【課題】反射層をパターニングするためのレジスト剥離工程において反射層にダメージが発生するのを抑制することができる表示装置用基板及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】表示領域に反射層が設けられた表示装置用基板であって、上記表示装置用基板は、端子領域を除いて上記表示領域よりも外側の領域で、かつ上記反射層と同じ面側に配置されるパターン膜を有し、上記パターン膜は、上記反射層の材料とイオン化のしやすさが同じ材料、又は、上記反射層の材料よりもイオン化しやすい材料を含む表示装置用基板である。 （もっと読む）

【課題】発光素子にて構成されるバックライト部を薄く形成して、薄型の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】発光素子１０は、ＴＦＴ４が設けられた第１の基板１に配置されている。このように、発光素子１０は、液晶表示装置を構成する２枚の基板１，２のうちの一方の基板１に直接に形成されている。このため、従来のバックライト装置で必要であった、発光素子を配置するための基板が不要となる。 （もっと読む）

【課題】電極に複数の開口部を設ける液晶表示装置の表示品位を向上させる。
【解決手段】液晶表示装置は、第１電極を有する第１基板1と、第２電極を有する第２基板4と、第１基板と第２基板の間に設けられた液晶層7と、第１偏光板8と、第２偏光板9と、を含む。第１電極は市松状に規則的に配置された複数の第１開口部21を有し、第２電極は市松状に規則的に配置され、かつ複数の第１開口部と平面視において二方向に交互に配置された複数の第２開口部22を有する。各第１及び第２開口部は、各々の長手方向を、所定の基準方向に対して略３０°±５°の角度をなして配置される。第１偏光板はその光学軸A1を基準方向に対して略１５°±５°の角度をなし、かつ各第１開口部等の長手方向に対して略４５°の角度をなして配置され、第２偏光板はその光学軸A2を第１偏光板の光学軸と略直交する方向に配置される。 （もっと読む）

【課題】マルチプレックス駆動によって動作する垂直配向型液晶表示装置において、表示均一性を保ちつつフレーム周波数を低下させることが可能な技術を提供する。
【解決手段】マルチプレックス駆動によって動作する液晶表示装置であって、一面側に第１電極を有する第１基板と、一面側に第２電極を有し、第１基板と対向配置された第２基板と、第１基板の第１電極と第２基板の第２電極との間に配置された液晶層と、を含み、第１電極は、第１方向に延びた形状であって、市松状に配置された複数の開口部15を有し、液晶層は、８９．７°以上９０°未満に設定されたプレティルト角を有し、複数の開口部の各々の長手方向と、前記液晶層の中央における液晶分子の配向方向とのなす角度を０°以上９０°未満とした液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】酸化物の一部領域又は全領域の比抵抗を低下させることにより、簡易な工程で多様な電子素子を作製できる電子素子基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも最表層の一部が比抵抗１×１０^９Ω・ｃｍ以下の酸化物からなる基板における前記酸化物の一部領域又は全領域に対し、前記基板の電位よりも高い電位を印加することにより、前記一部領域又は前記全領域の比抵抗を低下させる低抵抗化処理工程を有する電子素子基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ストレージキャパシタの電極の透明導電性物質で形成する場合に、ゲート絶縁膜蒸着工程の時使用されるガスと、前記透明導電性物質が反応して発生されるヘイズの不良を改善するための液晶表示装置アレイ基板、及び製造方法を提供する。
【解決手段】複数の第１領域及び第２領域に区分される基板の前記第１領域上にゲート電極が形成される工程と、前記第２領域の基板上に透明導電性物質で具現されるストレージ下部電極が形成される工程と、前記ゲート電極及びストレージ下部電極を含む基板上にゲート絶縁膜が形成される工程と、を含み、前記ゲート絶縁膜は第１から第３ゲート絶縁層の積層構造で具現されることを特徴とする液晶表示装置のアレイ基板製造方法。 （もっと読む）

【課題】液晶層に高分子分散型液晶を用いた場合であっても、隣接する２つのセグメント電極間の隙間が暗い領域として視認されてしまうことを防止すること。
【解決手段】透明な第１の基板２１と透明な第２の基板２３との間に設けられた高分子分散型液晶からなる液晶層２８と、同一の第１の層として、予め定めた表示情報に対して予め定めた領域がポジパターンになるように前記第１の基板に形成された透明なキャラクタ電極２２ａ及び前記表示情報に対して予め定めた領域がネガパターンになるように前記第１の基板に形成された透明な非キャラクタ電極２２ｂと、前記キャラクタ電極２２ａと前記非キャラクタ電極２２ｂとに対向するように前記第２の基板に形成された透明なコモン電極２４と、前記キャラクタ電極と前記非キャラクタ電極との間の隙間に沿うように前記第１の基板に形成された透明な補助電極２９ａと、を備えた表示装置とする。 （もっと読む）

【課題】互いに長さが異なる第１及び第２柱状スペーサーを備えた液晶表示パネルにおいて、開口率の向上を達成しながらも柱状スペーサーが配向膜の表面を擦ることによる光漏れ及び配向乱れを抑制した液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】柱状スペーサーを、通常時にはその先端部が一対の基板の他方側に当接するように配設された高さの高い第１柱状スペーサー３９Ａと、通常時にはその先端部が一対の基板の他方側と一定の距離離間されており、一対の基板のいずれかへの所定圧力以上の圧力の印加時にはその先端部が一対の基板の他方側に押し当てられるように配設された高さの低い第２柱状スペーサー３９Ｂ、３９Ｃとで構成し、第２柱状スペーサー３９Ａと遮光部材３１の周縁部との間の平面視での最短距離ｗ２及びｗ３が、第１柱状スペーサーと遮光部材の周縁部との間の平面視での最短距離ｗ１より短くなるようにする。 （もっと読む）

【課題】高解像度になった場合でも、サブ画素に十分に画像データを書き込むことが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】走査線１１と、走査線１１を挟んで隣接するように配置され、薄膜トランジスタ１５を有する複数のサブ画素１４とを備え、走査線１１を挟んで隣接するように配置される複数のサブ画素１４のうちの一方のサブ画素１４の薄膜トランジスタ１５と、他方のサブ画素１４の薄膜トランジスタ１５とは、同一の走査線１１に接続されている。 （もっと読む）

【課題】タッチ感知要素にディスプレイ回路を一体化した液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）タッチ・スクリーンを提供する。
【解決手段】タッチ感知要素は、ＬＣＤ積層構成内に、但し、外部、即ち、カラーフィルタ・プレートとアレイ・プレートの間以外に、完全に実装することができる。或いは、幾つかのタッチ感知要素をカラーフィルタ・プレートとアレイ・プレートの間に配置し、他のタッチ感知要素を両プレートの間以外に配置することもできる。更に別のやり方では、全てのタッチ感知要素をカラーフィルタ・プレートとアレイ・プレートの間に配置することもできる。後者の代替案には、従来のＬＣＤと面内切り替え（ＩＰＳ）ＬＣＤの両方が含まれる。幾つかの形態では、１つ又はそれ以上のディスプレイ構造は、タッチ感知機能も持っている。その様なディスプレイを製造し作動させるための技法、並びに、その様なディスプレイを具現化した様々な機器も開示されている。 （もっと読む）

【課題】光の透過率を向上させることが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置において、光学等方液晶層ＢＰに含まれる媒質は、電圧無印加時に光学等方性を示し、電圧印加時に光学異方性を示す。溝状構造絶縁膜ＤＳＩＬには、１又は複数の凹部ＨＳが形成される。画素電極ＰＥと共通電極ＣＥは、凹部ＨＳの壁面に互いに向かい合うように配置される。マイクロレンズＭＬＡは、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥの間に向けて入射光を集光する。 （もっと読む）

【課題】光源からの出射光の波面変化を面内で連続的に行える位相補正素子を備えた光ヘッド装置を得る。
【解決手段】それぞれ異なる電圧を供給できるようにされている複数の給電部がそれぞれ異なる位置に設けられ、かつ入射光の波面形状を連続的に変化させたい領域を、各給電部への配線部が形成される領域を除き覆うように形成されている１つの連続した電極が少なくとも形成された透明基板の間に異方性光学媒質が備えられている位相補正素子を光源１からの出射光を平行化するコリメートレンズ３と出射光を光記録媒体８へ集光する対物レンズ６の間に配置した光ヘッド装置とする。 （もっと読む）

【課題】１つの信号ラインに印加される表示信号電圧の周波数を低くしたドット反転駆動を実現して、低消費電力化を図ることが可能な液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル１００を構成するｊ列目の信号線Ｓ（ｊ）を挟むようにして１列ずつ配列される表示画素Ｐｉｘを、複数の表示画素Ｐｉｘからなるユニット単位で薄膜トランジスタを介して接続する。各ユニット内では１列ずつ配列される表示画素Ｐｉｘをｉ行目の走査線Ｇ（ｉ）の１行毎に交互に信号線Ｓ（ｊ）に薄膜トランジスタを介して接続する。また、ユニット内の最下行の表示画素と、このユニットに対して列方向に隣接する次のユニットの最上行の表示画素とは、信号線Ｓ（ｊ）を挟むようにして１列ずつ配列される表示画素Ｐｉｘのうちの同じ列の表示画素Ｐｉｘとなるように薄膜トランジスタを介して接続する。このような画素構成において、表示信号電圧の極性をユニット毎に反転させる。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯスパッタ適性、硬度、耐熱透明性に優れる硬化膜が得られるポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸により分解しカルボキシル基又はフェノール性水酸基を生成する酸分解性基を有する構成単位と、カルボキシル基又はフェノール性水酸基と反応して共有結合を形成しうる官能基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、（成分Ｂ）下記式（１）で表される酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。


Ｒ₁〜Ｒ₅はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、ハロゲン原子、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表し、隣接するＲ₁〜Ｒ₅が互いに連結して環を形成してもよく、Ｘ^-は共役塩基を表す。 （もっと読む）

【課題】 横電界方式の液晶表示装置において、外部からの静電気による表示異常を防止すると共に、カバーガラスまたはタッチパネル等、光学接着剤などによる貼合わせを具備する液晶表示装置などへの効果的な静電気対策構造及び製造方法を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置のカラーフィルタ基板の視認面に、静電気から液晶を保護するための透明導電層を形成し、ＴＦＴ基板に、静電気放電用透明電極と、アースを設けた回路基板に接続するための端子電極と、静電気放電用透明電極と端子電極とを電気的に接続するための静電気放電用メタル配線を形成する。さらに、液晶パネルの角部の静電気放電用透明電極周辺に、透明導電層と静電気放電用透明電極を電気的に接続するための導電材を設けることにより、外部からの静電気を、透明導電層、導電材、静電気放電用透明電極、静電気放電用メタル配線、端子電極、回路基板、アースの順に放電させる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において各画素の上下の基板にそれぞれ画素電極を設けると、上下の画素電極それぞれに画像信号を印加するための構成に起因して、開口率の低下や製造コストの増加を生じる。
【解決手段】第１の基板８は信号配線１８、第１の画素電極２６ａ、及びそれらを導通させるＴＦＴ２０を有する。第２の基板１０は第２の画素電極２６ｂを有する。基板８，１０の間には液晶層１２が設けられる。第１の画素電極２６ａ及び第２の画素電極２６ｂは液晶層１２に面して配置される。両画素電極２６ａ，２６ｂが相互に対向する部分に導電性ビーズ４０を配し、両画素電極を当該導電性ビーズ４０で電気的に接続する。第２の画素電極２６ｂは信号配線１８からＴＦＴ２０及び第１の画素電極２６ａを介して画像信号を印加される。 （もっと読む）

【課題】工程中に酸化物半導体パターンの劣化が発生することを防止することができる薄膜トランジスタ基板およびそれの製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板は、絶縁基板１０、前記絶縁基板１０上に形成されたゲート電極２４およびゲート絶縁膜３０、前記ゲート絶縁膜３０上に配置された酸化物半導体パターン４２、前記酸化物半導体パターン４２上に形成されたエッチング防止パターン５２、前記エッチング防止パターン５２上に形成されたソース電極６５およびドレーン電極６６を含み、前記エッチング防止パターン５２のすべての側面は前記酸化物半導体パターン４２の側面の内側に位置する。 （もっと読む）

【課題】シンプルな構成で高画質を実現できる液晶表示装置を得る。
【解決手段】基体上に共通電極、絶縁膜、および複数の画素電極１４を順に形成してなる第１の基板と、第１の基板の画素電極１４が形成された面と対向して離間配置された第２の基板と、第１および第２の基板の間に配置された液晶層と、液晶層を透過する光を部分的に遮光する遮光体３９とを備える。画素電極１４は、間隔をおいて並設された複数の帯状部分を有する。遮光体３９は、画素電極１４における最も外側の帯状部分の少なくとも一部に対応する位置に配置される。このようなシンプルな構成により、フレクソエレクトリック効果に起因するフリッカや焼きつきを低減し、高画質を実現できる。 （もっと読む）

【課題】色収差を低減することができる液晶レンズ、および色収差が低減された良好な画像表示を行うことができる表示装置を提供する。
【解決手段】屈折率異方性のある液晶分子を含み、第１の電極１１Ｙと第２の電極２１との間に配置され、第１の電極１１Ｙと第２の電極２１とによって印加される電圧に応じて液晶分子の配列が変化することで入射光線に対して所定方向に位相差分布が形成される液晶層３を備える。液晶層３内で、β≧２以上の整数として、基準波長λ₀の入射光線に対して所定方向に位相差が０から２πβまで変化するような位相差分布を形成する。基準波長λ₀を含む複数の波長の入射光線に対して焦点距離が同一となるようなレンズ効果を発生させる。 （もっと読む）

【課題】液晶装置における焼き付き等の表示不良を防止する。
【解決手段】液晶装置の製造方法は、素子基板（１０）と、該素子基板と対向配置される対向基板（２０）とを備える液晶装置（１００）の製造方法である。該製造方法は、対向基板上に、ＩＴＯを含んでなる対向電極（２１）を形成する対向電極形成工程と、素子基板上に、ＩＴＯを含んでなる画素電極（９ａ）を形成する画素電極形成工程とを備える。画素電極形成工程では、画素電極形成工程における酸素流量と対向電極形成工程における酸素流量との差分が、素子基板の開口率に応じて変更される。 （もっと読む）