【課題】 液浸系の対物レンズを用いた場合に、供給された液体を効率よく回収できる顕微鏡観察装置を提供する。
【解決手段】 液浸系の対物レンズ４０と、液体３０が基板４０Ａの観察点に供給された状態で、その観察点を対物レンズの焦点面１０ｃのうち対物レンズの光軸１０ａ付近に位置決めする位置決め手段と、位置決め手段により位置決めされた状態(ａ)から、基板を対物レンズに近づけて（状態(ｂ)）、観察点から液体を回収する回収手段３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】光顕微鏡用の明視野照明および／または暗視野照明のためのコンデンサ装置の提供。
【解決手段】ケーシング１内に、少なくとも１つのレンズから成る基本光学系、照明光路内で基本光学系の前へ持ち込み可能な少なくとも１つの前置光学系7、8および前置光学系を顕微鏡の照明光路内へ持ち込むための手段を含む、コンデンサ装置であって、ケーシング１には、第1旋回アームと第2旋回アーム2、3が旋回可能に配置されており、第１旋回アーム２が明視野照明用の高開口を有する第１の前置光学系8を、および第２旋回アーム３が暗視野照明用の第２の前置光学系7を保持し、カージオイド光学系を照明光路内へ持ち込むための手段が配備されている。 （もっと読む）

本発明は、検査、規定された構造の測定、構造及び構造誤差のシミュレーション、構造の修正、及び、微細要素の規定された対象位置の再検査に用いられる、液浸対物レンズを有した検査装置である。
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微細要素の、検査、規定された構造の測定、構造及び構造誤差のシミュレーション、構造のそして構造での修正、そして、規定された対象位置での再検査の為の、ステージを有する、微細要素の為の装置を開示する。少なくとも、一つの液浸対物レンズと、微小構造の表面上への適正のわずかな液量を供給するための装置を、備えている。微小構造の表面上でわずかの液量を吸引するための装置が取り付けられ、その際、吸引装置は少なくとも部分的に液浸対物レンズを取り囲むかまたは、対物レンズの近傍に配置される。
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【課題】 倒立顕微鏡および正立顕微鏡の合焦制御を簡単に行なうことができるシステム顕微鏡を提供する。
【解決手段】 標本３を載置するステージ２の下方から標本３の観察像を取得する対物レンズ４を含む観察光学系を有する倒立顕微鏡１００と、ステージ２の上方から標本３の観察像を取得する対物レンズ２８を含む観察光学系を有する正立顕微鏡２００を有し、倒立顕微鏡１００の観察光学系にＡＦ部を配置し、このＡＦ部での焦点検出結果に基づいて倒立顕微鏡１００および正立顕微鏡２００の観察光学系の合焦を制御する。 （もっと読む）

カタジオプトリック対物系及び浸漬媒を用い検査用の小型カタジオプトリック系を構成する。その系の対物系は、約１９０ｎｍから赤外域に及ぶ波長域に属する光エネルギにて使用でき、０．９超の開口率を実現でき、直径１００ｍｍ未満の素子から構成でき、標準的な顕微鏡内に組み込めるものであり、合焦レンズ群、視野レンズ、マンジャンミラー配列及び一種類若しくは複数種類の浸漬媒を備え、その浸漬媒はマンジャンミラー配列と標本の間にある。また、検査用のカタジオプトリック系にてこの対物系と併用できるよう、可変焦点距離光学系を構成する。
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検査対象の半導体デバイスＳに対して、画像取得部１と、対物レンズ２０を含む光学系２と、半導体デバイスＳから対物レンズ２０への光軸を含む挿入位置、及び光軸を外れた待機位置の間を移動可能な固浸レンズ（ＳＩＬ）３とを設置する。そして、ＳＩＬ３を待機位置に配置し、半導体デバイスＳの基板の屈折率ｎ_０、及び厚さｔ_０に基づいて焦点及び収差を補正する第１モードと、ＳＩＬ３を挿入位置に配置し、基板の屈折率ｎ_０、厚さｔ_０、ＳＩＬ３の屈折率ｎ_１、厚さｄ_１、及び曲率半径Ｒ_１に基づいて焦点及び収差を補正する第２モードとの２つの制御モードで観察を行う。これにより、半導体デバイスの微細構造解析などに必要な試料の観察を容易に行うことが可能な顕微鏡、及び試料観察方法が得られる。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ投影露光装置（１１０）の投影対物レンズが、液浸液（１３４）が感光層（１２６）に隣接する液浸オペレーションに合わせて設計される。液浸液の屈折率は、投影対物レンズ（１２０、１２０’、１２０”）の物体側において液浸液と隣接する媒質（Ｌ５、１４２、Ｌ２０５、ＬＬ７、ＬＬ８、ＬＬ９）の屈折率より大きい。投影対物レンズは、液浸オペレーション中、液浸液（１３４）が物体平面（１２２）に向かって凸状に湾曲するように設計される。
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試料を観察、測定する際に、測定の為の移動量が多い場合でも、また長時間にわたる場合でも、対物レンズ先端部に供給される液浸媒質が対物レンズ先端部からこぼれおちることが少ない液浸対物レンズ、液浸媒質の保持機構およびその製造方法を提供する。
液浸対物レンズ（１０）を使用して試料を観察、測定する装置の液浸媒質（３１）の保持機構であって、対物レンズ先端部近傍の液浸媒質を保持する部材が、液浸媒質に対して親和性の低い第１の材質（α部）と、液浸媒質に対して親和性の高い第２の材質（β部）より構成される。 （もっと読む）

検査対象の試料となる半導体デバイス上に両親媒性分子を含有する光学密着液を滴下し（Ｓ１０４）、その上に固浸レンズを設置する（Ｓ１０５）。続いて、固浸レンズの挿入位置を調整し（Ｓ１０６）、それから、光学密着液を乾燥させて（Ｓ１０８）、固浸レンズと半導体デバイスとを光学的に密着させる。これにより、試料の所望の位置への位置合わせが容易であり、試料に固浸レンズを光学的に確実に密着させることができる試料観察方法及び顕微鏡等が実現される。 （もっと読む）

固浸レンズ３の底面を開口９ｂを通して下方に突出させた状態で当該固浸レンズ３を自重方向に支えるホルダ９を具備する構成とする。これにより、固浸レンズ３が観察対象物に載置されると、当該観察対象物により固浸レンズ３は持ち上げられた状態とされ、ホルダ９に対して自由な状態とされる。また、このとき、観察対象物に過度の圧力が加わることが無くされ、且つ、固浸レンズ３が観察対象物に馴染み密着すると共に、ホルダ９側又は観察対象物側の温度ドリフトが相手側に対して遮断され温度ドリフトによる影響が無くされる。これにより、観察対象物に損傷を与えることを無くすと共に高精度の観察を可能とする固浸レンズホルダが得られる。 （もっと読む）

固浸レンズ３を支持する固浸レンズホルダ５が連結された第一腕部材７１と、この第一腕部材７１を、観察対象物に対して略平行を成すＸ−Ｙ平面内で回動させる第一腕部材回動源７２と、この第一腕部材回動源７２を保持する第二腕部材７３と、第一腕部材回動源７２の回動軸と非同軸の位置を回動軸として、第二腕部材７３をＸ−Ｙ平面内で回動させる第二腕部材回動源７４と、を具備する構成とする。そして、二個の腕部材７１，７３を回動することで、固浸レンズ３をＸ−Ｙ平面内の所望の位置に移動可能とし、直交するＸ方向、Ｙ方向に構成部品を長尺とする必要を無くし、占有領域を小とすると共に簡易な構成とする。これにより、低コスト化を図りつつ、装置の小型化を図ることが可能な固浸レンズ移動装置、及びこれを備えた顕微鏡が実現される。 （もっと読む）

本発明は、画像平面に配置された、少なくとも一部が電磁放射線に感応する層で覆われた被処理品をパターン形成するための液浸リソグラフィ装置に関する。同装置は、対象物平面に電磁放射線を放出する放射源と、前記電磁放射線を前記対象物平面で受け取って変調するようになされ、かつ、前記被処理品に向けて前記電磁放射線を中継するようになされたマスクと、前記リソグラフィ装置の最終レンズの少なくとも一部および前記被処理品の一部と接触する液浸媒体とを含み、毛細管力によって前記接触領域が制限される。また、本発明は、被処理品にパターン付与する方法および液浸レンズに関する。
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約２６６〜１０００ｎｍの波長域や１５７ｎｍから赤外に至る波長域といった各種の波長域に属する光エネルギ用の対物系を用いる検査システム及び方法を提供する。この対物系は、光を受け取る１個又は複数個の合焦レンズ素子（３０４)を含む合焦レンズ素子集合体（３１１)と、合焦レンズ素子集合体（３１１)により合焦された光エネルギを受け取り中間的な光エネルギを出射するよう方向設定された視野レンズ素子（３０５)と、視野レンズ素子（３０５)から中間的な光エネルギを受け取り制御された光エネルギを発生させるよう位置設定されたマンジャンミラー装置（３１２)とを備える。各合焦レンズ素子は約１００ｍｍ未満と小径であり、その最大補正視野サイズは約０．１５ｍｍである。制御された光エネルギは、検査する標本（３１０)に与える前に、油、水、シリコーンゲル等の浸漬媒に通してもよい。

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