーフィルタの製造方法。 （もっと読む）

【課題】着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｃ）；
（Ａ）着色剤、
（Ｂ）エポキシ基を有する化合物、並びに
（Ｃ）ケチミン及びアルジミンよりなる群から選ばれる少なくとも１種
を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物 （もっと読む）

【課題】温度変化等によって生じる基板の走査中の真直度ずれやヨーイングによるずれを補正し、基板の所定の位置に常に正確にインクを塗布することのできるインクジェット装置を提供すること。
【解決手段】基板の両側に付与されたスケールパターンを２個の第１センサで読み取り、位置演算部が位相差をゼロにするようθ軸搬送部を補正することにより、ヨーイングによるズレを抑制する。同様に、基板の両側に付与された直線パターンを２個の第２センサで読み取り、位置演算部が走査中の平均値の変動がゼロになるようＹ軸搬送部を補正する。更に、第１センサからの信号でインクジェット制御部のインク吐出タイミングの補正を行い、温度変化でヘッドユニットと基板の相対位置がずれた場合でも、正確にインクを基板の所定の位置に着弾させることができ、混色や輝度ばらつきなどの少ないデバイスを製作できる。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ形成方法における混色、白抜け等の抑制。
【解決手段】本発明のカラーフィルタ形成方法は、複数個の画素領域５からなる表示領域４を表面１１上に有するガラス基板１と、表示領域４を囲むようにガラス基板１上に形成される枠部２１と、この枠部２１内において表示領域４を画素領域５毎に区画するようにガラス基板１上に形成される格子部２２とを有するブラックマトリックス２と、を備えるカラーフィルタ用基板３の画素領域５に向けて、インクジェットノズル７から液滴状のインク８を吐出して、画素領域５にインク８からなる膜状のカラーフィルタ１５を形成する。インク８を吐出する前に、画素領域５に熱源１０を近付けて画素領域５を加熱して、画素領域５と、ブラックマトリックス２との間に温度差を設ける。 （もっと読む）

【課題】露光工程でのフォトマスクに起因した欠陥が発生しても、連続して作業を行うことを可能とする、カラーフィルタの露光による欠陥修正方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト層へのフォトマスクを介したパターン露光Ｐｅ、続く現像によりブラックマトリックス４１又は着色画素４２を形成する際に、フォトマスクに起因した共通欠陥Ｋ１を修正するために、現像後の検査にて予め検出された共通欠陥の位置、形状をもとにした第２露光２ｅを現像前に与えておくこと。第２露光にレーザー光を用いること。第２露光の形状を共通欠陥の形状より大きな形状とし、現像後に余分な領域を除去して所望の形状とすること。 （もっと読む）