【課題】 Ｘ線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び振幅型回折格子を安定的に供給可能な製造方法を提供する。
【解決手段】基板６に形成されているネガ型のＸ線感光性樹脂３０に、Ｘ線透過部とＸ線吸収部とを備えるＸ線マスク３１を用いてＸ線を照射する。そして、前記Ｘ線透過部を通過したＸ線、及び、前記Ｘ線吸収部を通過することによって通過前の１／５０以上１／１０以下となるように強度が低下したＸ線によって、Ｘ線感光性樹脂３０を露光する（露光工程）。そして、非露光部分３４を除去することによって、基板上に樹脂壁３６を形成するとともに、隣り合う樹脂壁３６の先端同士を接続する膜状の架橋部３５を形成する（現像工程）。その後、前記架橋部３５を除去するとともに（除去工程）、電鋳法により、前記樹脂壁と樹脂壁との間にＸ線吸収金属部１１を形成する（電解メッキ工程）。 （もっと読む）

【課題】 小型で駆動部の少ない回折格子及びこれを用いた分光装置を実現する。
【解決手段】 入射光を複数回分散して迷光を減少させた分散光を出射する回折格子において、入射光を分散させる格子が一方の面に形成された基板と、この基板の格子が形成された面に一方の面が密着して固定されたプリズムと、長手方向が格子の形成方向に平行になるようにプリズムの他方の面に形成された長方形のミラーと、プリズムの他方の面であってミラーの長辺に接すると共に格子の形成方向に垂直な方向にそれぞれ形成された２つの光吸収膜とを設ける。 （もっと読む）

【課題】基板内部に光が侵入することによる迷光の発生を低減し、耐環境特性を改善することができるレプリカ回折格子を提供する。
【解決手段】マスター回折格子１２の格子溝の表面にアルミニウム膜１４を形成し、該アルミニウム膜１４とフロートガラス基板１５とを接着剤１６を介して密着させた後に該フロートガラス基板１５をマスター回折格子１２から剥離させ、前記アルミニウム膜１４を前記フロートガラス基板１５に反転接着させることで格子面が形成されてなるレプリカ回折格子１０において、前記アルミニウム膜１４の厚みを前記格子溝の深さよりも大きくした。これにより、レプリカ回折格子１０の格子面の全体を充分な厚さのアルミニウム膜１４で覆うことができるので、レプリカ回折格子１０の内部に光が侵入することによる迷光の発生を低減し、耐環境特性を改善することができる （もっと読む）

【課題】 接着剤を用いずに、樹脂の位相差板上に直接回折格子を設けることで、小型・軽量で耐環境性能に優れる複合素子を提供する。
【解決手段】 折格子付き波長板において、ナノインプリント法によりフィルム樹脂表面に凹凸形状をつけて、フィルム樹脂表面に直接回折格子が形成される。 （もっと読む）

【課題】波長依存性が少なく、高効率で大きな分散が得られるような小型の分散光学システムを提供する。
【解決手段】入射光を入射して分散する分散プリズムと、上記分散プリズムの後段に配置され、上記分散プリズムから出射された光を入射して、該入射した光を出射して焦点面上に結像する結像レンズと、上記結像レンズの後段において上記結像レンズの上記焦点面近傍に配置され、上記結像レンズから出射された光を入射して、該入射した光の分散を拡大して出射する分散拡大レンズとを有し、上記分散拡大レンズは、上記結像レンズから出射される上記分散プリズムにより分散された光について、屈折角が大きいスペクトルの青側の光が上記分散拡大レンズの光軸近傍に入射して上記光軸近傍に結像し、屈折角が小さいスペクトルの赤側の光が上記分散拡大レンズのコバ側に入射して上記コバ側に結像するように配置した。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、最適な回折格子の設計を、自動かつ迅速に行うことのできる回折格子設計プログラムを提供することにある。
【解決手段】コンピュータ１２をパラメータ設定手段２２、シミュレーション手段２４、評価手段２５、パラメータ変更手段２６として機能させるための回折格子設計プログラム２０であって、該シミュレーション手段２４は、バーチャルに回折格子を作ってその回折及び結像をシミュレーションし、該評価手段２５は、該シミュレーション手段２４で得られた回折像の結像状態を評価し、該パラメータ変更手段２６は、最適化したいパラメータを順次変更し、該パラメータ変更手段２６からのパラメータでのシミュレーション、該評価及び該パラメータの変更を自動に繰り返し、該評価手段２５での評価点が最も高くなるパラメータ最適値を自動に探索することを特徴とする回折格子設計プログラム２０。 （もっと読む）

【課題】可視領域の全ての波長において良好なスリットの結像性能を有し且つ大量生産に向く凹面回折ミラー及びこれを用いた分光装置を提供する。
【解決手段】凹面で且つ非球面であるとともに表面に回折格子が形成された反射面、を備える凹面回折ミラーであって、回折格子は、反射面の中心点を通る面であるとともに該回折格子の分散方向の面である基準面に対して面対称な形状であり、且つ、前記中心点を通る仮想的な基準球面の該中心点での仮想的な接平面に対して該接平面法線方向に投影してなる形状が基準面と直交する方向に直線となる形状であり、反射面の基準面方向における断面形状は、前記中心点を挟んだ一方側の断面形状の曲率が該中心点からの離間距離が大きくなるほど基準球面の曲率よりも小さくなり、他方側の断面形状の曲率が該中心点からの離間距離が大きくなるほど基準球面の曲率よりも大きくなる形状である凹面回折ミラーとする。 （もっと読む）

【課題】簡単なプロセスで量産性に優れ、広い波長範囲で高い回折効率と大きな波長分離効果を実現するとともに、信頼性に優れた反射型回折格子を得る。
【解決手段】相対的に屈折率の大きな透明誘電体膜と相対的に屈折率の小さな透明誘電体膜とを交互に積層した誘電体多層膜からなる光学反射面が表面に形成された基板上に、断面が凹凸状でかつ凸部上面が実質的に平坦な透光性材料からなる格子を有する反射型回折格子であり、入射光の波長λに対する反射型回折格子の格子間隔Ｐの比率Ｐ／λが０．５５以上かつ１．４５以下である。光学反射面に光が斜めに入射して用いる。 （もっと読む）

【課題】軌道角運動量を持ったＸ線を回折波として発生させることができ、不要な０次の光を弱める又は完全に消すことができ、回折波の出射方向を容易に変えることができ、さらに、回折格子の拡大化が可能で、作成が容易な反射型回折格子ホログラムなどを提供する。
【解決手段】反射型回折格子ホログラム２は、入射波の入射面側に複数の凸部と凹部とが交互に規則的に配列されており、入射面側における最近接の凸部間の間隔と凹部間の間隔との和である格子周期ａが波長の２倍よりも大きく、かつ回折波が軌道角運動量を持つ場合の波面に基づいて、複数の凸部及び凹部の形状が形成されており、入射波を反射させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、格子を形成する部材の厚みをより薄くし得るＸ線用透過型回折格子、該Ｘ線用透過型回折格子を用いたＸ線タルボ干渉計およびＸ線撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明のＸ線用透過型回折格子１１は、一方向に線状に延びるＸ線を透過する複数の透過部Ｒ１と一方向に線状に延びるＸ線を透過しない複数の非透過部Ｒ２とが交互に平行に配設された格子を備え、前記非透過部Ｒ２は、入射Ｘ線が前記格子によって回折される方向とは異なる方向に前記入射Ｘ線の進行方向を変化させる。 （もっと読む）

【課題】プラスチック成型品の回折格子やハウジングからなるポリクロメータの熱的、非熱的な変化に起因する分散幅変化及び一律な波長変化を共に補正する。
【解決手段】入射スリットからの入射光を回折格子により回折して入射スリットの分散像を作成しこの分散像の情報を出力する分光装置と、１つ又は複数の定電流により駆動されるＬＥＤと、分光装置からの出力情報に基づき所定の演算を行うとともにＬＥＤ駆動を制御する演算制御装置とを備え、演算制御装置により以下第１〜第３の演算を行い、該演算結果から分光装置の波長変化を補正する。第１の演算：１つ又は複数の順電圧値及び順電圧初期値を用いてＬＥＤ単色光の波長変化量を算出。第２の演算：少なくとも２つの回折光出力値及び回折光出力初期値を用いて当該２つの回折光の波長変化量を算出。第３の演算：ＬＥＤ単色光の波長変化量及び上記２つの回折光の波長変化量を用いて分光装置の一律の波長変化量及び分散幅変化量を算出。 （もっと読む）

【課題】溝形成面（上面）全体に回折格子溝を形成することができ、且つ溝の方向を容易に確認することができるブレーズド型凹面回折格子を提供する。
【解決手段】凹面の平面形状を回折格子溝に平行な１辺を含む形状とし、その１辺の両端にある角部の角度を鈍角にする。例えば、平面形状を八角形とし、その八角形の１辺を回折格子溝に平行にする。これにより、平面形状が四角形である従来の角形凹面回折格子よりも角部の高さ及び勾配を小さくすることができ、それにより、溝作製時に照射されるイオンビームが角部により遮られることを防ぐことができる。そのため、溝形成面全体に回折格子溝を形成することができる。また、回折格子溝に平行な辺により、溝方向の設定が容易となる。 （もっと読む）

【課題】被測定光と回折光との角度関係に関わらず当該回折光の広がり角を設定可能とすることで、被測定光と回折光との角度を柔軟に変更可能とする。
【解決手段】入出射面４１が、回折面３１に対して、溝５の配列方向（ｙ方向）に傾斜されている。 （もっと読む）

【課題】容易に作製でき、特性の劣化を抑えることのできる透過型回折格子を提供する。
【解決手段】基板10と、基板10上に互いに平行に一定の周期ｐで設けられた複数のリッジ20とを備えた透過型回折格子100である。リッジ20は、屈折率が不連続な第１層11、第２層12（屈折率ｎ₂ ：2.0〜2.5）及び第３層13を含む。基板10に隣接する第１層11は、基板10との屈折率差が0.1以下である。第２層12は、第１層11及び第３層13よりも屈折率が高く、次の条件を満たす。第２層12の、１つのリッジ20当たりの、当該リッジ20の長さ方向に垂直な断面の断面積Ｓが、0.75ｐ² ｋ₁ θ² ／（ｎ₂ −１）＜Ｓ＜1.20ｐ² ｋ₁ θ² ／（ｎ₂ −１）の範囲にある。但し、θは回折格子面への入射角(単位はラジアン)、定数ｋ₁ は1.1である。第２層１２の厚さｄ₂ が、0.70ｐｋ₂ θｎ₂ ／（ｎ₂ −１）＜ｄ₂ ＜1.30ｐｋ₂ θｎ₂ ／（ｎ₂ −１）の範囲にある。但し、定数ｋ₂ は0.69である。 （もっと読む）

【課題】1-3keV（波長：0.4-1.2nm）のエネルギーをもつX線領域において、高い回折効率および高い耐熱性をもつ、回折格子に多層膜を適用した斜入射による全反射を利用した斜入射型の多層膜回折格子分光器を提供する。
【解決手段】ラミナー型回折格子基板１、またはブレーズド型の格子溝を表面に有する回折格子基板に、モリブデン（Mo）２と窒化ホウ素（BN）３、またはMo２と酸化ケイ素（SiO₂）３を成膜材料として用いた、Mo/BN多層膜、またはMo/SiO₂多層膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】製造工程の煩雑さを緩和することが可能な投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】反射型偏光変換膜反射型偏光変換膜２７が、偏光分離膜２６から射出されたｓ偏光のうち少なくとも一部の偏光方向をｐ偏光の偏光方向に変換する機能（位相差板としての機能）と、当該偏光方向を変換したｐ偏光を反射して偏光変換素子２３から射出する機能（反射膜としての機能）とを併せ持っているので、例えば従来の構成における位相差板と反射膜とを一つの部材として構成することができ、これらを別々に設けなくても済むことになる。これにより、偏光変換素子２３の部品点数を削減することができ、製造工程の煩雑さを緩和することが可能となる。ひいては、プロジェクタの製造工程の煩雑さを緩和することにつながる。 （もっと読む）

【課題】分光素子に刻設される微細な回折溝を簡明に高効率で精度よく形成する。
【解決手段】分光素子の中心を通る基準の回折溝の加工点座標を長さ方向に分割ピッチｄｙで生成してＮＣプログラムを出力し（ステップ２０１〜２０４）、隣接する回折溝の加工点座標を、分光素子の仕様で定まる溝ピッチｐから溝ピッチ算出関数Ｇによって算出してＮＣプログラムとして出力する処理を（ステップ２０５〜２０７）、Ｘ軸方向（回折溝の配列方向）の最大位置Ｘｍａｘまで反復する（ステップ２０８）。また、同様の処理をＸ軸方向の−側の最小位置Ｘｍｉｎまで反復する（ステップ２０９〜ステップ２１５）。溝ピッチ算出関数Ｇ、Ｚ座標算出関数Ｆ等の少数の関数にて回折溝の加工用のＮＣプログラムを生成できる。 （もっと読む）

【課題】分散素子、偏光子及びエッジフィルタの３種の素子の機能を併せもった素子を得る。
【解決手段】少なくとも表面が金属である基板４と、基板表面上に形成されて断面が矩形の誘電体からなる突条６が互いに平行に一定の周期で繰り返すように配置されたラメラー型回折格子層とを備え、回折格子層の格子周期Λは、入射光の入射角θ及び格子素材の条件下において入射光の波長領域で回折効率が０となるカットオフ周波数をもつ大きさに設定され、かつ回折格子層の格子幅Λ１と格子高さｈは、ＴＥ偏光が高反射率、ＴＭ偏光が低反射率となるように設定されていることにより、偏光子とエッジフィルタの機能を備えた複合型の反射型回折格子となっている。 （もっと読む）

【課題】高い精度で回折格子パターンを形成することができる回折格子用基板及び回折格子基板の製造方法を提供する。
【解決手段】回折格子用基板１０の上面１０ｂに感光剤層１５を塗布する塗布工程と、一部分の感光剤層１５を、上方からレーザ光５１で露光する露光工程と、一部分又は一部分以外の感光剤層１５を除去する除去工程とを含む回折格子基板１の製造方法に用いられる回折格子用基板１０であって、回折格子用基板１０の上面１０ｂから入射するレーザ光５１が、回折格子用基板１０の下面１０ａで少なくとも２回連続して反射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】分光技術で使用するための回折光学要素デバイスを提供する。
【解決手段】広いバンドの光が光源３１から光学要素２４に向かって放射され、そこから少なくとも１つの検出器２９、２９’へ透過させられる、分光技術で使用するための回折光学要素デバイスであって、該光学要素は、少なくとも２つが別々であるが、相互に対しオフセットされそして／又は部分的に重なり合っている複数のスペクトラム２５−２８を作るためにそれぞれの中心が相互に対し２次元的にオフセットされ、好ましくは部分的に相互に集積化されるのがよく、複数の回折性で、分散的に焦点合わせするパターンを有する。 （もっと読む）