【課題】フロントウインドウを液晶パネルに接着した後に液晶パネルの周辺部に色ムラが発生することを抑制する。
【解決手段】液晶表示装置は、走査信号線、データ信号線、及び画素電極をそれぞれ含む複数のＴＦＴパターンを形成したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板と対向して配置されるカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板においてＴＦＴ基板と対向する面に形成された、複数の柱状スペーサと、を備え、複数のＴＦＴパターンのうち少なくとも一部は、走査信号線の上又は画素電極の下に形成され、複数の柱状スペーサの１つを直接又は間接的に支持する台座を備え、ＴＦＴ基板の中央部分に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が柱状スペーサを支持する面積が、ＴＦＴ基板の中央部分よりも外側に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が柱状スペーサを支持する面積よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】大型化に適した薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタアレイ基板、フレキシブル表示素子、フレキシブル表示装置及び薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】フレキシブルな樹脂基板６０に形成された薄膜トランジスタ２００であって、周面の一部又は全部が導電性材料２０により覆われたワイヤー１０と、前記導電性材料を覆う絶縁膜３０と、該絶縁膜を介して前記導電性材料上に形成された薄膜半導体４０と、が一体的に構成されたゲート・チャネル一体形成部５０を有し、該ゲート・チャネル一体形成部が前記樹脂基板の表面上又は内部の所定位置に設けられ、前記薄膜半導体の両側に第１及び第２の電極７０、８０が接続されて形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】映像信号線のパターニング時における映像信号線の断線を防止する。
【解決手段】映像信号線１０７、ドレイン電極１０７、ソース電極１０７は同層で同時に形成される。映像信号線１０７等はベース層１０７１、ＡｌＳｉ層１０７２、キャップ層１０７３の３層によって形成される。従来は、ＡｌＳｉ層１０７２において、キャップ層１０７３との境界にエッチングレートの早い合金が形成されて映像信号線１０７等のパターニング時、断線を生じていた。本発明では、映像信号線１０７等の形成時、ＡｌＳｉ層１０７２をスパッタリングによって形成した後、ＴＦＴを大気にさらし、ＡｌＳｉ層の表面にＡｌ酸化層を形成した後、キャップ層１０７３をスパッタリングによって形成する。これによってＡｌＳｉ層に、エッチングレートが部分的に早くなる合金が発生することを防止し、映像信号線等の断線の発生を防止する。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の提供。
【解決手段】本発明の実施形態に係る液晶表示装置の場合、共通電極の真上または直下に共通電圧線を形成して、直接的に接触させることにより、共通電圧線の信号遅延を低減するとともに、液晶表示装置の開口率の低下を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】 Ｍｏの持つＳｉバリヤ性、ＩＴＯコンタクト性という利点を維持しながら、耐酸化性を改善し、尚且つＣｕとの積層時や信号ケ−ブルの取り付け等の加熱工程を経ても低い電気低抵値を維持できる、電子部品用積層配線膜を提供する。
【解決手段】 基板上に金属膜を形成した電子部品用積層配線膜において、Ｃｕでなる主導電層と、該主導電層の一方の面および／または他方の面を覆う被覆層からなり、該被覆層は原子比における組成式がＭｏ_{１００−Ｘ}Ｎｉ_Ｘ、１０≦Ｘ≦７０で表され、残部不可避的不純物からなるＭｏ−Ｎｉ合金である電子部品用積層配線膜。 （もっと読む）

【課題】静電破壊を防止して歩留まり良く製造できる電気装置の製造方法、半導体基板の製造方法、電気装置用形成基板、及び電子機器を提供する。
【解決手段】支持体上に、樹脂材料からなる基材を複数積層することで第１基板を形成する工程と、素子基板から前記支持体を剥離する工程と、素子基板との間で機能素子を挟持するように第２基板を貼り付ける工程と、を有する電気装置の製造方法に関する。素子基板の形成工程においては、複数の基材間のいずれかに挟持するように電極層を配置するとともに、電極層よりも上層であって複数の前記基材間のいずれかに挟持する或いは基板本体の表面に配置するように機能素子を駆動するための半導体素子を設ける。 （もっと読む）

【課題】 製造歩留まりの低下を抑制する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 マトリクス状に配置された複数の表示画素ＰＸを含む表示領域２５と、複数の表示画素ＰＸを駆動する駆動配線１１、１２と、駆動配線１１、１２の上層に配置されパターン端部に膜厚の薄い薄膜部２３が設けられている平坦化膜２０と、平坦化膜２０上において平坦化膜２０のパターン端部を横切って配置された第１電極３０と、を備えたアレイ基板１１０と、アレイ基板１１０と対向して配置された対向基板１２０と、アレイ基板１１０と対向基板１２０との間に挟持された液晶層７０と、を備えた液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】電源用配線のためのプロセス・材料・線幅・膜厚の変更などによる抵抗低減に限度がある場合でも、輝度ムラの少ない有機ＥＬディスプレイ等の面発光表示装置を安価に提供する。
【解決手段】複数の画素回路のそれぞれに接続している複数の電源線と、複数の電源線のそれぞれの端部が所定の間隔で接続されており、電源端子（２３）を有する電源バス（２２）と、を備えており、電源バス（２２）は、その長さ方向に沿って電源端子（２３）から前記端部の方向へと延びる複数のスリット（６１）を有しており、前記複数のスリット（６１）の全部又は一部は、電源バス（２２）内でその周囲が閉じられた形状である、面発光表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】タッチパネル電極とＩＰＳ方式カラーフィルタを同一の透明基板の表裏に形成した場合、画素開口部にレジスト残渣が残らずパネル透過率低下がなく、静電気障害・外部電界影響によるパネルの表示品位低下が軽減されたＩＰＳ方式液晶パネル用のカラーフィルタ基板とそれを備えた液晶表示装置とを提供する。
【解決手段】同一の透明基板の、表面に静電容量型のタッチパネル電極と、裏面にカラーフィルタ層と、が形成されたカラーフィルタ基板において、前記裏面の膜面の一層目に導電膜が形成されており、前記導電膜は樹脂ブラックマトリックスの下側にパターン形成されている。 （もっと読む）

【課題】配線の交差部分における点灯状態を視認しにくくする。
【解決手段】液晶表示素子は、第１基板、第２基板、液晶層、第１配向膜、第２配向膜、吸収軸を略直交配置された第１偏光板及び第２偏光板、第１基板に設けられた第１電極及び第１配線部、第２基板に設けられた第２電極及び第２配線部を備え、第１配線部と第２配線部とが部分的に重なって交差部が画定される。この交差部は、相互に略直交する１組の第１外縁部及び１組の第２外縁部を有する。第１外縁部と第２外縁部の各々は、第１偏光板及び第２偏光板の各吸収軸とのなす角度を略４５°に設定され、第１配向膜及び前記第２配向膜の各々の配向処理の方向に対して、第１外縁部が略直交し、第２外縁部が略平行である。 （もっと読む）

【課題】タッチセンシング基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１光センシング素子は、ベース基板上に配置され、第１の光によって動作し、第１ゲート電極、第１ゲート電極と重なる第１アクティブパターン、第１アクティブパターンと部分的に重なる第１ソース電極、及び第１ドレーン電極を含む。第２光センシング素子は、ベース基板上に配置され、第２の光により動作し、第２ゲート電極、第２ゲート電極と重なる第１アクティブパターンと異なった物質を含む第２アクティブパターン、第２アクティブパターンと部分的に重なる第２ソース電極、及び第２ドレーン電極を含む。第１バイアス配線は、第１及び第２ゲート電極から延長されて第１及び第２ゲート電極と接続される。ソース及びドレーン電極がソース及びドレーン接続電極によりコンタクトホールを通じて接続されることによって、ソース及びドレーン電極のショート不良を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、積層構造の単純化を図り、しかも高品質な表示を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板上に、データ線（６）に接続された第１ソースドレイン領域、及び画素電極（９）に接続された第２ソースドレイン領域を含んでなる半導体層（３０ａ）と、半導体層と画素電極との間に配置され、一の走査線（１１）に接続されたゲート電極（３０ｂ）とを有するトランジスター（３０）と、一の走査線に隣り合う走査線に接続された第２トランジスターのゲート電極が延在してなる第１容量電極と、第１容量電極と画素電極との間に設けられるとともに第２ソースドレイン領域に接続された第２容量電極とを有する蓄積容量（７０）とを備える。蓄積容量は、半導体層とゲート電極との間の絶縁膜及び半導体層と基板との間の絶縁膜を貫通するとともに基板に設けられた溝内の少なくとも一部に設けられている。 （もっと読む）

【課題】本発明はＴＦＴ−ＬＣＤアレイ基板及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明はＴＦＴ−ＬＣＤアレイ基板及びその製造方法に関し、アレイ基板はベース基板と、ベース基板上に形成され画素領域を限定するゲートライン及びデータラインを含み、前記画素領域内には画素電極、薄膜トランジスタと共通電極が形成される。また、導電性薄膜材料により製造されるブラックマトリクスを含み、前記ブラックマトリクスは前記共通電極と接続される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、静電気流入による層間短絡などの障害が生じたとしても容易に修復することのできる表示装置用基板を提供することを目的とする。
【解決手段】基板１上の表示領域内に配設され、表示領域の内方より表示領域の外方に向けて引き出し形成される第１の配線部１０を有する。さらに、基板１上の表示領域の外の第１の配線部１０と絶縁膜を介して交差して形成される第２の配線部７０を有する。さらに、第２の配線部７０に形成され、少なくとも交差する第１の配線部１０と重なり合う領域に開口した開口部７２を有する。さらに、開口部７２の両端に形成され、絶縁膜を介して第１及び第２の配線部１０、７０が重なり合う重畳部７４を有する。 （もっと読む）

【課題】作製工程を削減し、低コストで生産性の良い表示装置を提供する。消費電力が少なく、信頼性の高い表示装置を提供する。
【解決手段】トランジスタの、ゲート電極となる導電層、ゲート絶縁層となる絶縁層、半導体層、およびチャネル保護層となる絶縁層を連続して形成する。ゲート電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）と島状半導体層の形成を、一回のフォトリソグラフィ工程で行う。該フォトリソグラフィ工程と、コンタクトホールを形成するフォトリソグラフィ工程と、ソース電極及びドレイン電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）を形成するフォトリソグラフィ工程と、画素電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）を形成するフォトリソグラフィ工程の、４つのフォトリソグラフィ工程で表示装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】画素に電流が流れ続けることによって発生する輝点欠陥の防止または画素の一部分に電流が集中することによる周辺画素への影響を抑えることができる表示装置を提供する。
【解決手段】電流を供給する配線１４と、前記配線に電気的に接続された画素電極１１とを有し、前記画素電極は、複数の異なる導電膜１１ａ，１１ｂの積層構造からなり、少なくとも前記配線と前記画素電極とが接続する領域において、前記画素電極が狭幅領域を有する。また、複数の異なる導電膜としては、例えば金属膜と透明導電膜との積層構造を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 電極間の隙間による表示品位低下を改善し、また、配線電極が見えたり、配線電極の一部が半点灯することが無ない液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 配線電極４と配線のない独立した隙間電極５を形成し、その上に絶縁膜６を形成し、その上に表示電極７、外側第二表示電極８ａ及び内側表示電極８ｂを形成している。表示電極７及び外側第二表示電極８ａ、内側表示電極８ｂは、絶縁膜６に設けたそれぞれのコンタクトエリアを介して配線電極４または隙間電極５と電気的に接続する。表示電極７は、絶縁膜６を介して隙間電極５の端部と重なるように形成する。また、外側第二表示電極８ａ及び内側第二表示電極８ｂは、絶縁膜６を介して隙間電極５の他の端部と重なるように形成する。 （もっと読む）

【課題】配線破断を軽減する構造を有する液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上にゲート配線及び信号配線、ゲート絶縁膜、半導体パターン、データ配線、保護膜、ドレーン電極を露出させる第１接触孔及び信号配線を露出させ、側辺の長さが幅より大きく形成される複数の第２接触孔、第１及び第２接触孔を通じてドレーン電極に連結される画素電極及び信号配線に連結される信号配線補助パッドを形成する液晶表示装置の製造方法であって、信号配線を形成する段階では、信号配線に一対一に対応する複数の信号リードを有する信号伝送用フィルムを含み、信号伝送用フィルムには複数の信号リードのうちの高電圧信号を伝送する第１信号リードと低電圧信号を伝送する第２信号リードとの間にダミーリードが形成され、ダミーリードに対応するダミー配線が基板に形成され、ダミー配線は信号配線より酸化傾向が小さい特性を有する導電物質で形成される。 （もっと読む）

【課題】素子基板の一方面側に入射した光を効率よく反射して、表示光量を増大させることのできる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００では、対向基板２０の側から素子基板１０の一方面側に入射した光を反射性の画素電極９ａの表面で反射して画像を表示する。また、画素電極９ａより下層側には、隣り合う画素電極９ａにより挟まれた隙間領域９ｓ、９ｔに重なる反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）が設けられ、隙間領域９ｓ、９ｔに入射した光を反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）で反射し画像の表示に利用することができる。ここで、画素電極９ａ、および反射性配線（データ線６ａおよび容量線５ｂ）の表面は鏡面になっている。 （もっと読む）