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Fターム[2H049CA15]の内容

回折格子、偏光要素、ホログラム光学素子 (44,531) | ホログラム光学素子 (1,322) | 用途 (490) | 回折格子 (136)

Fターム[2H049CA15]に分類される特許

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【課題】回折格子パターンにより構成される装飾画像内に、それとは異なる機械読み取り用の特定情報を混在させる際、前記情報の存在が明確に把握されることがなく、かつ情報量を多くし、偽造・模造を一層困難にする。
【解決手段】計算機ホログラムから成るセルによって機械読み取り用の特定情報を構成し、装飾画像を構成する回折格子から成るセルと共に、パターン内に配置する。 (もっと読む)


【課題】回折面に異なる入射角度で入射する入射光に対して入射角度毎に異なる回折像を得る。
【解決手段】回折光学素子1が、2以上の入射角度をなす入射光に対して入射角度により異なる回折像が形成されるように回折溝5を有する回折面の形状が構成されている。この回折光学素子1は、入射面が所定の段数からなる階段を有して断面階段状に形成されたバイナリ光学素子からなり、透過光もしくは反射光により回折像が形成される。回折面への入射光の入射角度は、回折光学素子1にMEMS素子4のような圧電駆動型の素子を組み合わせることで、例えば10度ごとに変えることが可能である。なお、計算機合成ホログラムにより回折面の形状を設計することで、回折面に対する入射光の入射角度により異なる回折像を取得可能である。 (もっと読む)


【課題】入射光の各波長毎に、また、入射光の入射角度毎に異なる回折像を形成させる。
【解決手段】回折光学素子6が、特定の波長の光を選択するフィルタ素子4と、フィルタ素子4により選択された入射光が回折溝5が形成された回折面に入射するように配置され、回折面に異なる入射角度で入射するフィルタ素子4により選択された入射光に対して入射角度毎に異なる回折像を形成させる回折光学素子1とを有して構成される。この回折光学素子1は、入射面が所定の段数からなる階段を有して断面階段状に形成されたバイナリ光学素子からなり、透過光もしくは反射光により回折像が形成される。特定の波長の光を選択するフィルタ素子4からの入射光を用いることにより各波長毎に異なる回折像が形成される。なお、計算機合成ホログラムにより回折面の形状を設計することで、入射光の波長毎に、また、入射光の入射角度毎に異なる回折像を取得可能である。 (もっと読む)


【課題】 ホログラム素子の品質を保持した状態で光学基材が接合されるプリズムを提供すること。
【解決手段】
第1プリズムL1の下接合面102aに、ホログラム素子100の厚み以上の深さを有する凹部を形成する。この凹部は、ホログラム素子100を収納可能な隙間部となる。この凹部内の貼付面102にホログラム感光材料シートを貼り付けて、露光・現像することでホログラム素子100を形成する。そして、第2プリズムL2の接合面に接着剤ADを塗布して、当該第2プリズムL2に第1プリズムL1を嵌合・圧接して接合する。凹部101の内周を曲面状に形成することとしてもよい。 (もっと読む)


【課題】環境が変化しても安定した光学特性を示す光学素子、ホログラム素子を提供すること。
【解決手段】マイクロ化学チップ100は金属ガラス製であり、マイクロ化学チップ100には、流体サンプルが流れるチャンネル2aが形成されている。領域Aのチャンネル2aの底面2Aには、微細凹凸構造体10が形成され、微細凹凸構造体10は、周期的に凹凸が繰り返される線状凹凸面から成り、入射光に対して反射型の回折作用を有する回折光学素子11と、周期的に柱状突起が分布する凹凸面から成り、入射光強度に対して反射光強度が零または低い無反射光学素子12とを含む。マイクロ化学チップ100は金属ガラス製であり、環境温度が変化しても安定した寸法精度を保つので、常に安定した光学特性を示す。 (もっと読む)


【課題】高い精度で、かつ簡易な工程により三次元構造物を製造するためのグレイスケー
ルマスクを提供すること。
【解決手段】レジスト層に形成する所望のレジスト形状に対応させて、それぞれ光透過率
が設定された複数の単位セル21を備え、単位セル21は、光を透過させる開口部23と
、光を遮断させる遮光部22とを有し、単位セル21に占める開口部23の面積の割合で
ある面積開口率によって光透過率が決定され、一の単位セル21からの光のうち回折光以
外の光である直接光の強度が所定の範囲となる面積開口率を有する。 (もっと読む)


【課題】同色系の光源を複数設けることなく、射出瞳を大きくすることで色調不良が発生することを防止する。
【解決手段】第3レーザ光源は、532nm程度の緑色レーザ、第4レーザ光源は、476nm程度の青色レーザを出射する。また、第1レーザ光源は、637nmの赤色レーザ、第2レーザ光源は658nm程度の赤色レーザを出射する。第1及び第2レーザ光源からのレーザ光によって露光されて形成されたホログラム素子は、レーザ光の波長帯域よりも2%低い波長の干渉縞を有する。このため、R光が照射された際には、625nm及び645nmの波長帯域のR光をホログラム素子は回折反射し、射出瞳ERa及びERbを形成する。これにより、G光及びB光それぞれの射出瞳EG及びEBと重ね合わせた場合に、RGB光全体としての射出瞳80が形成される。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で、空間光変調素子を選択的に加振できるとともに、非加振時においては空間光変調素子を所定の位置に正確に位置決めでき、常に高品質の映像を投影できる投影型映像表示装置を提供する。
【解決手段】複数の空間光変調素子7R,7G,7Bで形成した複数の分光画像を画像合成手段8で合成して投影表示する投影型映像表示装置において、少なくとも一つの空間光変調素子7Rを光軸方向に変位可能に支持手段32により固定部35,44に支持して駆動手段(34a,34b,41,36,42)により光軸方向に駆動可能とし、この駆動手段を制御して空間光変調素子7Rを光軸方向に加振させる加振制御手段53と、空間光変調素子7Rの光軸方向の位置を制御する位置制御手段54Rとを設けて、加振制御手段53による加振動作および位置制御手段54Rによる位置制御動作を動作選択手段51,52により選択する。 (もっと読む)


【課題】信頼性を向上でき、常に画質の良好な映像を表示できる投影型映像表示装置を提供する。
【解決手段】光源11からの照明光束を空間光変調素子9により映像に応じて空間変調して投影表示する投影型映像表示装置において、光源11からの照明光束を空間光変調素子9の変調領域9aよりも狭い領域を照明する縮小光束に変換する縮小光束変換手段3,4,6と、縮小光束変換手段からの縮小光束を選択的に屈折させて空間光変調素子9の変調領域9aを走査する縮小光束走査手段7と、縮小光束走査手段に設けられて縮小光束変換手段からの縮小光束の一部を分離する光束分離手段21と、光束分離手段で分離された光束を受光する光検出手段22,23とを有する。 (もっと読む)


【課題】入射する平行光束の入射角に依存した色ムラや輝度ムラを低減し得る光学装置を提供する。
【解決手段】導光板21、反射型体積ホログラム回折格子から成る第1及び第2回折格子部材30,40を備え、第1回折格子部材30には、その内部から表面に亙りピッチの等しい干渉縞が形成されている光学装置20であって、第1回折格子部材において:(a)第1回折格子部材30における干渉縞が第1回折格子部材30の表面と成す傾斜角が最小傾斜角となる最小傾斜角領域よりも第2回折格子部材から遠い所に位置する外側領域に形成された干渉縞の傾斜角は、最小傾斜角領域から離れるほど大きく、(b)最小傾斜角領域よりも第2回折格子部材に近い所に位置する内側領域に形成された干渉縞の傾斜角は、最小傾斜角領域に隣接する内側領域において最大傾斜角であり、最小傾斜角領域から離れるほど小さくなる。 (もっと読む)


【課題】 不正な意図に基づく偽造や改ざんの防止、真贋判定を目的とし、セキュリティの保持が可能な真贋判定用媒体等を提供する。
【解決手段】 円偏光性を有する色彩可変印刷とホログラムを融合させた脆質性を有する真贋判定用媒体1において、PET位相差層4の上に色彩可変印刷層3aもしくは3bを、また下に剥離層5を介して色彩可変印刷層3aもしくは3bを設ける。万が一、真贋判定用媒体1が剥離界面11より剥がされたとしても、下地のホログラムの色彩可変印刷層3aもしくは3bの偏光効果により、セキュリティ性を保持できる。 (もっと読む)


【課題】 短波長帯においても光透過率および消光比の高い偏光選択性の開口制限素子を提供すること。また、高密度記録および高いSN比の再生ができるコリニア方式のホログラム記録再生装置を提供すること。
【解決手段】 単波長光束を偏光状態に依らず透過させる光軸を中心とする半径rの円の内側の透過領域と、単波長光束を偏光状態に応じて透過あるいは回折させる前記半径rの円の外側かつ光軸を中心とする半径r(>r)の円の内側の輪帯状の回折領域とを含む構成を有している。 (もっと読む)


【課題】 輝度ムラや色ムラが少なくより明るい高画質な映像を表示するとともに、小型、軽量、ひいては低コストな映像表示装置を提供する。
【解決手段】 ピーク波長が異なる複数の点光源(LED)を備える少なくとも一対の光源ユニット(LEDユニット)と、光源ユニットの光を変調して映像を生成する空間変調器(LCD)と、光源ユニットと空間変調器との間に配置されて、一対の光源ユニットを光学的に近接させるように該光源ユニットの光を空間変調器に導く第1の照明光学系(プリズム)と、空間変調器で生成された映像を投影する投影光学系とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、本発明は、偏光回折能の異なる領域を少なくとも2つ有する偏光回折格子または偏光ホログラム素子を簡素な製造方法で提供しようとするものである。
【解決手段】複屈折誘起材料の塗布膜に格子状のマスク、2光束干渉などの方法を用いて偏光性の紫外光を照射することにより照射部と非照射を形成する。続いて、所望のパターンのマスクを用いて電界振動方向が異なる紫外光を照射し、該膜を加熱冷却により照射部の配向を誘起させると、正面から観察した場合に複屈折誘起部の最大屈折率方向が異なる2つの格子状の領域を同一膜内に作製することができ、偏光回折能の異なる領域を少なくとも2つ有する偏光回折格子または偏光ホログラム素子を提供できる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、偏光回折素子ないしは偏光ホログラム素子を簡素な製造方法で提供しようとするものである。
【解決手段】複屈折誘起材料の塗布膜に格子状のマスク、2光束干渉などの方法を用いて偏光性の紫外光を照射することにより複屈折誘起部と複屈折を有さない部分を格子状に形成する。このように作製された回折格子ないしはホログラム素子では、格子に対して平行方向の屈折率または格子に対して垂直方向の屈折率の何れか一方で屈折率の周期構造が生じ、その垂直方向の屈折率は周期構造が発現しないことから偏光回折格子を提供できる。 (もっと読む)


【課題】反射光の発生を抑制でき、光利用効率の向上を図れる透過光位相変調方式の光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子の微細構造(周期構造)14は、単位周期あたりの凹部15(15a、15b、15c、15d)と凸部16(16a、16b、16c、16d、16e)の面積比が基板12の表面12aの全域もしくは一部にて変調された構造を有しているとともに、凸部16(16a、16b、16c、16d、16e)の形状が、周期構造14の高さ方向において次第に幅が狭くなる円錐形状に形成されており、これにより凸部16は光反射防止手段(光反射防止構造)を構成している。 (もっと読む)


【課題】偽造防止の効果を向上することができ、また、優れた意匠性を有する光回折シートを提供する。
【解決手段】光回折シート800Aを、全面にホログラム又は回折格子パターン(市松模様、円、放射状に設けられた複数の三角形)が施された光回折構造形成層20Aと、この裏面に設けられた正方形のパターン反射層20Bとから構成し、パターン反射層20B(正方形)の範囲にのみ、光回折構造形成層20Aの効果(市松模様等)を発現させ、パターン反射層20B(正方形)よりも外側の範囲において、光回折構造形成層20Aの効果(市松模様)を発現しないようにした。 (もっと読む)


【課題】各種誤差要因等に伴う各収差を効率的に、かつ高精度に補正し得る光記録媒体用対物光学系およびこれを用いた光ピックアップ装置を提供する。
【解決手段】光記録媒体9の基板厚が所定の厚みより大であるときには、その厚みに応じてホログラム素子18の上方が光源側に倒れるように傾動して発散光を射出するように(図(B))、光記録媒体9の基板厚が所定の厚みより小であるときには、その厚みに応じてホログラム素子18の上方が光記録媒体側に倒れるように傾動して収束光を射出するような(図(C))多重記録ホログラムがホログラム素子18に形成されている。光記録媒体9の基板厚が所定の基準厚みとなっているときには、ホログラム素子18は傾動せず、平行光を射出するように(図(A))構成されている。 (もっと読む)


【課題】 信号対雑音比の向上を図ることができ、かつホログラム光ヘッドを小型化及び集積化することが可能なホログラム光ヘッドを提供するものである。
【解決手段】 光ディスク17に光ビームを照射するレーザ素子13と、レーザ素子13と光ディスク17との間に配置され、光ディスク17により反射される光ビームを回折する回折格子部18を有するホログラム素子15と、回折格子部18で回折された光ビームを受光する受光素子14とを備え、ホログラム素子15は、回折格子部18の周囲に、レーザ素子13から出射される光ビームが受光素子14へ入射されない方向へ反射させる迷光除去部19を有するものである。 (もっと読む)


【課題】高温の製造過程にも耐えうるレンズを製造でき、かつレンズの形状および高さを制御することのできる経済的な製造技術を提供する。
【解決手段】光学デバイスが、屈折および回折の両方が制御されるものであって、大きな曲面を有する第1のレリーフ構造が屈折特性を提供し、微細な段部を有する第2のレリーフ構造が回折特性を提供する。この光デバイスを、ある程度高い粘度、例えば2000センチポイズ以上のポリマー材料、例えばエポキシベースの材料を使用して、フォトリソグラフィにより光学デバイスを製造する。 (もっと読む)


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