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Fターム[2H090JC09]の内容

液晶−基板、絶縁膜及び配向部材 (35,882) | 基板に関する製法 (2,526) | 改質 (549) | 放電処理 (27)

Fターム[2H090JC09]に分類される特許

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【課題】画面に帯電した静電気を良好に除去することができる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、第1主表面を含む第1基板411と、第1主表面と対向する第2主表面と、第2主表面と反対側に位置する第3主表面とを含み、第1基板411と間隔をあけて配置された第2基板421と、第1基板411および第2基板421の間に位置し、液晶分子を含む液晶層430と、第1基板411に形成された第1電極412と、第1電極412と協働して、液晶分子の向きを制御可能な第2電極413と、第3主表面に向けて正イオンおよび負イオンを選択的に吹き付けるイオン放出モジュールと、第3主表面の電気的極性を検知可能な検知部とを備える。上記イオン放出モジュールは、第3主表面が負極に帯電しているときに第3主表面に向けて正イオンを吹きつけ、第3主表面が正極に帯電しているときに第3主表面に向けて負イオンを放出する。 (もっと読む)


【課題】極めて高いガスバリア性能と高い耐久性を達成できるガスバリア層を有するガスバリアフィルム、該ガスバリアフィルムを用いた有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、少なくとも1層のポリシラザンを含有するガスバリア層を有し、かつ、該ガスバリア層は、それぞれ、100〜200nmの波長成分を含む真空紫外線を照射することにより表面側が改質されている(改質部分)ガスバリアフィルムであって、少なくとも最上層に該ガスバリア層を有し、更に、該最上層のガスバリア層の改質部分を、前記真空紫外線によって温度80℃、積算光量3000mJ/cmで追加処理を行った際、該改質部分の膜厚変化が0nm〜10nmであることを特徴とするガスバリアフィルム及び有機電子デバイス。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内でガラス基板が割れたときにガラス破片を速やかに回収することができる基板処理方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の基板処理方法は、チャンバ内に配置されたガラス基板に表面処理を施す基板処理方法であって、上方が開口された凹状の基板保持ケース20にガラス基板10を収容した状態でチャンバ内に搬送し、かつ、該基板保持ケース20に収容した状態でガラス基板10に表面処理を施すことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】生産性が高く、極めて高いガスバリア性能と高い耐久性を達成できるバリアフィルム、バリアフィルムの製造方法、バリアフィルムを用いた有機光電変換素子と該素子を用いた太陽電池を提供する。
【解決手段】基材の表面上にポリシラザンを含有する塗布液を塗布して塗膜を作製する工程、該塗膜を乾燥する工程の後、前記塗膜に真空紫外光を照射する工程を経て、前記塗膜を改質してバリア層を形成する工程を有するバリアフィルムの製造方法において、
前記塗膜を乾燥する工程と、該真空紫外光を照射する工程が終了するまでの間に、表面処理を行う工程を有することを特徴とするバリアフィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】局所的な放電が基板上で発生した製造工程を速やかに特定する。
【解決手段】各々、表示領域Dを有する複数のアクティブマトリクス基板形成領域Aがマトリクス状に規定されたアクティブマトリクス基板用母基板120であって、各表示領域Dの外側には、局所的な放電により破壊されて局所的な放電を検出する放電検出パターンPaが設けられている。 (もっと読む)


【課題】加工時や使用時に生じる熱による寸法変化が起こりにくく、且つ変質しにくく、したがって、長期にわたり高く安定したガスバリア性を保持することができる透明ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムを加熱処理し、特定の熱収縮率となるように収縮させてプラスチック基材フィルムとし、該プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着膜を設けて蒸着フィルムとし、さらに、該蒸着フィルムを加熱処理して、特定の熱収縮率となるように収縮させ、該収縮させた蒸着フィルムの蒸着膜が設けられた面に、ガスバリア性塗布膜を設けることを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


【課題】被処理基板へのパーティクルの付着や被処理基板へのダメージを防止することができる被処理基板の除電方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置10は、ウエハWを収容するチャンバ11と、該チャンバ11内に配置されてウエハWを載置する載置台12とを備え、該載置台12は、載置されたウエハWの裏面に接触して当該ウエハWを静電吸着する静電チャック21と、該静電チャック21からウエハWの裏面に向けて伝熱ガスを噴出する外周部伝熱ガス供給系25を有し、裏面に負の電荷が蓄積され且つ表面に正の電荷が蓄積されているウエハWを除電する際、まず、プラズマP中の電子によってウエハWの表面の正の電荷を中和し、その後、外周部伝熱ガス供給系25からウエハWに向けてイオン化ガスを供給し、イオン化ガス中の陽イオンによってウエハWの裏面の負の電荷を中和する。 (もっと読む)


【課題】基材上に設けられた銅ナノ粒子を含む印刷層を、低温かつ短時間で焼成処理して、平滑な半導体層を形成してなる半導体基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】基材上に、銅ナノ粒子を含む塗布液をパターン状に印刷して印刷層を形成した後、この印刷層を焼成処理してパターン状の半導体層を形成する半導体基板の製造方法であって、酸素を含む雰囲気下、マイクロ波エネルギーの印加により発生する表面波プラズマに前記印刷層を晒すことにより、該印刷層の焼成処理を行うことを特徴とする半導体基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】交流コロナ放電によりイオンを発生するイオナイザにより液晶パネル基板の除電を行うにあたり、除電効率を向上することにより除電工程における処理能率を向上する。
【解決手段】金属細線からなる放電電極と、この放電電極を覆う導電ケースからなり、該導電ケースの被除電物である液晶パネル基板に面する側が開放しているイオナイザにより液晶パネル基板に対し交流コロナ放電を行い、帯電した液晶パネル基板の除電が可能となるようにした液晶パネルの除電装置において、前記イオナイザを液晶パネル基板の搬送方向と直交するように配置し、直流電流成分を除去した交流高電圧を前記イオナイザの放電電極に印加する。 (もっと読む)


【課題】位相差機能を持つ環状ポリオレフィン樹脂からなるベースフィルムを用いた構成で、ガスバリア層中の各膜同士の親和性を向上させ、良好なガスバリア性を発揮することが可能なガスバリア層付フィルムを提供する。
【解決手段】ベースフィルム10を、HO透過率が10g/m/day以下のバリア性と、ガラス転移温度が130℃以上の特性を有し、且つ、リターデーションが波長0以上550nm以下の位相差を持つ透明ポリオレフィン樹脂で構成する。ガスバリア層を、電離線硬化樹脂または熱硬化樹脂の少なくともいずれかよりなるポリマー膜12と、Siからなる無機膜11とで構成する。xは0.35以上0.55以下であり、y/zは0.4以上2.0以下であり、x+y+z=1を満たすものとする。 (もっと読む)


【課題】可燃性有機溶剤を基板に供給して所定の表面処理を施す基板処理装置および方法において、X線照射を用いた除電を効率的に行う。
【解決手段】基板処理装置が行う一連の処理のうち可燃性雰囲気が形成される処理はIPA液を用いた置換処理に限定されることから、X線照射を用いた除電処理を置換処理に限定して用いる。すなわち、X線照射の開始および停止をIPA液(可燃性有機溶剤)の供給タイミングに対応して設定している。したがって、X線照射が必要最小限に止められ、X線照射を用いた除電を効率的に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】露光装置において基板に付着した液体による動作不良および処理不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Wの洗浄後、基板Wが回転する状態で、液供給ノズル650がリンス液を吐出しつつ基板Wの中心部上方から外方に向かって移動する。この場合、リンス液が存在しない乾燥領域R1が基板W上で拡大する。液供給ノズル650が基板Wの周縁部上方まで移動すると、基板Wの回転速度が下降する。液供給ノズル650の移動速度はそのままで維持される。その後、リンス液の吐出が停止されるとともに液供給ノズル650が基板Wの外方に移動する。それにより、乾燥領域R1が基板W上の全体に広がり、基板Wが乾燥される。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性を有し、カラーシフトの抑制された樹脂フィルムからなる液晶セル用基板を提供する。
【解決手段】樹脂フィルムからなる液晶セル用基板において、該液晶セル用基板が樹脂フィルム上に、酸化金属膜、窒化金属膜または酸窒化金属膜から選ばれる少なくとも2層の金属膜を有する樹脂フィルムであって、該少なくとも2層の金属膜が同一組成であってかつ剪断強度が異なる金属膜であることを特徴とする液晶セル用基板によって達成された。 (もっと読む)


【課題】処理液を基板に供給して処理する基板処理装置において、処理中における基板の帯電を抑制する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板2に向けて処理液の液滴を吐出する吐出口46を有する吐出手段41、および、吐出手段41の外壁411に設けられた誘導電極44を備える。処理液供給ユニット413は導電線49を介して接地される。誘導電極44は電源45に接続され、処理液供給ユニット413と誘導電極44との間に電位差が付与されることにより、電荷が誘導された処理液の液滴が生成される。基板処理装置1では、電荷が誘導された処理液の液滴により基板2を洗浄することにより、洗浄中および洗浄後における基板2の帯電を抑制することができる。また、外壁411に誘導電極44が配置されることにより、外壁411の内部で液滴が生成される吐出手段に対しても、簡単な構成で誘導電極を配置できる。 (もっと読む)


【課題】基板上に配向膜を形成する際に、異物の発生を抑制し、配向膜を良好に形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、基板を収容可能であり、収容した基板上に配向膜を形成可能な第1室と、第1室に配置され、基板上に配向膜を形成するための材料を供給可能な材料供給部と、第1室に配置され、材料供給部と基板との間に所定部材が配置されるように所定部材を着脱可能に保持する保持装置と、第1室と別の位置に配置され、所定部材をクリーニング可能なクリーニングシステムと、第1室の保持装置とクリーニングシステムとの間で所定部材を搬送する搬送システムとを備えている。 (もっと読む)


【課題】基板に帯電防止処理を行う装置において、継続して使用しても静電気の帯電防止効率を低下させず、パーティクルを発生させない。
【解決手段】帯電防止装置24には、ガラス基板Gの裏面に紫外線を照射する照射部120が設けられている。ガス供給部110とガス排出部111は照射部120を挟んで配置されている。ガス供給部110へ酸素含有ガスを供給するガス供給経路Mと、ガス排出部111からガスを排出するガス排出経路Nとの間には、戻し経路Rが接続されている。ガス排出経路Nを流れるガスは、その一部が戻し経路Rを流れて、ガス供給経路Mに戻される。ガス排出経路Nに排出されるガスのオゾン濃度は、オゾンモニター124によって測定され、その結果に基づいて、制御部125は、戻し経路Rに設けられたファン121の回転数を制御する。 (もっと読む)


【課題】従来の技術と比較して、方向や角度が調整可能になるよう配向膜の表面を改質することで、単一の製造工程によりプレチルト角の配向の安定性を図るための液晶配向製法および該製法に適用される液晶配向システムを提供する。
【解決手段】液晶分子配列を有する配向膜表面に、該配向膜を、単一または複数のプラズマ生成装置により処理することで、液晶分子がプレチルト角を有する配列となることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】湾曲形態であっても基板に対する保護フィルムの良好なラミネート状態を維持可能とし、長期信頼性を確保した電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】マイクロカプセル10が挟持された一対の基板2,3を備える表示装置4が、一対の保護フィルム5,5’によって封止され、湾曲状態で使用される電気泳動表示装置1の製造方法であって、一対の保護フィルム5,5’によって表示装置4の表裏両面を覆い、かつ表示装置4の外周側にて一対の保護フィルム5,5’間を熱可塑性樹脂からなる接着剤18で封止する保護フィルム被覆工程と、封止部16を加熱して接着剤18を溶融させ、その状態で表示装置4を使用状態に対応させて湾曲させる湾曲工程と、溶融させた接着剤18を冷却して固化し、一対の保護フィルム5,5’によって表示装置4を湾曲した状態に保持する湾曲形状保持工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板をリフトアップした直後の狭い間隙に軟X線を正確に照射する。
【解決手段】軟X線除電装置14からの軟X線を間隔dに導入し、軟X線光軸モニタ16で検出し、その検出出力で取り付け位置調整手段15を調整して、光軸合わせを行う。次に、データベース19の情報に基づいて、制御装置17が間隔調整手段13を制御しながら、除電を行う。また、電位計18によって計測された帯電電位を制御装置17で許容値以内であるか、除電状況を判断しながら、間隔調整手段13で間隔dを制御して除電することもできる。 (もっと読む)


【課題】 光学基材等の絶縁性基材上に、コーティング等の工程を経ることなく、該基材上に良好な帯電防止性を付与する方法を提供することに加え、前記方法に好ましく使用することができる、透明性、再剥離性に優れる粘着シートを形成し得る帯電防止アクリル粘着剤を提供する。
【解決手段】 導電性粘着剤層を有する粘着フィルムを絶縁性被着体に貼着した後、前記粘着フィルムを剥がすことにより、前記絶縁性被着体表面の表面抵抗値を低下させる方法。 (もっと読む)


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