【課題】リソグラフィ装置およびデバイス製造方法と組み合わせて用いられる加湿装置および加湿方法を提供する。
【解決手段】ガスがメンブレンの第１の側に供給され、液体が同メンブレンの第２の側に供給される加湿装置が開示される。このメンブレンは液体に対して非浸透性であるが、液体の蒸気に対しては浸透性があり、前記液体に対しては液親性である。 （もっと読む）

【課題】媒質に対するレーザ照射位置が深くても、レーザ光の集光度合を高めることが可能な収差補正方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る収差補正方法では、光透過性を有する媒質６１内部にレーザ光を集光するレーザ照射装置１の収差補正方法において、レーザ照射装置１は、雰囲気媒質６０の屈折率が媒質６１の屈折率より大きい集光手段５０を備え、媒質６１の屈折率をｎ、媒質６１の屈折率ｎが雰囲気媒質６０の屈折率に等しいと仮定した場合における媒質６１の入射面から集光手段５０の焦点までの深さをｄ、媒質６１によって発生する縦収差の最大値をΔｓと定義すると、レーザ光の集光点が、媒質６１の入射面からｎ×ｄ−Δｓより大きく、ｎ×ｄより小さい範囲に位置するように、すなわち、収差を補正しないときに媒質６１内部で縦収差が存在する範囲の間に位置するように、レーザ光の収差を補正する。 （もっと読む）

【課題】固体浸レンズが対向する被検査対象面から給電可能な検査装置を提供すること。
【解決手段】検査装置は、被検査対象２１に対向する対向面１１ａを有する固体浸レンズ１１と、少なくとも固体浸レンズ１１の対向面１１ａにおいて少なくとも被検査対象と対向する領域に形成され、被検査対象２１に給電するための導電膜１２と、固体浸レンズ１１を保持するための給電経路１７を形成したレンズホルダ１４と、を備える。 （もっと読む）

本発明は対象物を走査する装置に関し、この装置は、照明光ビーム（２４）を解析対象となる対象物の領域に集束させる集束レンズ系（３０）を備える。アクチュエータアセンブリが集束レンズ系（３０）に連結され、所定の走査パターンにしたがって、前記集束レンズ系（３０）を照明光ビーム（２４）の基準位置における照明光ビーム（２４）の中心軸に関して横方向に移動させる。前面ガラス（３８）が、照明光ビーム（２４）の方向に見た場合に集束レンズ系（３０）の下流に配置される。内側浸漬剤（４０）が集束レンズ系（３０）と前面ガラス（３８）との間に配される。外側浸漬剤（４８）は、前面ガラス（３８）と対象物との間に注入することができる。
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【課題】光学系に発生する歪みを抑制するとともに、外来光によるノイズの増加を防止して、精度の高い観察を行う。
【解決手段】標本を収容して恒温恒湿を維持しつつ培養する培養部３と、該培養部３を保持するステージ４と、光源２からの照明光を標本に集光する第１の集光光学系５と、標本を透過した透過光を集光する第２の集光光学系６と、標本における照明光の集光位置と光学的に共役な位置に配置され、第２の集光光学系６により集光された透過光の一部を遮断する透過用ピンホール７と、透過用ピンホール７を通過した透過光を検出する透過用光検出器８と、これらとステージ４とを相対的に移動させる移動機構と、これらを取り囲み外光を遮断する筐体９と、筐体９内の温度を制御する温度制御部１０，１１，１２とを備える顕微鏡装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】液浸法に基づいて露光処理する際、パターンの像を基板上に精度良く形成できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影し、基板を露光する。露光装置は、液体の気化を抑制する気化抑制装置を備え、気化抑制装置は、液体の周囲に蒸気を供給する供給装置を有する。 （もっと読む）

【課題】 イマージョンレンズの試料上への移動、設置、及び位置決めを効率的に実行することが可能なイマージョンレンズ支持装置を提供する。
【解決手段】 固浸レンズ２０を、そのレンズ下面２２が下部開口３２を通して下方に突出した状態で固定せずにフリーな状態で保持するレンズホルダ３０と、レンズホルダ３０の上部開口３１に対して設けられ、固浸レンズ２０側となるカバー下面４２が光軸に垂直な平面上にあって、固浸レンズ２０の球面状のレンズ上面２１と１点接触するレンズカバー４０とによって、固浸レンズ支持装置を構成する。また、レンズカバー４０において、対物レンズを介して観察されるレンズカバー４０の像を参照して、対物レンズに対する固浸レンズ２０の位置決めを行うことが可能な位置決め部を設ける。 （もっと読む）

【課題】広い観察範囲と高い開口数を両立する長い作動距離を有する液浸顕微鏡対物レンズを提供することを課題とする。
【解決手段】液浸顕微鏡対物レンズ１は、物体側から物体側に平面を向けた平凸レンズＬ１と物体側に凹面を向けたメニスカスレンズＬ２の接合レンズＣＬ１と少なくとも１枚の正単レンズを含む正の第１レンズ群ＬＧ１と、３枚接合レンズを含む正の第２レンズ群ＬＧ２と、ガウスタイプのレンズ構成を含む負の第３レンズ群ＬＧ３を含んで構成される。この際、ｎ１を第１レンズ群ＬＧ１の最も屈折率の高い単レンズのｄ線の屈折率、ＮＡｏｂを対物レンズ１の物体側開口数、ｄ０を対物レンズ１の作動距離、βを対物レンズ１の倍率とすると以下の条件式を満たす。
１．７＜ｎ１ ・・・（１）
１．１＜ＮＡｏｂ＜１．４５ ・・・（２）
０．４＜ＮＡｏｂ×ｄ０＜３ ・・・（３）
０．０３＜ＮＡｏｂ／β＜０．１ ・・・（４） （もっと読む）

【課題】試料を観察、測定する際に、測定の為の移動量が多い場合でも、また長時間にわたる場合でも、対物レンズ先端部に供給される液浸媒質が対物レンズ先端部からこぼれおちることが少ない液浸対物レンズ、液浸媒質の保持機構及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液浸対物レンズは先端部、レンズ環部及びレンズ外枠から形成され、該レンズ環部は先端部のレンズからレンズ外枠１０に至る傾斜した面全体からなり、液浸対物レンズの先端部とレンズ環部とを含む領域内にレンズに先端部を取り巻くようにリング状に液浸媒質を保持するための第１の材質で表面処理した領域である液浸媒質を保持する第１のリング状部材（α部）を有し、第１のリング状部材の液浸媒質に対する親和性は、表面処理された領域の内側に連接する領域の液浸媒質に対する親和性より低い。 （もっと読む）

捕獲粒子に作用する光学力を測定するための装置および方法。一実施形態では、本装置および方法は、顕微鏡の上または内部に配置されたチャンバの入口面と出口面の間において、単一の光ビームを用いて浮遊媒体中に浮遊する粒子を捕獲するように構成された光学顕微鏡の光学列中で使用することができる。この装置および方法は単一の収集レンズ系を使用し、この収集レンズ系は、チャンバ中に粒子を浮遊させるための浮遊媒体の屈折率以上の開口数を有し、浮遊チャンバの出口面近傍またはこの出口面と接触させて設置することができる。光検知デバイスは、収集レンズの後焦点面内または後焦点面の近くに配置されるか、あるいは後焦点面の光学等価物に配置され、収集レンズによって光検知デバイスの上に投影された光分布の重心のｘ座標とｙ座標から導出される、前記粒子に作用する光学力の測定値を直接または間接に生成することができる。
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【課題】一方の振動が他方に伝わらないように２つの物体を結合する装置を提供する。
【解決手段】この露光装置は、投影光学系（ＰＬ）と基板（Ｐ）との間を液体（５０）で満たし、投影光学系（ＰＬ）と液体（５０）とを介して基板（Ｐ）上にパターン像を投影することによって基板（Ｐ）を露光する露光装置であって、投影光学系（ＰＬ）は、液体（５０）と接する光学部材（６０）を含む第１群（６０）と、その第１群（６０）とは異なる第２群（ＭＰＬ）とを含み、第１群（６０）は第１支持部材に支持され、第２群（ＭＰＬ）は第１支持部材とは異なる第２支持部材に分離して支持されている。 （もっと読む）

【課題】試料を観察、測定する際に、測定の為の移動量が多い場合でも、また長時間にわたる場合でも、対物レンズ先端部に供給される液浸媒質が対物レンズ先端部からこぼれおちることが少ない液浸対物レンズ、液浸媒質の保持機構及びその製造方法を提供する。
【解決手段】液浸対物レンズ１０と、液浸対物レンズに嵌合するための開口部を有する底板４１と、底板の周囲に沿って配設された壁板４２と、対物レンズ先端部に液浸媒質を供給する液浸媒質供給部３４と、底板の壁板近傍に設けられて対物レンズ先端部からの液浸媒質の液だれを排出する液浸媒質の液だれ排出部３５とを備え、底板は、開口部を取り巻くように配置される液浸媒質を保持するための第１の材質からなる第１のリング状部材（α部）を備え、開口部側が壁板側よりも高くなるように傾斜し、第１のリング状部材の液浸媒質に対する親和性は、第１のリング状部材の内側の部材の液浸媒質に対する親和性よりも低い。 （もっと読む）

対象となる物体が、該対象となる物体内を通過する光を受け取るように配置された顕微鏡対物レンズ１０の視野内で照明される。顕微鏡対物レンズ１０を透過する光は、屈折力可変素子３３に入射する。屈折力可変素子３３は、顕微鏡対物レンズ１０に対して駆動され、対象となる物体における複数の焦点面を通してスキャンする。屈折力可変素子３３から伝達される光は、検知素子又はアレイ３０によって検知される。
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【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて投影光学系とウェハとの間に液体を閉じ込めるための単純なシステム及び方法を提供する。
【解決手段】基板１０１を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有する露光系と、投影光学系１００と基板１０１との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。 （もっと読む）

【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて投影光学系とウェハとの間に液体を閉じ込めるための単純なシステム及び方法を提供する。
【解決手段】基板１０１を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有する露光系と、投影光学系１００と基板１０１との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。 （もっと読む）

【課題】液体の汚染を防止できる露光装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を供給する供給口（１２）及び液体を回収する回収口（２２）のうち少なくとも一方を有するノズル部材（７０）を有している。容器（３１）に収容された洗浄用液ＬＫにノズル部材（７０）を浸漬することによって、ノズル部材（７０）を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 作動距離が長く、広波長域（おおよそｈ線〜ｔ線）にわたり諸収差が良好に補正された、液浸系顕微鏡対物レンズを提供する。
【解決手段】 物体側から順に並んだ、物体側に平面を向けた平凸レンズと物体側に凹面を向けたメニスカスレンズとを接合した接合レンズＬ１と、物体側に凸面を向けたメニスカス形状の単レンズＬ２とを有し、全体として正の屈折力を持つ第１レンズ群Ｇ１と、複数の接合レンズＬ３〜Ｌ６を有し、全体として正の屈折力を持つ第２レンズ群Ｇ２と、像側に凹面を向けた接合メニスカスレンズＬ７と、物体側に凹面を向けた接合メニスカスレンズＬ８とを有し、全体として負の屈折力を持つ第３レンズ群Ｇ３とを有する。そして、式 ０．１２＜ｄ０／ｆ＜０．２５ 、 ０．０４＜θＣｔ（ｐ）−θＣｔ（ｎ）＜０．０９ 及び −０．０３＜θｈｇ（ｐ）−θｈｇ（ｎ）＜０．００ の条件を満足する。 （もっと読む）

【課題】液浸液が顕微鏡内部に侵入することによる機能低下を防止するとともに、クリーニング作業の負担を小さくする顕微鏡用液体吸収部材、それを備えた対物レンズ、コンデンサレンズ及び顕微鏡を提供する。
【解決手段】液体吸収部材１は、液浸レンズに装着された液体吸収部材１を液浸レンズから取り外す際に把持される取っ手１ａと、液浸レンズの先端部を覆って液浸レンズのレンズ面からこぼれ落ちた液浸液を吸収し保持する吸収部１ｂとからなる。吸収部１ｂは、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）からなる吸水性及び吸油性ポリマーを用いて形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルに対する調整流体の圧力変化の影響を抑制するための対策が施されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】
パターニングデバイスから基板上にパターンを投影するリソグラフィ装置が開示される。リソグラフィ装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルを有しており、基板テーブルは、調整流体を保持し、かつ、基板テーブルを調整するように構成された調整システムを備えている。調整システムは、調整システムと流体連絡している圧力ダンパを備えており、調整システムの圧力変化を抑制する。 （もっと読む）

【課題】光ピンセットの性能を高めることができる液浸対物レンズとこれを有する顕微鏡を提供すること。
【解決手段】ＮＡが水の屈折率よりも高い液浸対物レンズ６において、ｎａ０≧１．３の条件を満たすｎａ０以上のＮＡの光線にのみ作用し、λ０≦８００ｎｍの条件を満たすλ０以下の波長の光線のみを透過するダイクロイック膜７を設けた光学部材を備える液浸対物レンズ６。 （もっと読む）