【課題】横電界方式の液晶表示装置において、ゲート引き出し配線からの電界が対向基板に影響を与え、表示領域端に表示ムラが生じる問題を効果的に抑制し、ゲート引き出し配線からの漏れ電界を遮断するシールド電極の腐食を抑制できる構成を提供する。
【解決手段】液晶表示装置のアレイ基板１０において、ゲート配線とシール材４０の外側の領域に形成された接続端子１６とを接続するゲート引き出し配線２ａ上を、第１の絶縁膜３を介して覆い形成される導電膜９０と、少なくともシール材４０の外側の領域において導電膜９０を覆い形成される第２の絶縁膜７とを有し、導電膜９０は対向電極の電位が印加される。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの遮光マスクとして金属膜を用いた従来の液晶表示パネルでは、
他の配線との寄生容量が形成され信号の遅延が生じやすいという問題が生じていた。また
、カラーフィルタの遮光マスクとして黒色顔料を含有した有機膜を用いた場合、製造工程
が増加するという問題が生じていた。
【解決手段】本発明は、遮光マスク（ブラックマトリクス）を用いることなく、対向基板
上に遮光部１５、１６として２層の着色層を積層した膜（赤色の着色層１３と青色の着色
層１２との積層膜、あるいは赤色の着色層１３と緑色の着色層１１との積層膜）を素子基
板のＴＦＴと重なるよう形成する。 （もっと読む）

【課題】動作性能および信頼性の高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】トランジスタ上に第１の絶縁膜を有し、第１の絶縁膜上に第１及び第２の配線を有し、第１及び第２の配線上に第２の絶縁膜を有し、第２の絶縁膜上に電極を有し、電極上に第３の絶縁膜を有し、第３の絶縁膜上に画素電極を有し、画素電極は、電極と重なる第１の領域と、電極と重ならない第２の領域と、を有し、画素電極は、第１の配線に電気的に接続されており、第１の配線は、トランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続されており、電極は、画素部の外側において前記第２の配線と電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】 製造歩留まりの高いアレイ基板、液晶表示装置及びアレイ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 アレイ基板は、複数の補助容量電極１７と、複数の半導体層１５と、複数のゲート電極２０と、複数の補助容量線２１と、複数の第１コンタクトホールＣＨ１及び複数の第２コンタクトホールＣＨ２を有した層間絶縁膜２２と、複数の第１コンタクトホールを通って複数の半導体層のソース領域に電気的に接続された複数の信号線２７と、少なくとも複数の第２コンタクトホールを通って複数のゲート電極に電気的に接続され、複数のゲート電極とともに複数の走査線１９を形成する複数の接続電極２８と、複数の画素電極３４と、を備える。互いに隣合う一方の画素電極３４が接続された補助容量電極１７と、他方の画素電極３４が接続された補助容量電極１７とは、走査線１９を挟んで対向している。 （もっと読む）

【課題】電界効果型トランジスタの移動度を向上させる。
【解決手段】ゲート絶縁膜２２と、活性層としてＳｎ,Ｚｎ及びＯ、又はＳｎ,Ｇａ,Ｚｎ及びＯを主たる構成元素とする酸化物半導体層１４と、ゲート絶縁膜２２と酸化物半導体層１４との間に配置され、酸化物半導体層１４よりも抵抗率が高い酸化物中間層１６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス駆動方式の電気光学装置において、相展開数の増加による画像信号線の増加という条件下で、画像信号中の高周波のクロックノイズ等の発生を低減する。
【解決手段】液晶装置（２００）は、一対の基板間に挟持された液晶層と、基板（１）にマトリクス状に設けられた画素電極（１１）と、これをスイッチング制御するＴＦＴ（３０）とを備える。さらにデータ線駆動回路（１０１）にクロック信号を供給する配線（ＣＬＸ，ＣＬＸ’）と、データ線駆動回路（１０１）及び配線（ＣＬＸ，ＣＬＸ’）を囲むように配設されたシールド線（８０’）と、シールド線（８０’）の外側に配設された画像信号線（ＶＩＤ１〜ＶＩＤ１２）を備える。 （もっと読む）

【課題】視認者にとって裸眼での３次元表示を可能とする距離（表示画面と視認者の目との距離）範囲を拡大し、且つ消費電力を低減する。
【解決手段】視認者と表示パネルとの距離に応じてシャッターパネルにおける視差バリアを最適な配置となるよう制御する。具体的には、複数の光学シャッター領域による透光状態または遮光状態及び画素における表示素子単位を、保持状態毎に選択的に切り替えて適宜最適な視差バリアを形成する。また保持状態は、液晶層を挟持する電極の少なくとも一方の電極が酸化物半導体を半導体層に有するトランジスタに接続され、当該トランジスタを非導通状態とすることで実現するものである。 （もっと読む）

【課題】トランジスタのチャネル部が形成される領域にＵ字状の縦長溝を形成し、見かけ上のチャネル長に対してチャネル長を長くする方法は、溝を掘るためにフォトリソグラフィ工程を余分に行う必要があり、コストや歩留まりの観点で問題があった。
【解決手段】ゲート電極または絶縁表面を有する構造物を利用し、三次元形状のチャネル領域を形成することにより、チャネル長が、上面から見たチャネル長に対して３倍以上、好ましくは５倍以上、さらに好ましくは１０倍以上の長さとする。 （もっと読む）

【課題】対向基板側の構造を変更することにより、横ストロークの発生を防止することのできる電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００において、対向基板２０には、共通電極２１より下層側に導電性の遮光層２９が設けられ、かかる遮光層２９は絶縁層２７のコンタクトホール２７ａ、２７ｂ、第１導通部２５ａおよび第２導通部２５ｂにおいて共通電極２１と導通している。このため、共通電極２１のシート抵抗を低減したのと実質的に同様な効果を得ることができる。従って、共通電極２１の電位が画像信号の電位変化に伴って変動しても、共通電極２１の電位は、短い時間で共通電位に復帰するので、横ストロークの発生を防止することができる。また、遮光層２９の上層には絶縁層２７が形成されているため、遮光層２９に起因する段差が緩和されている。従って、共通電極２１に段差切れが発生しない。 （もっと読む）

【課題】 表示品位の低下を抑制することができ、製品歩留まりの高い液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】 液晶表示パネルは、下地部を有したアレイ基板１、対向基板２、液晶層３、複数の正規柱状スペーサ３６ａ及び複数の補助柱状スペーサ３６ｂを備えている。下地部は、基板上に形成され、複数の走査線１９、複数の信号線２７、複数のスイッチング素子、絶縁膜及び透明な複数の導電部を含んでいる。複数の正規柱状スペーサ３６ａは、下地部上に形成され、アレイ基板１及び対向基板２間の隙間を保持している。複数の補助柱状スペーサ３６ｂは、下地部上に形成され、正規柱状スペーサ３６ａより低く形成され、導電部に２５％以上重ねられている。 （もっと読む）

【課題】製造歩留まりの高いアレイ基板及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アレイ基板は、複数の補助容量電極と、複数の半導体層１５と、複数のゲート電極２０を含んだ複数の走査線１９と、複数の補助容量線と、複数のコンタクトホールを有した層間絶縁膜と、複数のコンタクトホールを通って複数の半導体層のソース領域に電気的に接続された複数の信号線と、複数の画素電極と、を備えている。走査線１９が延在した方向に互いに隣合う一方の画素電極が接続された補助容量電極と、他方の画素電極が接続された補助容量電極とは、走査線を挟んで位置している。薄膜トランジスタのチャネル面積ＣＳは、２４μｍ^２以上である。 （もっと読む）

【課題】 電源がオフされた際の残像の発生を回避することができる液晶表示装置及び液晶表示装置の駆動方法を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置は、第１基板と、第２基板と、液晶層ＬＱと、複数の走査線ＧＬと、複数の信号線ＳＬと、複数の画素スイッチＳＷＰと、複数の第１電極と、走査線駆動回路ＧＤと、第２電極と、電圧供給配線Ｗ１と、制御機構と、第１切替え機構と、第２切替え機構と、出力タイミング切替え機構と、を備える。第１切替え機構及び第２切替え機構は、制御機構から与えられる制御信号を基に、導通状態及び非導通状態の何れかに切替え可能である。出力タイミング切替え機構は、上記制御信号を基に、画素スイッチＳＷＰを導通状態に切替える第２走査信号を複数の走査線ＧＬに同時に出力可能である。 （もっと読む）

【課題】隣接する二つの画素が一つのデータラインを共有する構造を有する表示パネルにおいて、ベーゼル幅を低減できる表示パネルを提供する。
【解決手段】表示パネルは複数の画素、データライン、一対のゲートライン、第１ゲート駆動回路及び第２ゲート駆動回路を含む。複数の画素は表示領域に配置され、複数の画素行と複数の画素列からなる。データラインは列方向に伸長し、二つの画素列ごとに配置される。一対のゲートラインは行方向に伸長し、一つの画素行ごとに各々、画素行の第１側部及び第２側部に配置される。第１ゲート駆動回路は表示領域の第１周辺領域に形成され、画素行の第１側部に配置された第１ゲートラインにゲート信号を提供する第１ステージを含む。第２ゲート駆動回路は第１周辺領域と向き合う表示領域の第２周辺領域に形成されて、画素行の第２側部に配置された第２ゲートラインにゲート信号を提供する第２ステージを含む。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、フリッカーを低減し、高品位な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、透明基板（１０ｓ）と、透明基板の第１面側に設けられた複数の透明画素電極（９）と、透明基板と複数の透明画素電極との間に設けられた反射膜（６１、６２）と、透明基板と反射膜との間に、複数の透明画素電極に対応して設けられた複数の画素トランジスター（３０）と、透明基板の第１面とは異なる第２面側に設けられ、第２面の法線方向から見て少なくとも一部が反射膜に重ならないように設けられ、透明基板を透過した光を検出する光検出素子（６００）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】カップリング欠陥と縦線状欠陥を防止すると共に高速駆動を行うことができる表示装置を提供する。
【解決手段】画素ＰＸは第１副画素電極及び第１薄膜トランジスタが接続された第１副画素ＰＸａと第２副画素電極及び第２薄膜トランジスタが接続された第２副画素ＰＸｂを含み、各副画素はデータ線Ｄ_１ａ〜Ｄ_６ｂ及びゲート線Ｇ_ｊ−１〜Ｄ_ｊ＋２が接続され、ゲート線を挟んで上側に第１副画素ＰＸａｍ、下側に第２副画素ＰＸｂが配置され、第１薄膜トランジスタは第１副画素電極に接続されており、第２薄膜トランジスタは第２副画素電極に接続されており、画素ＰＸは一つの色フィルターに対応している表示装置。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、コントラスト及び明るさを選択的に高める。
【解決手段】電気光学装置は、走査線（１１）と重なるように設けられ、且つデータ線が延びる方向で互いに隣り合う画素電極間に位置する間隙領域を含む領域に重なるように形成された導電電極（４００）と、基準電位に対して極性が所定期間毎に反転する画像信号をデータ線に供給する画像信号供給部（１０１、９５、７）と、導電電極に導電電極電位を供給する導電電極電位供給部（３００）とを備える。導電電極電位供給部は、画素電極に供給される画像信号と同一極性の電位を有するように、導電電極電位を制御する第１動作モードと、導電電極が基準電位と同一の電位を有するように導電電極電位を制御する第２動作モードとを有する。 （もっと読む）

【課題】電気特性の変動が生じにくく、且つ電気特性の良好な半導体装置の作製方法を提供することである。
【解決手段】基板上にゲート電極を形成し、ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成し、酸化物半導体膜を形成し、第１の酸化物半導体膜を形成した後、加熱処理をして第２の酸化物半導体膜を形成し、第１の導電膜を形成し、厚さの異なる領域を有する第１のレジストマスクを形成し、第１のレジストマスクを用いて第２の酸化物半導体膜および第１の導電膜をエッチングして第３の酸化物半導体膜および第２の導電膜を形成し、第１のレジストマスクを縮小させて、第２のレジストマスクを形成し、第２のレジストマスクを用いて第２の導電膜の一部を選択的に除去することでソース電極およびドレイン電極を形成する半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の輸送時等における振動や衝撃等に起因する表示ムラの発生を防止することのできるアレイ基板及びそれを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アレイ基板１は、透明基板２、走査線３１、走査線３１に交差する信号線、走査線３１及び信号線の交差部近傍に設けられた薄膜トランジスタ３、走査線３１又は信号線と平行に設けられてなる共通配線７１、共通配線７１に接続され、走査線３１及び信号線で区画された領域１６内に形成された共通電極７、共通電極７上に絶縁層１２を介して設けられ、複数のスリット８１を有する画素電極８、表示領域１６に設けられた複数色の着色部５、並びに非表示領域１５に設けられた柱状スペーサ６を備え、柱状スペーサ６の頂部に９秒間で２００ｍＮまで荷重をかけた状態で５秒間保持したときに、荷重前後における柱状スペーサ６の頂部の位置の変位量Ｔが０．４５μｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜とその下層の絶縁膜との界面からの水分等の異物質の侵入を防止し、信号線の接続領域での信頼性と表示装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】信号線は、第１の信号線と、第１の絶縁膜を介して前記第１の信号線の上層に形成される第２の信号線と、第２の絶縁膜を介して第２の信号線の上層に形成される透明導電膜ＣＨＬとからなり、透明導電膜ＣＨＬは、第１の絶縁膜と第２の絶縁膜とを貫通して第１の絶縁膜に至る第１の接続孔ＴＨ１と、第２の絶縁膜を貫通して第２の信号線に至る第２の接続孔ＴＨ２とを覆うようにして形成され、第１の接続孔ＴＨ１又は第２の接続孔ＴＨ２の内で、基板の辺縁部に近い側の接続孔と前記基板の辺縁部との間に配置され、第１の絶縁膜又は／及び第２の絶縁膜に形成される溝部ＤＣＨを備え、透明導電膜ＣＨＬの辺縁部が、溝部ＤＣＨの底部まで伸延してなる表示装置である。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、積層構造の単純化を図り、しかも高品質な表示を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、互いに交差するデータ線（６）及び複数の走査線（１１）と、データ線に電気的に接続された第１ソースドレイン領域、及び第２ソースドレイン領域を含んでなる半導体層（３０ａ）と、複数の走査線のうち一の走査線に電気的に接続されたゲート電極とを有するトランジスター（３０ａ）と、半導体層と基板との間に配置され、第２ソースドレイン領域に電気的に接続された第１容量電極（７１）と、第１容量電極に対向するように設けられるとともに一の走査線に隣り合う走査線に電気的に接続された第２容量電極（７３）とを有する蓄積容量（７０）と、を備え、蓄積容量は、基板上に設けられた溝の内部の少なくとも一部に設けられている。 （もっと読む）