【課題】 透明性や平滑性、光学特性に優れているうえ、曲げ性が良好で、さらなる軽量化や低コスト化が実現可能な光学シート、及び該光学シートの製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも、活性エネルギー線硬化性組成物８を架橋した（メタ）アクリレート樹脂層７と、無機質層９と、が積層されてなることを特徴とする。このとき、無機質層９が、ガラス繊維に活性エネルギー線組成物８を含浸させたものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板の両面に傷等の不良を発生させることなくその基板の両面に傷等の不良のない導電パターンを形成できる基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の第２主面を覆う第１保護膜を形成する工程Ｐ１と、工程Ｐ１の後に基板の第１主面にａ−ＩＴＯ膜を形成する工程Ｐ５と、ａ−ＩＴＯ膜上に第１レジスト膜を形成しこの第１レジスト膜を用いてａ−ＩＴＯ膜をパターニングする工程Ｐ６と、第１レジスト膜を除去する工程Ｐ７と、第１主面上であってａ−ＩＴＯ膜のパターンを覆う形状に第２保護膜を形成する工程Ｐ１０と、工程Ｐ１０の後に第２主面上の第１保護膜を除去する工程Ｐ１１と、工程Ｐ１１の後に第２主面にａ−ＩＴＯ膜を形成する工程Ｐ１３と、ａ−ＩＴＯ膜上に第２レジスト膜を形成しこの第２レジスト膜を用いてａ−ＩＴＯ膜をパターニングする工程Ｐ１４と、第２レジスト膜を除去する工程Ｐ１５とを有する基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、柔軟性、耐熱性および透明性に優れ、かつ、寸法安定性、操作性および二次加工性に優れた表示素子用基板を提供すること。
【解決手段】本発明の表示素子用基板は、無機ガラスと、無機ガラスの両側に配置された樹脂層とを備える。好ましくは、樹脂層の合計厚みｄ_ｒｓｕｍと無機ガラスの厚みｄ_ｇとの比ｄ_ｒｓｕｍ／ｄ_ｇは０．５〜２．２である。好ましくは、無機ガラスの両側の樹脂層は、それぞれ、同一の材料で構成され、同一の厚みを有し、かつ、それぞれの樹脂層の厚みは無機ガラスの厚みと等しい。好ましくは、表示素子用基板の１７０℃における平均線膨張係数は２０ｐｐｍ℃^−１以下である。 （もっと読む）

【課題】絶縁基板を割断する工程を含んだ液晶表示装置の製造でより高い歩留まりを実現するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、互いに向き合った基板ＳＵＢ１及びＳＵＢ２と、基板ＳＵＢ１及びＳＵＢ２間に介在した枠形封止樹脂層ＳＬと、基板ＳＵＢ１の基板ＳＵＢ２と向き合った第１主面を枠形封止樹脂層ＳＬの内側で被覆した配向膜ＡＬ１と、基板ＳＵＢ２の基板ＳＵＢ１と向き合った第２主面を枠形封止樹脂層ＳＬの内側で被覆した配向膜ＡＬ２と、基板ＳＵＢ１及びＳＵＢ２と枠形封止樹脂層ＳＬとに囲まれた空間を満たした液晶材料ＬＣと、配向膜ＡＬ１と同じ材料からなり、第１主面の周縁部を被覆して枠形封止樹脂層ＳＬを取り囲んだ剥離層ＡＬ１’とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

開示されているのは、約０．４ｍｍ未満の厚さを有するガラス、ガラスセラミックまたはセラミックシートを含む電子デバイスであり、この無機基板の最小強度は約５００ＭＰａである。さらに開示されているのは、粘性のある無機材料をドローして、リボンの長さに沿って対向する形成されたままのエッジを有する無機リボンを形成するステップと、当該リボンを分割して２つの形成されたままのエッジを含む無機材料の基板シートを形成するステップと、当該無機基板にデバイス素子を形成するステップとを含む電子デバイス製造方法である。
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【課題】形成プロセスが簡便で、光の取り出し効率が高く、陰極を断線させることなく、電極パターンのエッジ部に起因する陽極−陰極間の短絡及び表示素子の破壊を確実に防止できる順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成する。
【解決手段】電極パターン２が形成された基板１上に酸失活層３を形成し、さらに絶縁層４を積層形成する。その後、フォトマスク５を介して露光光線６により絶縁層４の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することにより順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】基板上に配向膜を形成する際に、異物の発生を抑制し、配向膜を良好に形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、基板を収容可能であり、収容した基板上に配向膜を形成可能な第１室と、第１室に配置され、基板上に配向膜を形成するための材料を供給可能な材料供給部と、第１室に配置され、材料供給部と基板との間に所定部材が配置されるように所定部材を着脱可能に保持する保持装置と、第１室と別の位置に配置され、所定部材をクリーニング可能なクリーニングシステムと、第１室の保持装置とクリーニングシステムとの間で所定部材を搬送する搬送システムとを備えている。 （もっと読む）

【課題】
シンプルな構造でフィルム上へ作製された機能性膜のクラックを抑えることを可能とし有機ＥＬ、太陽電池、液晶、電子ペーパー、電子回路などの電子デバイスに有用なフィルムを提供する。
【解決手段】透明導電膜、バリア膜、光機能触媒膜、ＡＲ膜、ＬＲ膜、シリコン膜等の機能性膜１を付与した薄いフィルム基板とコシを持たせるための機能としてのフィルム。これを２層ラミネートとすることにより、機能性膜の応力を緩和させる。 （もっと読む）

【課題】外部からの湿気の進入を抑制する画像表示媒体を提供することである。
【解決手段】画像表示媒体は、画像を表示する表示層と、前記表示層を挟んで対向配置された第１および第２の支持基板と、前記第１の支持基板の前記表示層側の面上に設けられた透光性を有する第１の電極と、前記第１の支持基板の前記表示層側の面上に設けられた透光性および防湿性を有する第１の防湿層と、前記第２の支持基板の前記表示層側の面上に設けられた第２の電極と、前記第２の支持基板の前記表示層の反対側の面上に設けられた防湿性を有する第２の防湿層と、を有する。 （もっと読む）

【課題】フッ酸に起因する残留物を容易に除去することができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】熱酸化膜６１及びＢＰＳＧ膜６３を有するウエハＷに向けてＨＦガスを供給して、ＢＰＳＧ膜６３を選択的にエッチングし、次いで、ウエハＷに向けてＮＨ_３ガスを供給して、ＳｉＯ_２とフッ酸との反応に基づいて発生する残留物６４のＨ_２ＳｉＦ_６とＮＨ_３ガスとを反応させてＮＨ_４Ｆ及びＳｉＦ_４を発生させ、さらに、ＮＨ_４Ｆを昇華させる。 （もっと読む）

【課題】基板の浸漬処理の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板の浸漬処理を行う基板処理装置１０ａでは、処理槽１の内部に処理液を供給する６つの供給管２ａ〜２ｆが設けられている。これら、６つの供給管２ａ〜２ｆは互いに異なる高さに均等に設けられる。また、６つの供給管２ａ〜２ｆは高さ方向に関して二つの壁面１１，１２に対し交互に設けられる。さらに、６つの供給管２ａ〜２ｆは略水平方向に沿って処理液を供給する。このため、処理槽１の全体に略水平方向に沿った平行な処理液の流れが均一に形成できることから、渦流の発生及びそれに伴う滞留部の形成を効果的に抑制できる。その結果、基板Ｗの浸漬処理の均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】 線膨張係数が小さく、透明性、耐熱性に優れ、さらに可撓性に優れた透明複合シートを提供すること。
【解決手段】エポキシ樹脂、及び硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物とガラスフィラーとを含有してなる複合組成物を硬化させて得られる透明複合シートであって、前記エポキシ樹脂が、硬化後のガラス転移点が２００℃以上の第１のエポキシ樹脂と硬化後のガラス転移点が１５０℃以下の第２のエポキシ樹脂とを含むものであることを特徴とする透明複合シート。 （もっと読む）

【課題】液晶が変質した際の配向膜の劣化を抑えることで、長期に渡って優れた配向特性が得られる耐久性に優れた、液晶装置、該液晶装置の製造方法、及び前記液晶装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】フッ素系置換基を導入した液晶分子を含む液晶層５０と、液晶層５０を挟持する一対の基板１０，２０と、一対の基板１０，２０における液晶層５０側にそれぞれ配置された一対の電極９，２１と、を備えた液晶装置である。一対の電極９，２１の少なくとも一方を覆う酸化珪素からなる配向膜４０，６０と、配向膜４０，６０の液晶層５０側における表面形状に倣うように成膜された酸化アルミニウムからなる侵食防止膜４１，６１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光学特性の劣化を抑制しつつ、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置用のアレイ基板を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板１０と、絶縁基板１０上に配置され絶縁基板１０と同等の屈折率を有する材料によって形成されたバッファ層１１Ａと、バッファ層１１Ａ上に配置され窒化シリコンによって形成された第１絶縁層１１Ｂと、第１絶縁層１１Ｂ上に配置され酸化シリコンによって形成された第２絶縁層１１Ｃと、第２絶縁層１１Ｃ上に配置された半導体層１２を有するスイッチング素子３と、スイッチング素子３に接続された画素電極５と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

ここに開示された主題は、広く、ガラスを保護するためのガラス組成物およびその組成物の製造方法と使用方法に関する。
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【課題】強化された基板を含む電気光学装置、電子機器、および当該電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置１は、ガラス基板１１上に、ＴＦＴ素子７０、絶縁層６８、透明樹脂層６９を備える。また、ガラス基板２１上に、カラーフィルタ５０、オーバーコート５２を備える。ここで、絶縁層６８は、その中心部近傍に仮想された中央部６１における厚さの平均値が、当該中央部６１を除いた周辺部６２における厚さの平均値より大きくなっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガントリータイプ精密テーブルは、近年大型化されつつあるガラスが使用されるフラットパネルディスプレーの分野において、検査、樹脂塗布等に使用される。
【解決手段】近年製品として、代表となる液晶パネルのサイズが逐次大型化し且つコストの低減化要求も強くなり、材料の生ガラスそのもののサイズが逐次大型化して来た。その大型化したガラスへの塗布工程において、ガントリータイプの塗布装置が発展して来たが、その塗布に関する速度ムラに起因する塗布ムラを回避する方法として、ゲイン切替制御技術、クロスカップリング制御技術を用いてそのガントリーの速度ムラ、左右の偏差の小値化およびオーバーシュートの回避策を得、塗布ムラを最小化することができた。 （もっと読む）

【課題】本発明は、荷重に対して変位量が大きく、かつ不可逆変位量の少ない、フレキシブル性の高いスペーサ付表示装置用基板を提供することを目的としている。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、樹脂製基材と、前記樹脂製基材上の所定の位置に形成されたパターンスペーサとを有するスペーサ付表示装置用基板であって、
前記パターンスペーサの垂直方向から前記スペーサ付表示装置用基板に荷重をかけた際の前記スペーサ付表示装置用基板の変位量が、前記パターンスペーサのみに前記荷重をかけた際の変位量より大きく、かつ前記スペーサ付表示装置用基板に前記荷重をかけた際の前記スペーサ付表示装置用基板の不可逆変位量が、前記パターンスペーサのみに前記荷重をかけた際の不可逆変位量より小さいことを特徴とするスペーサ付表示装置基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】
周縁の回路部用段部にプリント印刷を施し積層された液晶用ガラスの両面を全自動で研磨加工をする装置は無く、手間暇係る作業となっており、苦慮している実情である。
【解決手段】
本発明は、第１の研削研磨加工手段３と、保護用テープ貼着手段７と、第２の研削研磨加工手段９と、保護用テープ剥離手段１３と、第１の移送手段１６と、第２の移送手段１７と、第３の移送手段１８とを用いて、対向基板に第１の研削研磨加工手段３で研削又は研磨加工する工程と、第１の反転手段６で反転させて基板を上方にする工程と、保護用テープを貼着する工程と、基板に第２の研削研磨加工手段９で研削又は研磨加工する工程と、第２の反転手段１１で反転させて対向基板を上方にする工程と、保護用テープを剥離する工程と、第２の反転手段で反転させて対向基板を上方にする工程とを含む。
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【課題】薄膜トランジスタ及びその製造方法に関し、特に、漏洩電流を減少するための薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性基板１００と、可撓性基板１００上に形成される拡散防止層１１０と、拡散防止層１１０上に少なくとも二個の絶縁物質が積層して形成されるバッファ層１２０と、バッファ層１２０の一の領域上にチャンネル層１３０aとソース／ドレイン領域１３０ｂを有して形成される半導体層１３０と、半導体層１３０を含むバッファ層１２０上に形成されるゲート絶縁層１４０と、ゲート絶縁層１４０上のチャンネル層１３０aと対応する領域に形成されるゲート電極１５０と、ゲート電極１５０を含むゲート絶縁層１４０上に形成される層間絶縁層１６０と、層間絶縁層１６０にソース／ドレイン領域１３０bの少なくとも一の領域を露出させる所定のコンタクトホール１７０有し、ソース／ドレイン領域１３０ｂに接続されるように形成されるソース／ドレイン電極１８０a、１８０ｂと、を備えている。 （もっと読む）