【課題】十分な強度を確保でき、かつ形状精度に優れ、しかも生産性を向上させることができる表示装置用ガラス基板、表示パネル、表示装置を提供する。
【解決手段】一対のガラス基板３と表示層４を有する表示装置１０。ガラス基板３は、粗面化されたガラス製の基材５と、その表面に弾性を有する粘着シートを貼付して形成された表面層６とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛を含む半導体膜を用い、ソース電極及びドレイン電極にｎ型又はｐ型の不純物を添加した酸化亜鉛を含む膜を用いたときでも欠陥や不良が生じない半導体装置及びその作製方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜を形成し、絶縁膜上に第１の導電膜を形成し、第１の導電膜上にｎ型又はｐ型の不純物が添加された酸化亜鉛を含む第２の導電膜を形成し、第２の導電膜を第１のエッチングによって島状にし、第１の導電膜を第２のエッチングによって島状にし、絶縁膜及び島状の第２の導電膜上に酸化亜鉛を含む半導体膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ハードコート層を設けた基材フィルムに透明バリア膜と透明導電性膜を積層させることにより、高透明性、低透湿度、低抵抗率でかつ加熱後の収縮率が小さいことを特徴とする表示素子用の透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 少なくとも片側に無機粒子と有機成分からなるハードコート層が設けられたフマル酸ジエステル系樹脂よりなるフィルム基板上に、透明導電性膜が設けられていることを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】ギャップ制御性や配向安定性維持等の特性を損なうことなく、耐湿性が高く、焼き付き発生による表示劣化を抑制することが可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一対の基板間１１、１２に挟持された液晶層１７の外周に第１のシール部材１５を配置し、第１のシール部材１５の外周に一対の基板１１、１２に接して配置された第２のシール部材１６を配置する。そして、第２のシール部材１６は紫外線照射によって無機膜となるアルキルシロキサン化合物を原材料とする。また、アルキルシロキサン化合物は、ジアルキルシロキサン化合物又はジメチルシロキサン化合物とする。 （もっと読む）

【課題】 スプラッシュ、更にはパーティクルの発生を顕著に抑制でき、しかも高強度で低コストなＳｉＯ焼結蒸着材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 析出ＳｉＯからなる原料粉末を蒸着材料形状に成形する。ＳｉＯの成形体を酸素含有雰囲気中で低温焼結する。低温焼結体を非酸化性雰囲気中で高温焼結する。ＳｉＯ₂ からなる標準試料をＥＰＭＡにより定量分析したときのＯ／Ｓｉ比ａの理論値ａ₀ （≒１．１４）に対する比（ａ／ａ₀ ）を補正係数Ｋとし、ＥＰＭＡによるＯ／Ｓｉ比の実測値Ａを前記補正係数Ｋにより補正して得たＯ／Ｓｉ比の補正値Ａ₁ （＝１／Ｋ・Ａ）から求めた酸素定量分析値Ｏ₁ 〔＝１００／（１＋１／Ａ₁ ）〕が、酸素含有雰囲気中での低温焼結により４４〜４９％となる。高温焼結での析出Ｓｉの弊害が抑制されることにより、焼結温度の上昇が可能となり、圧縮破壊強度が１５ＭＰａ以上に上り、３０ＭＰａ以上も可能となる。 （もっと読む）

【課題】反射型液晶装置から効率良く熱エネルギーを逃がす。
【解決手段】多結晶シリコン層（１５０）は、ＴＦＴアレイ基板（１０）より熱伝導率が高い。したがって、液晶装置１の動作時に入射光に起因してＴＦＴアレイ基板１０に蓄積される熱エネルギーがＴＦＴアレイ基板（１０）から多結晶シリコン層（１５０）に速やかに伝播し、多結晶シリコン層（１５０）を介して液晶装置１外部に逃がされる。特に、多結晶シリコン層（１５０）は、ＴＦＴアレイ基板（１０）に直に接しているため、ＴＦＴアレイ基板（１０）の下面が空気（０℃における熱伝導率が０．０２４１Ｗ／ｍＫ）に曝されている場合に比べて、ＴＦＴアレイ基板（１０）から熱エネルギーを効率良く逃がすことが可能である。 （もっと読む）

【課題】ＦＦＳモードでマルチドメイン構造の液晶表示装置において、「面押しムラ」が発生し難く且発生しても自然放置で容易に消失可能な構造を提供する。
【解決手段】液晶表示装置の片方の基板は、共通電極と、絶縁膜を介して共通電極の上に配されたストライプ状のパターンを有する画素電極Ｐと、画素電極Ｐの上に配され液晶を配向する配向層と、画素電極Ｐと共通電極との間に電圧を印加して液晶の配向状態を変化させる手段とを有する。画素電極Ｐは、そのストライプ状のパターンが中間の部分で折れ曲がった屈曲部ＰＢと、屈曲部の両側から異なる方向に延びた延長部ＰＷとに分かれている。配向層は、屈曲部に対応する領域９Ｂと延長部に対応する領域９Ｗとで液晶を異なる方向に配向させるように領域分割されている。 （もっと読む）

【課題】常温において液晶表示パネルに反りが生じていても、該液晶表示装置の動作時の温度で該反りの矯正を行わせ、これによって該液晶表示パネルの表示むらを減少させた液晶表示装置の提供。
【解決手段】第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持された液晶層とを有する液晶表示パネルと、
前記液晶表示パネルの背面に配置されたバックライトとを有する液晶表示装置であって、
前記液晶表示パネルは、常温で第１の方向に凸になるように反っており、
前記液晶表示パネルは、前記第１の基板または前記第２の基板の前記液晶層とは反対側に、第１の板状体と、前記第１の板状体に貼り合わされた第２の板状体とを有し、
前記第１の板状体の熱膨張率と、前記第２の板状体の熱膨張率とが、前記常温よりも温度が上がったときに、前記第１の板状体と前記第２の板状体との組み合わせにより、前記第１の方向とは反対側の第２の方向に凸になるように反るような熱膨張率にそれぞれ設定されている。 （もっと読む）

【課題】 プラスチックフィルムなど可撓性基板からなる液晶セルの側面から侵入するガスを阻止し長期信頼性が確保された液晶素子を提供すること。
【解決手段】 第２の保護シート７、第２の偏光板６、液晶セル２８、第１の偏光板２、第１の保護シート１が順に積層し、第１と第２の保護シート１、７の延出部と液晶セル２８の側面とを含む空間にガスバリア部材を充填した。 （もっと読む）

【課題】水蒸気透過率が低くて、層間の密着性が良好な有機無機積層型のガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に有機層と無機層を含むバリア層を有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層が、有機層、膜密度が１．７以上である第一無機層、および第一無機層よりも膜密度が０．５〜１．５高い第二無機層から構成されていることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】グレーティング法を改善して生産性が高く十分な配向性を有し、高い画質を確保できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、一対の基板とその間隙に保持された液晶と、少なくとも片方の基板に形成され液晶の分子を配向する配向層とを備えている。配向層は、複数本の溝Ｍが平行に形成された主面を有する基層と、溝Ｍの形成された主面を被覆する被膜とからなる。被膜は、主面に対して電圧無印加の状態で液晶の分子の長手方向を示す分子長軸を平行に配向する水平配向能を有し、各溝Ｍは所定の方向に沿って伸びており、且つ所定の方向と直交する直交方向に沿って与えられたピッチで繰り返し配列されており、以って液晶の分子長軸が溝Ｍの所定の方向と直交する直交方向に指向して水平配向する。被膜は、溝Ｍの形成された主面に対する被覆率が５０パーセント以上である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の低い基板をベース基板とするＳＯＩ基板を用いて高性能な半導体装置を提供することを課題とする。また、機械的な研磨を行わずに高性能な半導体装置を提供することを課題とする。また、該半導体装置を用いた電子機器を提供することを課題とする。
【解決手段】絶縁基板上の絶縁層と、絶縁層上の接合層と、接合層上の単結晶半導体層と有し、単結晶半導体層は、その上部表面における凹凸形状の算術平均粗さが１ｎｍ以上７ｎｍ以下とする。または、凹凸形状の二乗平均平方根粗さが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であっても良い。または、凹凸形状の最大高低差が５ｎｍ以上２５０ｎｍ以下であっても良い。 （もっと読む）

【課題】フッ酸（ＨＦ）と硝酸（ＨＮＯ₃）との混酸を用いたエッチング方法では、この混酸を供給し続けている個所のエッチングレートが低下する傾向が見られ、基板の表面または裏面のポリシリコン膜を、均一に除去することは困難である。
【解決手段】フッ酸と硝酸とを混合した薬液である混酸、およびフッ化アンモニウムとフッ化水素酸とを混合した薬液であるバッファードフッ化水素酸の少なくとも２種類の薬剤をそれぞれの種類ごとに供給するので、マザー基板１１０の一方の面１１０ｆに形成されたポリシリコン膜１８０ｆ、および他方の面１１０ｒに形成されたポリシリコン膜１８０ｒが残ることなく、マザー基板１１０の一方の面１１０ｆのポリシリコン膜１８０ｆ、および他方の面１１０ｒのポリシリコン膜１８０ｒを除去することができる。 （もっと読む）

【課題】液膜を乾燥させて形成する膜の膜厚制御性を向上させる成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】膜厚計測部は、液膜Ｆ０における反射光の分布を計測して反射光データを生成する。制御部は、反射光データを用いることにより各座標の膜厚差分値を演算し、膜厚温度変換を用いることにより各座標の膜厚差分値を液膜Ｆ０の温度に変換する。そして、制御部は、膜厚差分値の分布に応じた温度分布を液膜Ｆ０に形成して液膜Ｆ０の乾燥処理を実行する。 （もっと読む）

【課題】耐湿性を向上させつつ高品位な表示を実現可能とした液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】一対の基板間に、液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法において、前記一対の基板の少なくとも一方に無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程と、前記無機配向膜の表面をシランカップリング剤により疎水性に改質する表面改質処理工程と、疎水性薬液である炭化水素系薬液により前記無機配向膜上の前記シランカップリング剤を除去する炭化水素系薬液洗浄工程と、親水性薬液であるアルコール溶液により前記無機配向膜上の前記炭化水素系薬液を置換して除去するアルコール洗浄工程と、を具備する構成とした。 （もっと読む）

【課題】透過型液晶表示素子基板に形成する遮光膜による接着時の熱拡散対策と遮光膜を有効利用した製造方法の提供。
【解決手段】透明基板２０上に遮光膜２１をトランジスタ形成領域２５にあわせパターン形成する工程と、全面に酸化シリコン膜２２を形成する工程と、酸化シリコン膜２２の平坦化処理をする工程と、シリコン基板２３を酸化シリコン膜２２上に接着する工程と、所定の位置に水素イオン注入で水素リッチ層２４を形成する工程と、水素リッチ層２４部でシリコン基板２３を分離する工程と、水素リッチ層２４を研磨して除去する工程と、シリコン膜２２上に集積回路を形成する工程を具備する製造方法において、遮光膜２１のパターン形成では、認識マーク２１ＡとＩＤ刻印部２１Ｂを形成し。接着する工程では、透明基板２０側から酸化シリコン膜２２に遮光膜２１の有無によりレーザーの照射量を変えてレーザーを照射する。 （もっと読む）

【課題】基板に与える熱量を一定にすることが可能な基板製造装置を提供すること。
【解決手段】基板製造装置１００の熱処理炉１２０内に、基板Ｋｘの搬送に伴い生じる温度変化を測定する搬送制御用熱電対１５０を設けている。基板製造装置１００の搬送制御手段１６０は、この搬送制御用熱電対１５０で測定した温度変化に応じて搬送間隔Ｑｙを認識し、調整搬送ローラ１１１Ｂの回転速度を制御することにより、基板Ｋｘの搬送速度を個別に制御する。このため、例えば基板Ｋｘなどにより、この基板Ｋｘの搬送速度が他の基板Ｋｘと異なってしまったとしても、温度変化により基板Ｋｘの搬送間隔Ｑｙを認識し、この搬送間隔Ｑｙに基づき基板Ｋｘの搬送速度を個別に制御することにより、搬送間隔Ｑｙを一定にすることができる。したがって、基板Ｋｘに与える熱量を一定にできる。 （もっと読む）

【課題】光学特性、耐熱性に優れた液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ用基板に用いられる光学フィルムを提供する。
【解決手段】フマル酸ジエステル系樹脂および平均粒子径が２００ｎｍ以下であるコロイダルシリカ等の球状無機粒子からなることを特徴とする透明フィルムであり、該球状無機粒子は、有機シラン化合物、もしくは（メタ）アクリロイル基、スチリル基、ビニル基等の重合性基を含む有機化合物によって表面処理されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】画素電極の導通不良を抑制して有機絶縁膜をリワークする。
【解決手段】基板に設けられた複数のＴＦＴ５に重畳すると共に、各ＴＦＴ５にそれぞれ接続するためのコンタクトホールＨが設けられた有機絶縁膜を形成し、その形成された有機絶縁膜を検査した後に、その検査された有機絶縁膜が異常なときに各ＴＦＴ５上に有機絶縁膜をリワークし、また、その検査された有機絶縁膜が正常なときにその有機絶縁膜上に複数の画素電極１７をマトリクス状に形成するアクティブマトリクス基板２０の製造方法であって、リワーク工程は、剥離工程、アッシング工程、モノエタノールアミンを含む第１の洗浄液により洗浄を行う第１洗浄工程、ジメチルスルホキシドを含む第２の洗浄液による洗浄、及び純水により洗浄を行う第３洗浄工程とを有し、第３洗浄工程の後に有機絶縁膜をリワークする。 （もっと読む）

【課題】発熱性の被封止物と組み合わせて用いられる、ガスバリア性と放熱性とを兼ね備えたガスバリア性シート、このガスバリア性シートの製造方法、このガスバリア性シートを用いた封止体、及びこの封止体を用いた有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】基板７上に設けられた発熱性の被封止物５と、被封止物５上に設けられたガスバリア性シート１Ａと、を有し、少なくともガスバリア性シート１Ａと被封止物５周辺の基板７表面とが接着されている封止体１０Ａであって、ガスバリア性シート１Ａが、ダイヤモンドライクカーボンからなる放熱性ガスバリア膜３を有し、放熱性ガスバリア膜３の熱伝導率を３０Ｗ／ｍＫ以上とすることによって、上記課題を解決する。 （もっと読む）