【課題】配線密度を高くしすぎることなく断線を修復することが可能であり、フレキシブル性を持たせる場合に短絡や断線などを抑えることが可能な薄膜トランジスタアレイおよびその製造方法、並びに表示装置を提供する。
【解決手段】第１導電層と、前記第１導電層の少なくとも一部に対向して、前記第１導電層に合わせた平面形状の開口を有する絶縁膜と、前記開口を塞ぐと共に前記開口内で前記第１導電層に接するパッチ部を含む第２導電層とを備えた薄膜トランジスタアレイ。 （もっと読む）

【課題】フロントウインドウを液晶パネルに接着した後に液晶パネルの周辺部に色ムラが発生することを抑制する。
【解決手段】液晶表示装置は、走査信号線、データ信号線、及び画素電極をそれぞれ含む複数のＴＦＴパターンを形成したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板と対向して配置されるカラーフィルタ基板と、カラーフィルタ基板においてＴＦＴ基板と対向する面に形成された、複数の柱状スペーサと、を備え、複数のＴＦＴパターンのうち少なくとも一部は、走査信号線の上又は画素電極の下に形成され、複数の柱状スペーサの１つを直接又は間接的に支持する台座を備え、ＴＦＴ基板の中央部分に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が柱状スペーサを支持する面積が、ＴＦＴ基板の中央部分よりも外側に形成されたＴＦＴパターンに備えられる台座が柱状スペーサを支持する面積よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】 表示品位の良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 走査線ＧＬと、走査線ＧＬと交差する信号線ＳＬと、信号線ＳＬが延びる方向に延び走査線ＧＬが延びる方向に並んで配置された複数の櫛歯画素電極ＰＥ１〜ＰＥ３を含む画素電極ＰＥと、複数の櫛歯画素電極ＰＥ１〜ＰＥ３の間において信号線ＳＬが延びる方向に延び、櫛歯画素電極ＰＥ１〜ＰＥ３と所定のスペースを置いて配置された複数の櫛歯共通電極ＣＥ１〜ＣＥ４を含む共通電極ＣＥと、少なくとも信号線ＳＬと信号線ＳＬの近傍に配置された櫛歯画素電極ＰＥ１、ＰＥ３との間に配置された遮光部ＣＯＭ１と、を備えた第１基板１０１と、信号線ＳＬが延びる方向と略直交する方向において遮光部ＣＯＭ１と同じ幅であって信号線ＳＬと対向する遮光層ＢＭを備え、第１基板１０１と対向して配置された第２基板１０２と、第１基板１０１と第２基板１０２との間に挟持された液晶層ＬＱと、を備えた液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】配線間の短絡等を発生させずに、複数の配線が並列する配線領域の幅寸法を狭めることのできる電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００では、素子基板１０の辺１０ｅと画素電極配列領域１０ｐとの間で複数の配線１０５が並列する配線領域１１は、一部の配線１０５と他の配線１０５とが異なる層に位置する第２配線領域１１ｂとを備えており、かかる第２配線領域１１ｂでは、異なる層に位置する配線１０５の間に平面視で広い隙間を設けなくても短絡等の問題が発生しない。このため、第２配線領域１１ｂについては、配線１０５間の短絡等を発生させず、幅方向の寸法を第１配線領域１１ａより狭くすることができる。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良好な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】走査線ＧＬと、走査線ＧＬと交差する信号線ＳＬと、信号線ＳＬが延びる方向に延び走査線ＧＬが延びる方向に並んで配置された複数の櫛歯画素電極ＰＥ１〜ＰＥ３を含む画素電極ＰＥと、複数の櫛歯画素電極ＰＥ１〜ＰＥ３の間において信号線ＳＬが延びる方向に延び、櫛歯画素電極ＰＥ１〜ＰＥ３と所定のスペースを置いて配置された複数の櫛歯共通電極ＣＥ１〜ＣＥ４を含む共通電極ＣＥと、少なくとも信号線ＳＬと信号線ＳＬの近傍に配置された櫛歯画素電極ＰＥ１、ＰＥ３との間に配置され、共通電極ＣＥと同じ電圧が印加された遮光部ＣＯＭ１と、を備えた第１基板１０１と、第１基板１０１と対向して配置された第２基板１０２と、第１基板１０１と第２基板１０２との間に挟持された液晶層ＬＱと、を備えた液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜上における絶縁膜の膜浮きの発生を抑え、且つ、透明導電膜と金属膜との良好な電気的接続性を得ることができる配線構造を提供する。
【解決手段】それぞれ配線として機能する第１の導電膜２と第２の導電膜５と接続する配線変換部４５において、第１の透明導電膜６は、当該第１の透明導電膜６のコーナー部近傍では第２の導電膜５の端面を覆っておらず、コーナー部近傍以外において第２の導電膜５の端面を覆う部分を有している。第１の透明導電膜６の上層の第２の透明導電膜７が、第２の導電膜５と第１の導電膜２とに接続することにより、第１の導電膜２と第２の導電膜５とが電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】 製造工程を単純化して第１の金属膜上に第２の金属層が積層された積層構造を有する領域および第１の金属膜のみで形成されている領域からなるゲート配線を製造することができる液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置の製造方法であって、第１の金属膜３ｂ上に第２の金属膜３ｃが積層された積層構造を有する領域および第１の金属膜３ｂのみで形成されている領域からなるゲート配線３を、多階調マスクを用いて、感光性樹脂膜１２を、積層構造となる領域では膜厚の厚い厚膜部１２ａになり、ゲート電極３ａの少なくとも半導体層５と重なっている領域では厚膜部１２ａよりも膜厚の薄い薄膜部１２ｂになるようにそれぞれ複数のゲート配線３のパターンにするとともに、隣接するゲート配線３のパターン間の領域では第２の金属膜３ｃが露出するようにパターニングする工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】保護膜溶液組成物を提供すること。
【解決手段】下記の化学式１で表わされる有機シロキサン樹脂を含む保護膜溶液組成物：



・・・化学式１
（式中、Ｒは１乃至２５個の炭素を有する飽和炭化水素または不飽和炭化水素から選ばれた少なくとも一つの置換基であり、ｘ、ｙはそれぞれ１乃至２００であり、各波線は水素原子、ｘシロキサン単位またはｙシロキサン単位との結合を示すか、あるいは、ｘシロキサン単位、ｙシロキサン単位またはこれらの組み合わせを含む他の有機シロキサン鎖のｘシロキサン単位またはｙシロキサン単位との結合を示す）。 （もっと読む）

【課題】周辺領域に形成された配線で反射する光の迷光を減らすことを目的とする。
【解決手段】表示装置は、光の透過及び遮蔽を制御して画像を表示するための表示パネル１０と、表示パネル１０に重ねられて光を供給するためのバックライト１２と、を有する。表示パネル１０は、画像が表示される表示領域２６及び表示領域２６の外側の周辺領域２８を含む基板１６を有する。基板１６は、バックライト１２側を向く下面及びバックライト１２とは反対側を向く上面を有する。基板１６の上面には、周辺領域２８に配線３０が形成されている。配線３０の基板１６側を向く面の少なくとも一部は、基板１６の下面に対する法線から基板１６の外側の方向に斜めに傾いている。 （もっと読む）

【課題】バリア性の高い保護層を有する積層構造、有機半導体素子、配線および表示装置、並びに有機半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】導体または半導体を含む有機層と、絶縁材料により構成され、前記有機層を覆う保護層と、外周が前記絶縁材料と親和性を有する親和層に覆われ、前記保護層に分散された複数の粒体とを備えた積層構造。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、オン電流の低下を抑制すること。
【解決手段】酸化物半導体膜を用いたトランジスタにおいて、ゲート電極と、ゲート電極を覆い、シリコンを含む酸化物を含むゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜と接し、少なくともゲート電極と重畳する領域に設けられた酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と電気的に接続するソース電極およびドレイン電極と、を有し、酸化物半導体膜において、ゲート絶縁膜との界面からの厚さが５ｎｍ以下の第１の領域は、シリコンの濃度が１．０原子％以下であり、酸化物半導体膜の第１の領域以外の領域に含まれるシリコンの濃度は、第１の領域に含まれるシリコンの濃度より小さくする。 （もっと読む）

【課題】２層構造の走査線を、絶縁膜を介して映像信号線が乗り越える際の、映像信号線の断線を防止する。
【解決手段】映像信号線が絶縁膜を介して走査線を乗り越える構成となっている。走査線１０はＡｌＣｕ合金を下層１１とし、ＭｏＣｒ合金を上層１２とする２層構造である。上層/下層の膜厚比を、０．４以上、１．０以下とすることによって、走査線１０の断面において、電池作用によって上層１２のエッチング速度が遅くなって、上層１２の庇部が形成されることを防止する。これによって、走査線１０に生じた庇部に起因して、映像信号線が走査線１０との交差部において断線することを防止する。 （もっと読む）

【課題】２層構造の走査線を、絶縁膜を介して映像信号線が乗り越える際の、映像信号線の断線を防止する。
【解決手段】エッチングによってＡｌ合金層１１、キャップ層１２で形成される走査線１０をパターニングした後、レジスト２００をＭＥＡ（モノエタノールアミン）によって剥離する。ＭＥＡを剥離したあと、第１水洗槽において、基板に付着しているＭＥＡを水によって洗浄する。この時、洗浄液である水に所定の量以上のＭＥＡが含まれていると、Ａｌ合金が溶解し、キャップ層１２であるＭｏＣｒの庇が発生する。これを防止するために、第１水洗槽における洗浄液のＭＥＡの濃度を１０ＰＰＭ以下、好ましくは５ＰＰＭ以下に管理する。これによって、Ａｌ合金の溶解を防止し、キャップ層１２の庇が発生することを防止する。 （もっと読む）

【課題】データ線の配線構造に起因する寄生容量によって生ずるスジ状の系列的な表示ムラが改善された電気光学装置、この電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置１００は、画像信号が供給される画像信号線１１１と、データ線６ａと、データ線６ａと画像信号線１１１との間に電気的に接続され、画像信号をデータ線６ａに供給する第１および第２トランジスターとしてのサンプリングトランジスター（Ｓ−ＴＦＴ）７１と、を備え、Ｓ−ＴＦＴ７１のゲート電極とデータ線６ａとが絶縁膜を介して重なるオーバーラップ量が異なる少なくとも２種のＳ−ＴＦＴ７１を備えた。これにより、ゲート電極とデータ線６ａとの間に寄生容量が生じ、オーバーラップ量を異ならせることで、それぞれのデータ線６ａが構造的に有する寄生容量を調整することができ、スジ状の系列的な表示ムラを改善できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、製造工程を単純化して透明導電膜上に金属膜が積層された積層構造を有する共通電極配線を製造することができる液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】液晶表示装置の製造方法であって、透明導電膜１０上に金属膜１１が積層された積層構造を有する枠状の共通電極配線１２と、透明導電膜１０の配線幅よりも小さい配線幅を有する共通電極１３と、共通電極配線１２の透明導電膜１０の配線幅よりも小さい配線幅を有する画素電極１４とからなる横電界方式において、感光性樹脂膜１５をエッチングマスクにして等方性エッチングにより、共通電極１３および画素電極１４となる透明導電膜１０上に積層された、感光性樹脂膜１５の下側に位置する金属膜１１を除去するとともに、共通電極配線１２となる透明導電膜上１０に積層された、感光性樹脂１５の下側に位置する金属膜１１の側面の一部を除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】液晶装置において、高品質な画像を表示可能とする。
【解決手段】液晶装置１００は、素子基板と対向基板とに挟持された液晶層と、素子基板に設けられたＴＦＴ３０と、ＴＦＴ３０と電気的に接続された容量電極１６ａと誘電体層１６ｂと画素電極１６ｃとを有する容量素子１６とを備え、容量電極１６ａは、平面的に隣り合う画素電極１６ｃ間の領域に窪み５５を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体を基板とする液晶パネルは、ウェル領域があるため、漏れ光がトランジスタ部分のみでなくそこから離れた半導体基板を通過しただけで光リーク電流が流れることがある。この光リーク電流が、ガラス基板上にスイッチング素子としてのＴＦＴを配置した液晶パネルに比べて多くなるという欠点がある。
【解決手段】反射電極となる画素電極（１４）と、画素電極への電圧印加を制御するスイッチング素子とを有する画素単位が基板上にマトリックス状に配置されてなる液晶パネル用基板において、両素電極とスイッチング素子の端子電極を構成する導電層（６ａ）との間に、両者を接続するためのコンタクトホールを形成し、このコンタクトホールの形成箇所を囲む開口を有し、隣接する複数の画素電極の間の領域には開口を有さない遮光層を、画素電極と導電層との間に設けることにより、画素電極どうしの隙間から漏込む光による弊害を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】表示品位の劣化を抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１方向に沿ってそれぞれ延出したゲート配線及び補助容量線と、第２方向に沿って延出したソース配線と、ゲート配線及びソース配線と電気的に接続されたスイッチング素子と、補助容量線の直上に位置するとともに第１方向に沿って延出した主画素電極を備えスイッチング素子と電気的に接続された画素電極と、画素電極を覆う第１配向膜と、を備えた第１基板と、ゲート配線の直上に位置するとともに第１方向に沿って延出した主共通電極を備えた共通電極と、共通電極を覆う第２配向膜と、を備えた第２基板と、第１基板と第２基板との間に保持され、画素電極と共通電極との間に電界が形成されていない状態で第１方向に沿って初期配向するとともに第１基板と第２基板との間においてスプレイ配向した液晶分子を含む液晶層と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】視認性及び透過率が向上した液晶表示装置を提供する。
【解決手段】画素領域内に所定間隔離隔して相互平行に配列されている複数のサーブ電極１８２ａと各サーブ電極を電気的に連結する連結電極１８２ｂを含む第1電界形成電極及び第1電界形成電極を覆う第1方向にラビングされた第1配向膜を含む第1基板を含むか、第1基板の画素領域に対応する領域に相互平行に形成されている複数の開口部を含む第2電界形成電極及び第2電界形成電極を覆う第2方向にラビングされた第2配向膜を含む第2基板を含む液晶表示装置。 （もっと読む）