【課題】脆性基板におけるクラックの成長を抑制して、曲面状の表示パネルの破損を抑制する。
【解決手段】脆性を有する第１基板１０と、第１基板１０に対向して配置された第２基板２０と、第１基板１０及び第２基板２０の間に設けられた表示媒体層１５とを備えた表示パネル３０ａであって、第１基板１０及び第２基板２０は、第１基板１０が外方に向くように湾曲しており、第１基板１０の端面には、第１基板１０の端面に形成されたクラックへの水分の浸透を抑制して、そのクラックの成長を抑制するためのクラック成長抑制膜２１ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板の薄型化と強度向上とを両立することのできる、液晶表示装置の製造方法を
提供する。
【解決手段】第１基板１０第２基板２０との間に液晶層を挟持する液晶表示装置の製造方
法である。複数の第１基板１０を含む第１母材基板１と、複数の第２基板２０を含む第２
母材基板２と、を貼り合せる。貼り合わせた第１母材基板１及び第２母材基板２の表面を
薄型加工する。第１母材基板１、及び第２母材基板２のエッチング処理面に、薄膜応力×
膜厚が５０Ｐａ・ｍ以上となる圧縮応力を有する保護膜１５をそれぞれ形成する。そして
、保護膜１５が形成された第１母材基板１、及び第２母材基板２をスクライブして、第１
基板１０及び第２基板２０における貼り合わせ構造を有する液晶パネル毎に個片化する。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、また水蒸気などのガスの遮断性が高く、加えて反射防止機能を有する透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。表面を平滑に形成するための透明な平滑化層２，３が複数層積層して透明積層板に形成されていると共に、複数層の平滑化層２，３が、屈折率が１．５６以上の高屈折平滑化層２と、屈折率が１．４９未満の低屈折平滑化層３からなる。 （もっと読む）

【課題】水蒸気などのガスの遮断性が高く、また表面の平滑性が高い透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。そして、透明積層板１の表面にゾル溶液を塗布してゲル化させるゾルゲル法によって透明層２を形成する。ゾルゲル法で形成される透明層２は緻密な層であり、水蒸気などのガスを遮断する効果が高く、ガスが透過することを遮断することができると共に、また透明積層板１の表面の凹凸をこの透明層２で埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】水蒸気などのガスの遮断性が高い透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。そしてフィルム基材２の表面にガスバリア性を有するガスバリア層３を設けて形成される透明なガスバリアフィルム４が透明積層板１に積層されている。ガスバリアフィルム４のガスバリア層３で水蒸気などのガスが透過することを遮断することができ、水蒸気などのガスの透過を遮断するガス遮断性が高い透明基板を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】静電気による帯電を防止し、素子破壊による不良発生を低減させることができる薄膜トランジスタ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板１を製造する各処理工程に長尺プラスチック基板１０をロール・ツー・ロールで供給、巻き取りを行いながらその長尺プラスチック基板１０の一方の面Ｓ１に薄膜トランジスタ５０を形成する薄膜トランジスタ基板１の製造方法であって、少なくとも長尺プラスチック基板１０の一方の面Ｓ１に薄膜トランジスタ５０を形成する前に、長尺プラスチック基板１０の他方の面Ｓ２の全面に導電膜２を形成する。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、また水蒸気などのガスの遮断性が高い透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。表面を平滑に形成するための透明な平滑化層２が、無機フィラーを含有するコーティング剤の塗装によって透明積層板１の表面に形成されている。コーティング剤の塗装によって透明積層板１の凹凸を埋めて平坦にならした状態で平滑化層２を形成することができ、表面の平滑性を高めることができる。また平滑化層２には無機フィラーが含有されているため、平滑化層２の硬化収縮を低減して、平滑性の効果をより高く得ることができると共に、平滑化層２による水蒸気などのガスの遮断性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高い透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。表面を平滑に形成するための透明な平滑化層２が、硬化収縮率が５％未満のコーティング剤の塗装によって透明積層板１の表面に形成されている。コーティング剤の塗装によって透明積層板１の凹凸を埋めて平坦にならした状態で平滑化層２を形成することができ、表面の平滑性を高めることができる。しかも平滑化層２を形成するコーティング剤は硬化収縮率が５％未満であるため、硬化収縮によって平滑化層２に生じる凹凸を低減することができ、平滑化層２による平滑性の効果をより高く得ることができる。 （もっと読む）

【課題】コントラスト比の高い液晶表示素子を得る。
【解決手段】少なくとも、Ａ面サファイア基板の両面を鏡面仕上げする工程と、前記サファイア基板の表面にシリコン酸化膜を形成する工程と、前記Ａ面サファイア基板の表面に単結晶シリコン基板を貼付する工程と、前記Ａ面サファイア基板の裏面を粗面化する工程と、前記単結晶シリコンにＬＳＩ加工をする工程と、前記Ａ面サファイア基板のＣ結晶軸と該Ａ面サファイア基板側に貼付される偏光板の透過偏光軸または吸収偏光軸のいずれかの偏光軸及び前記Ａ面サファイア基板に形成される配向膜の配向軸を合わせる工程を具備する透過型液晶表示素子の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって優れたシール性能を発揮することができるダイヤフラムバルブを提供する。ダイヤフラムバルブの閉状態において、処理流体配管を確実に閉塞することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】フッ素樹脂（ＰＴＦＥまたはＰＦＡ）製の弁座３０の先端部（ダイヤフラム２５に対向する端部）には環状のシール部材２０が配置されている。弁座３０の上面には、弁座３０の内面に連続する環状の段部４５が形成されており、その段部４５にシール部材２０が収容されている。シール部材２０は、フッ化ビニリデン系樹脂（ＦＫＭ）によって形成されており、比較的高い弾性および耐薬性を有している。流路の閉鎖状態で、ダイヤフラム２５と弁座３０との間にシール部材２０が密着状態で介装される。 （もっと読む）

【課題】物理蒸着法による薄膜の形成時において、処理室内に堆積する膜のクラックの発生を防止し生産性を向上させることが可能な成膜方法及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、物理蒸着法により処理室内において被蒸着物上に薄膜を形成する成膜方法において、内部応力が引張応力及び圧縮応力のうちのいずれか一方を示す第１の膜を形成する第１の成膜工程と、内部応力が、引張応力及び圧縮応力のうちの前記第１の膜が示す方とは異なる方を示す第２の膜を形成する第２の成膜工程と、を同一の前記処理室内において交互に実施することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面硬度が高く、脆性、カール防止性に優れるハードコートフィルムを提供すること。また、該ハードコートフィルムを具備した偏光板および画像表示装置を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層を有するハードコートフィルムであって、該ハードコート層が、ポリロタキサンを含有し、ポリロタキサンがハードコート層の表面に高濃度で存在することを特徴とするハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶パネルに帯電防止機能を付加するとともに曲げ強度を向上させることができる液晶パネルとその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明による液晶パネルは、２枚のガラス基板１、２１が貼り合わされて形成されたフレキシブル性を有する液晶パネル５４において、少なくとも一方のガラス基板１、２１の外側主面と、ガラス基板１、２１の端部および側面６４とに透明導電性膜６５を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】線膨張係数が小さく、透明性に優れた液晶表示装置用、有機ＥＬ表示装置用プラスチック基板、電子ペーパー用基板等のディスプレイ用基板または太陽電池用基板に好適に使用できる透明複合材料を提供する。
【解決手段】(1) 脂肪族エポキシ化合物から合成されるビニルエステル樹脂を含むビニルエステル樹脂組成物６０質量％〜９０質量％に、４級アンモニウム塩及び／または４級ホスホニウム塩によって有機化処理された数平均粒径が１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、アスペクト比が１０〜３００である合成スメクタイト１０質量％〜４０質量％を分散させた組成物を硬化してなる透明複合材料、(2) 硬化前の前記複合材料原料組成物を電子線（ＥＢ）、紫外線（ＵＶ）または熱硬化させる透明複合材料の製造方法、(3) 前記透明複合材料を基材とした表示装置用基板及び太陽電池用基板。 （もっと読む）

【課題】 本発明はＩＰＳ方式等の液晶表示装置において、表示品質を劣化させる静電気などの影響を確実に抑えることができる構成を提供するものである。
【解決手段】 Ｆｅイオン及びＮｉイオンなどの金属イオンを高濃度でガラス基板表面に照射することにより、ガラス基板表面に導電パスが形成され、本来絶縁であるガラス基板表面に導電性が生じる。本発明では、このガラス基板２が観測者側にくるように液晶表示装置を構成することとした。そして、静電気をグラウンド１１に落とすための金属などの導電性の部材１２を組み込み、表面で発生した静電気の影響を抑制する。 （もっと読む）

【課題】位相差機能を持つ環状ポリオレフィン樹脂からなるベースフィルムを用いた構成で、ガスバリア層中の各膜同士の親和性を向上させ、良好なガスバリア性を発揮することが可能なガスバリア層付フィルムを提供する。
【解決手段】ベースフィルム１０を、Ｈ_２Ｏ透過率が１０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下のバリア性と、ガラス転移温度が１３０℃以上の特性を有し、且つ、リターデーションが波長０以上５５０ｎｍ以下の位相差を持つ透明ポリオレフィン樹脂で構成する。ガスバリア層を、電離線硬化樹脂または熱硬化樹脂の少なくともいずれかよりなるポリマー膜１２と、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＮ_ｚからなる無機膜１１とで構成する。ｘは０．３５以上０．５５以下であり、ｙ／ｚは０．４以上２．０以下であり、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たすものとする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板間へ混入した異物によるガラス欠陥の発生を抑制し、エッジピットを発生させることなく既存の製造ラインで処理することができ、密着した薄板ガラス基板と樹脂層と支持ガラス基板とを容易かつ短時間で分離できるようにする。
【解決手段】第１主面および第２主面を有する前記薄板ガラス基板３２ａ，３２ｂの第１主面に、第１主面および第２主面を有する支持ガラス基板３９ａ，３９ｂの第１主面に固定された易剥離性を有する樹脂層３８ａ，３８ｂが密着している支持体付き表示装置用パネル３０を、有機溶媒４０に浸漬する浸漬工程を具備する、表示装置用パネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 液晶素子側面部において高いガスバリア性が確保できる液晶素子を提供すること。
【解決手段】上基板１の液晶層６側の面全体に亘って形成された反射膜２２（無機ガスバリア層）と、上基板１が下基板３の周囲から延出した延出部７と、下基板３の側面とシール２の側面と延出部７の液晶層側の面を覆うように塗布されたガスバリア部材２４とを備えた。延出部７を台にしてガスバリア部材２４を塗布したので、ガスバリア部材２４が厚くなりガスバリア性が向上する。反射膜２２はガスバリア層及びコモン電極と兼用しているので製造工程が簡略化している。 （もっと読む）

【課題】防眩性および耐擦傷性、強度（スチールウール強度）、鉛筆硬度等に優れた透明被膜付基材を提供する。
【解決手段】基材上に、平均粒子径(Ｄ_P)が０．１〜５μｍの範囲にある無機酸化物粒子
とマトリックスとからなり、該無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）とマトリックスの屈折率
（ｎ_M）との差（ｎ_P）−（ｎ_M）が０．０５〜０．８の範囲にあり、表面に凹凸を有する
第１透明被膜、および、該第１透明被膜上に、表面が平坦な第２透明被膜が形成されてなることを特徴とする透明被膜付基材。前記無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）が１．２０〜
２．５０の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材との密着性、膜の耐熱性、膜の脱ガス特性、膜強度等に優れるとともにイオン拡散防止性能に優れたイオン拡散防止膜を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（Ｉ）等で示される有機珪素化合物をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＯＨ）の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物を含む塗布液を調製する工程、（ｂ）前記塗布液をガラス基材上に塗布する工程、（ｃ）塗布膜を２５〜３５０℃の温度で乾燥処理する工程、（ｄ）水蒸気の存在下、塗布膜を１０５〜４５０℃の温度条件下で加熱処理する工程（水熱処理工程）、からなるイオン拡散防止膜の製造方法。Ｘ_nＳｉ（ＯＲ）_{4-n・・・・}（Ｉ）（式中、Ｘは水素原子、フッ素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、フッ素置換アルキル基、アリール基もしくはビニル基を表し、Ｒは水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、アリール基もしくはビニル基等を表す。） （もっと読む）