【課題】ＭＶＡモード液晶表示装置において、画素開口率の低下にともなう光透過率の低下を改善し、かつ視野角低下も補償した液晶パネルを提供する。
【解決手段】二枚の直線偏光板（Ｈ−１）、（Ｈ−２）に挟まれたＭＶＡ−ＬＣを有する液晶パネルにおいて、液晶セルと直線偏光板（Ｈ−１）との間に、１／４波長板（Ｒ−１）、位相差フィルムＡプレート（Ａ−１）、位相差フィルムＣプレート（Ｃ−１）を配置し、液晶セルと直線偏光板（Ｈ−２）との間に、位相差フィルムＣプレート（Ｃ−３）、１／４波長板（Ｒ−２）、位相差フィルムＡプレート（Ａ−２）、位相差フィルムＣプレート（Ｃ−２）を配置した構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に、平坦性が高く、しかも、密着性、透明性及び表面硬度等が良好な液晶表示素子用保護膜を形成可能な熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、〔Ａ〕（ａ１）エポキシ基含有不飽和化合物、及び（ａ２）ラジカル重合性を有する不飽和化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体、並びに、〔Ｂ〕エチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドによって変性された多官能（メタ）アクリレート化合物群から選択される少なくとも１種を含有する液晶表示素子の保護膜形成用熱硬化性樹脂組成物である。（ａ２）成分としては、不飽和カルボン酸及び不飽和多価カルボン酸無水物よりなる群から選択されることが好ましく、さらには、分子中にカルボン酸のアセタールエステル構造又はカルボン酸の１−アルキルシクロアルキルエステル構造等を有する重合性不飽和化合物を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】少ない露光量による光配向法によって良好な液晶配向能を示し、且つ電気特性等の諸性能に優れる液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、下記式


（式中、「＊」は結合手であることを示す。）
で表される基に代表される特定の基を有する感放射線性ポリオルガノシロキサンを含有する。本発明の液晶配向剤は、ＴＮ型、ＳＴＮ型またはＩＰＳ型の液晶セルを有する液晶表示素子に好適に適用することができ、特にＩＰＳ型の液晶セルを有する横電界方式の液晶表示素子に好適である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、リソグラフィー技術を用いる場合において、基板端部のレジストを確実に除去することができる電気光学装置の製造装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、リソグラフィー技術を用いて電気光学装置用の基板を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記基板にレジストを塗布するレジスト塗布工程と、前記基板の端部に沿ってノズルから溶剤を吐出し、前記端部の前記レジストを除去するエッジリンス工程と、を有し、前記エッジリンス工程において、前記ノズルを前記基板の内側方向及び外側方向へ揺動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】粒子ビーム配向を使用する異方性多重層の調製方法を提供する。
【解決手段】本発明は、粒子ビームエッチング技術を使用して、異なる光軸の２つ以上の異方性層を含む多重層を調製する方法と、前記方法によって得られる多重層と、そのような多重層の光学的および電気光学的装置における光学的コンペンセータまたはリターダーとしての使用と、そのような多重層を含む装置とに関する。
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【課題】光配向法によりプレチルト角を付与することができ、付与されたプレチルト角の経時的安定性に優れる液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。
【解決手段】上記液晶配向剤は、下記式（１）


で表される構造を有する感放射線性ポリオルガノシロキサンを含有する。上記感放射線性ポリオルガノシロキサンは、好ましくは（ａ）エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、（ｂ）上記式（１）で表される構造およびカルボキシル基を有する化合物または下記式（２）


で表される基を有する化合物との反応生成物である。 （もっと読む）

【課題】電極における線状電極部を精度良く残すとともに、開口部における残渣の発生を抑制することが可能な電気光学装置を提供すること。
【解決手段】共通電極における開口部４６（間隙部分）には、共通電極を形成する際に、絶縁層７６よりもＩＴＯ膜の結晶化を抑制させる物質からなる下地層４６が形成されている。つまり、下地層４６が形成された間隙となる部分におけるＩＴＯ膜の結晶粒子は、絶縁層７６上におけるＩＴＯ膜の結晶粒子よりも小さくなっている。よって、透明電極材料としてのＩＴＯ膜をエッチングする際に、間隙となる部分におけるエッチングレートは、絶縁層７６上におけるエッチングレートより高くなるため、下地層４６上のＩＴＯ膜を選択的に除去することができる。従って、電極における線状電極部を精度良く残すとともに、開口部における残渣の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】インクジェット印刷方式において、矩形状を有する配向膜等のコーナー部での輪郭形状の精度向上を図る。
【解決手段】矩形状の基本塗布パターンの、各コーナ部において矩形の対向辺を延長する配置で直角三角形状パターンを延設した配向膜等の塗布パターン領域に、インクジェット印刷方式で配向膜等の塗布液を塗布する。 （もっと読む）

【課題】低粘度で高い転写パターン精度を有しつつ、光照射後の密着性に優れた光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物および／または下記一般式（２）で表される化合物の少なくとも一種と、下記一般式（３）で表される化合物の少なくとも１種を質量比２０：８０〜８０：２０の割合で含む、光硬化性組成物。


（一般式（１）および一般式（２）中、Ｘは、有機基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。一般式（３）中、Ｙは有機基を表し、ｍは１〜４の整数を表し、Ｒは水素またはメチル基を表す。但し、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物および一般式（３）で表される化合物は、いずれも分子量が１５０〜４００である。） （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドの性能の低下を抑制し、そのインクジェットヘッドを用いてパターンを良好に形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン形成方法は、インクジェットヘッドの内部流路を形成する部材の表面にパーヒドロポリシラザン溶液を供給して、部材の表面に保護膜を形成する保護膜形成工程と、内部流路にインクを供給して、内部流路に通じる射出口よりインクを基板に射出して、基板にパターンを形成するパターン形成工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 ＴＦＴ−ＬＣＤの層間有機絶縁膜の形成に使用されて、光配向用液晶工程での過露光による液晶偏り現象を改善することができるだけでなく、パターンの解像度調節が容易であり、層間有機絶縁膜の平坦化膜形成に特に適した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ＴＦＴ−ＬＣＤ用層間有機絶縁膜形成のための感光性樹脂組成物において、ＵＶ安定化剤またはラジカルスカベンジャーを０．０１〜２０質量％含むことを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を利用するＴＦＴ−ＬＣＤ用層間有機絶縁膜の形成方法、及び前記感光性樹脂組成物の硬化体を層間有機絶縁膜として含むＴＦＴ−ＬＣＤ。 （もっと読む）

【課題】配向性が良好で感度が高く、安定性の高い配向膜を提供することである。
【解決手段】ポリアミック酸およびこのポリアミック酸の脱水反応によって得られるポリイミドから選択される少なくとも１つのポリマーを含有する組成物であって、この組成物に含まれる膜形成成分の全量を基準とする前記ポリマーの割合が５０〜１００重量％であり、そしてこの組成物を成膜することによって１００℃から３００℃の間に液晶温度範囲を有する膜を形成することができる配向剤。 （もっと読む）

【課題】実質的な開口率が高くてノート型パソコンに適用可能であるとともに、表示品質がより一層良好なＭＶＡモードの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】１つの画素内に透過率−印加電圧特性が相互に異なる複数の副画素領域を有する液晶表示装置において、相互に対向して配置された第１及び第２の基板と、第１及び第２の基板間に封入された液晶からなる液晶層と、液晶層中に形成されて電圧印加時における液晶分子の配向方向を決めるポリマーと、副画素領域のうち透過率−印加電圧特性のしきい値電圧が最も低い副画素領域又はそれに隣接する領域に配置されて液晶層の厚さを決定するスペーサ１６１とを有する。 （もっと読む）

【課題】インクジェット塗布法で機能性材料を基板上に塗布し、液晶表示素子を製造するにあたり、インクジェット塗布装置に特別な機構、機能を付加することなく、塗布品質を安定させ、製品の信頼性を向上させる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】インクジェットヘッドのノズルの詰まりを低減するため、インクジェットヘッドの１回の基板送り方向への移動の間、少なくとも１回、インクジェットヘッドの全ノズルから吐出を行わせるダミーパターンを塗布データに設ける。また、ダミーパターンを撮影する撮影手段をさらに設ける。 （もっと読む）

【課題】配線や電極等による段差に起因する配向処理むらを抑制し、配向不良の発生を低減でき、充電時間を短くできるＴＦＴ基板の提供。
【解決手段】基材２と、基材上に形成されたゲート線と、ゲート絶縁層４と、オーバーコート層６と、ソース線と、画素電極８と、基材２上に形成されゲート線に接続されたゲート電極１３、ＴＦＴ用ゲート絶縁層１４、ＴＦＴ用ゲート絶縁層上に形成された半導体層１５、ＴＦＴ用ゲート絶縁層および半導体層の上に上記オーバーコート層と連続して形成されたＴＦＴ用オーバーコート層１６、ＴＦＴ用オーバーコート層上に形成され、ソース線に接続され、半導体層にソース電極用コンタクトホールｈ１を介して接続されたソース電極１７、および、ＴＦＴ用オーバーコート層上に形成され、画素電極に接続され、半導体層に透明電極用コンタクトホールｈ２を介して接続された透明電極１８を有するＴＦＴ１０とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に液状体を塗布して、安定的に塗布むらが少ない薄膜を形成可能な薄膜の形成方法、配向膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の薄膜の形成方法は、マザー基板１１０に対して複数のノズルからなるノズル列５２ｃを有する吐出ヘッド５０を相対的に走査し、ノズルから機能性材料を含む液状体を吐出してマザー基板１１０上の少なくとも膜形成領域ＡＥに塗布する第１塗布工程と、塗布された液状体を乾燥させる第１乾燥工程と、第１塗布工程における走査方向に対して異なる走査方向でマザー基板１１０と吐出ヘッド５０とを相対的に走査し、ノズルから液状体を吐出して少なくとも膜形成領域ＡＥに塗布する第２塗布工程と、塗布された液状体を乾燥させる第２乾燥工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出手段を用いて基板上に膜材料を含む材料液を塗布する際に材料液の膜厚変動を防止して、基板上に均一な膜厚の膜を形成することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】基板Ｐに材料液又は液滴としてのインクＬを塗布する塗布工程を少なくとも二回有し、第１の塗布工程において塗布する材料液又は液滴としてのインクＬの液滴の中心間距離Ｃ１が基板Ｐ上に着弾後の液滴の径Ｄと略等しくなるように塗布し、第２の塗布工程において塗布する材料液又は液滴としてのインクＬの液滴の中心間距離が第１の塗布工程において塗布される材料液又は液滴としてのインクＬの中心間距離Ｃ１より小さくなるように塗布する。 （もっと読む）

【課題】ディスクリネーション等の表示不良の発生を防止しつつ、真空成膜装置を用いることなく配向膜を形成することによりコストを削減することができる配向膜材料および液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】配向膜材料が下記の式（１）により表される高分子を含むことを特徴とする。
[化１]
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【課題】容易な方法で作成した液晶配向能を有する微細凹凸構造で、応力状態によってその凹凸構造が変化できる構造を用いて、熱処理を介して液晶配向方向を変化させる表面を提供すること、およびその配向表面を利用した配向記憶強度の時間発展の評価法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を有する液晶配向表面であって、前記液晶配向表面が座屈表面を有し、液晶配向表面の微細凹凸構造が変化することで液晶配向を変化させることができることを特徴とする液晶配向表面。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出手段を用いて基板上に配向膜材料を含む材料液を塗布する際に材料液の膜厚変動を防止して、基板上に均一な膜厚の配向膜を形成することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】基板Ｐ上に配向膜材料濃度が低い第１の材料液Ｌ１を塗布し、第１の材料液Ｌ１が塗布された基板Ｐ上に配向膜材料濃度が高い第２の材料液Ｌ２を塗布する。 （もっと読む）