【課題】モールディング後に残っている残膜を効果的に除去できる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による表示装置の製造方法は、ベース基板を設ける工程と；ベース基板上にベース基板の少なくとも一部を露出させる所定パターンの開口が設けられたマスター層を形成する工程と；マスター層と開口によって露出されたベース基板の表面を処理した後に開口内部に光遮断物質をジェッティングし、表面処理によってマスター層と光遮断物質の間の界面張力の差を増加させる工程と；ベース基板とマスター層上にモールド材料層を形成し、モールド材料層と光遮断物質を硬化させて、光遮断膜が設けられたモールドを製造する工程と；モールドをマスター層から分離した後、感光膜が形成された絶縁基板上にモールドを配置して相互加圧し、露光する工程と；モールドを分離した後、感光膜を現像する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良い液晶セルを提供する。
【解決手段】画素５内の反射表示領域21を挟んだ両側に透過表示領域22を配置する。第１の高さ調整層33を対向基板31の対向電極34の下に形成して反射表示領域21での液晶層42の厚さを透過表示領域22の厚さより薄くする。反射表示領域21の周縁での液晶分子41の動きと、透過表示領域22の周縁での液晶分子41の動きとが、反射表示領域21の両側で対称となる。画素５内での液晶配向安定性を向上できる。液晶層42中の液晶分子41の配向揺らぎによる表示むらの欠陥を回避できる。視野角の非対称性を回避できる。 （もっと読む）

【課題】
導電層の損傷を防ぐことができるを配線基板とその製造方法並びに表示装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる配線基板は、ガラス基板１０と、ガラス基板１０上に設けられた庇状のソース配線と、ソース配線２を覆うように設けられた層間絶縁膜８と、層間絶縁膜８の上に設けられ、ソース配線２の庇状の箇所の上に配置された画素電極６と、前記第１の導電層の庇状の部分に対応する箇所に設けられたテーパー状の塗布絶縁膜２１とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】補助容量を形成する膜の膜厚ばらつきに起因する階調ずれを防止する。
【解決手段】各画素に配置された補助容量２２と同一の層構造をもつ検出用容量４をアレイ基板１に設け、複数ある補助容量２２の代表として検出用容量４の容量値を検出し、この検出値に基づいて補助容量２２に接続された電源配線Ｙの電位振幅ΔＶcsを調整する。 （もっと読む）

【課題】画素電極と非線形抵抗素子の第２素子電極とを絶縁膜によって異なる層に分けた
構造の電気光学装置において、画素電極と第２素子電極との間で良好なコンタクトを得る
。
【解決手段】基板７ａ上に設けられたＴＦＤ素子３１を有する電気光学装置である。ＴＦ
Ｄ素子３１は、第１素子電極３２と、第１素子電極３２に重ねられた絶縁膜３３と、絶縁
膜３３に重ねられた第２素子電極３４ａ，３４ｂとを有する。電気光学装置はさらにＴＦ
Ｄ素子３１を覆う層間絶縁膜２２と、その層間絶縁膜２２上に設けられた画素電極２４と
を有する。画素電極２４は、第２素子電極３４ａ，３４ｂと導電接続される。第２素子電
極３４ａ，３４ｂはＭｏ又はＭｏ合金によって形成される。 （もっと読む）

【課題】複数の駆動用ＩＣおよび／またはチップ電子部品を接続する駆動回路搭載基板を、歩留まりの低下やコストの増加を招くことなく小型化した表示モジュールを提供する。
【解決手段】外部信号に基づいてパネル駆動信号を生成する複数の半導体装置と、前記複数の半導体装置の内少なくとも１以上の半導体装置がフリップチップ接続される駆動回路搭載基板と、前記半導体装置が生成するパネル駆動信号が入力される表示パネルと、を備えた表示モジュールであって、前記駆動回路搭載基板は、半導体装置と接続する電極と、前記電極と接続されるとともに前記半導体装置と対向する領域である第１領域の内側に少なくとも一部が形成された第1配線と、前記第１領域と前記駆動回路搭載基板を挟んで対向する第2領域と、前記第２領域の内側に少なくとも一部が形成された第2配線と、前記第1配線と前記第2配線とを接続する内部配線とを備えた表示モジュール。 （もっと読む）

【課題】シール材におけるトランスファの迂回部分においてもギャップの変化が大きくならず、表示ムラが出ない液晶表示装置を提供する。
【解決手段】シール材１６におけるアレイ基板１２と対向基板１４のギャップが表示領域におけるギャップより大きく設定され、シール材１６はトランスファ２２の位置において両基板１２，１４の内周側に迂回して配され、前記迂回部分におけるアレイ基板１２の高さとそれ以外の部分における前記アレイ基板１２の高さに段差を設け、迂回部分の高さを他の部分より低くしている。 （もっと読む）

【課題】所望位置に所望状態で機能液を供給し、膜パターンを良好に形成することができ
る膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】機能液を基板上に供給して膜パターンを形成する際、基板上にバンクを形成
するための感光材を塗布する工程と、膜パターンに応じて感光材を露光する工程と、露光
された感光材を現像してバンクを形成する工程と、現像により形成されたバンクの上面を
撥液性にする工程と、バンクによって区画された領域に機能液を供給する工程と、バンク
を焼成する工程とを経て形成する。現像し、バンクの上面を撥液性にした後、焼成する前
に、機能液を供給する動作が行われる。 （もっと読む）

【課題】 遮光層中の樹脂塗料成分などが液晶中に溶出することにより、液晶層の挙動が不安定になるのを回避した安定性に優れた光変調素子を提供することである。
【解決手段】 一対の電極間に挟持され、画像情報に対応する露光光の照射と、前記一対の電極間に印加される電圧との双方の刺激により、露光光が担持する画像と同一の可視画像が書き込まれる光変調素子であって、前記露光光の照射により該露光光の強度分布に応じた電気的特性分布を示す光導電層と、前記一対の電極に印加された電圧の、前記光導電層の電気的特性分布に応じて分布した分圧が印加され、該分圧に応じて光学的特性分布による可視画像が記録される液晶層と、前記光導電層と前記液晶層とに挟まれた位置に形成された遮光層と、を少なくとも有し、該遮光層が部分けん化ポリビニルアルコールを含む光変調素子である。 （もっと読む）

【課題】電源をＯＮにしてから画像が表示されるまでの時間を短縮化し得る液晶表示装置を提供する。
【解決手段】マトリクス状に配置されたＴＦＴ１１〜ＴＦＴｘｙを有する液晶表示パネル１と、ゲートドライバ４と、データドライバ３と、電源電圧ＶＤＤを昇圧し、昇圧した電圧ＧＶＤＤをゲートドライバ４に供給するチャージポンプ回路５とを備えた液晶表示装置において、電圧ＧＶＤＤのノイズを低減するための容量６と、スイッチング素子８と、液晶コントローラ１０とを更に備えさせる。容量６は、スイッチング素子８を介して、チャージポンプ回路５に接続する。液晶コントローラ１０によって、チャージポンプ回路５がゲートドライバ４に供給する電圧ＧＶＤＤの電圧値が基準値に到達したとき又は到達した後に、スイッチング素子８を開状態から閉状態に切り替える。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネルに組み込んだ光検知部が液晶表示パネル用駆動信号に影響を受けることがなく正確な光検知が可能な液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 アクティブマトリクス基板２とカラーフィルタ基板２５との間に液晶層１４が設けられた液晶表示パネルと、外光を検知する光センサを有する光検知部ＬＳと、光検知部の出力により制御される照光手段とを備え、アクティブマトリクス基板２の表示領域ＤＡ周縁部には前記光検知部を配置し、またカラーフィルタ基板２５には光検知部と対向する位置にアース電極９を配置し、アクティブマトリクス基板２とカラーフィルタ基板との間に接地用トランスファ電極を設けて、アース電極は接地用トランスファ電極８によりアクティブマトリクス基板２に配設したアース線７に接続されている。 （もっと読む）

【課題】
洗浄液へのモリブデン酸化物の溶け出しをなくすことによって、モリブデン酸化物の付着を防止する薄膜トランジスタの製造方法及び製造装置に関する。
【解決手段】
基板１３上にモリブデンを含む層を形成し、モリブデンを含む層が露出した状態において、基板１３に対して加熱を伴う前洗浄処理を行い、洗浄処理を行った基板１３を、その基板温度が１３０℃以下の状態においてウェット洗浄する基板１３の製造方法である。これにより、洗浄液へのモリブデン酸化物の溶け出しを抑制し、薄膜トランジスタのチャネル表面へのモリブデン酸化物の付着を防止する。 （もっと読む）

【課題】 誤って遮光手段により光センサの受光面が覆われた場合であっても、誤動作が発生しない液晶装置、発光装置及び電子機器並びに液晶装置の制御方法及び発光装置の制御方法を提供すること。
【解決手段】 液晶層２１を挟持するＴＦＴアレイ基板２２及び対向基板２３を有する液晶パネル１１と、環境光を受光して該環境光の強度情報を取得する第１から第３受光素子３５〜３７と、第１から第３受光素子３５〜３７で検出された前記環境光の強度に基づいて液晶パネル１１に表示する画像の表示状態を制御するバックライト制御回路１３とを備え、バックライト制御回路１３が、第１から第３受光素子３５〜３７のそれぞれで検出する前記環境光の強度の変化量が第１から第３受光素子３５〜３７のうちの半数以上で所定値を超えたとき、前記環境光の強度が変化したと判別する判別部５８を有する。 （もっと読む）

【課題】温度及び個体ばらつきに対する補正を行い、フォトセンサーの精度を向上させ、Ｓ／Ｎ比の低下を抑制し、画質を向上させることを目的とする。
【解決手段】第１、第２の基板間に液晶が封入されてなる液晶パネルと、液晶パネルの第１の基板の面に光を照射するバックライト８と、周囲の光の照度を検出する光検出手段と、光検出手段による検出結果に応じてバックライト８を制御する照明制御手段１２とが備えられ、光検出手段には、第１の基板もしくは第２の基板にそれぞれ設けられる第１，第２のフォトセンサー２１，２２が備えられ、第１のフォトセンサー２１は、少なくとも外光Ａが照射され、第２のフォトセンサー２２は、外光遮光部２８によって少なくとも外光Ａの照射が遮断されている。 （もっと読む）

【課題】開口率が改善された駆動回路一体型の液晶表示装置を実現する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法は、基板の非表示領域に位置する第１及び第２半導体層と表示領域に位置する第３半導体層とを形成する段階；ゲート絶縁膜を形成し各半導体層の中央部に各々対応する第１〜第３ゲート電極及び第３ゲート電極に連結されるゲート配線を形成する段階；各ゲート絶縁膜上に第１〜第３コンタクトホールを有する層間絶縁膜を形成する段階；層間絶縁膜上に第１〜第３ソース電極と第１〜第３ドレイン電極とを形成し第３ソース電極に連結してデータ配線を形成する段階；ソース電極、ドレイン電極及びデータ配線上に位置して、ドレインコンタクトホールを有する保護層を形成する段階；第３ドレイン電極に連結される画素電極を形成する段階；画素電極上の非表示領域と表示領域の非画素領域に位置するブラックマトリックスを形成する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】 サイドエッチやエッチャントの染込みなどによるＴＦＴの不良や、素子形成基板上への素子形成密度の低下や画質の劣化やクラック発生を防止することができるアクティブマトリクス基板の提供。
【解決手段】 基板３１と、前記基板３１上にマトリクス状に配置されたゲート線３２及び信号線３３からなる配線と、前記配線の交差領域に対応して配置され、薄膜トランジスタ２と前記薄膜トランジスタ２に接続されたコンタクトパッド７、８、９とを含む素子１を有し、前記素子１は、前記基板３１の面内方向で分離された外辺１０を備え、前記薄膜トランジスタのチャネル方向が前記基板上にマトリクス状に配置されたゲート線３２及び信号線３３の配線方向に対して傾きをなすように、前記薄膜トランジスタのチャネルを配置することを特徴とするアクティブマトリクス基板。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置において、画像表示面をなす各画素ドット５１の寸法を比較的大きくとりつつ、格子状のスジ模様等の表示ムラが防止されたものを提供する。
【解決手段】各画素ドット５１の幅Ｄ１を１５０μｍ以上とする。一方、各画素ドット５１を複数の分割画素ドット領域５２に分割する第２遮光パターン２２を設けることにより、分割画素ドット領域５２の幅Ｄ２が１００μｍ未満となるようにする。第２遮光パターン２２は、例えば、ＴＦＴ１３周辺と信号線１１及び走査線１２に沿った領域を遮光する第１遮光パターン２１（いわゆるブラックマトリクス）と同一のパターニング工程により同一の材料から形成される。第２遮光パターン２２を構成する各線状部分２２ａの幅は、例えば、対応する第１遮光パターン２１の線状部分２１ａとほぼ同一の幅に設けられる。 （もっと読む）

【課題】
ＴＦＴ素子１３などの静電破壊を制限しつつ、簡素に効率よく表示素子を作製できる。
【解決手段】
本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、マザー基板１００からＴＦＴアレイ基板１０を作製する液晶表示素子の製造方法であって、マザー基板１００上の液晶表示素子形成領域Ｍ内に、複数の画素電極１２とＴＦＴ素子１３をマトリクス状に形成し、複数の画素電極１２の間に複数のスイッチ素子１３に接続される複数のゲート電極配線１６または／およびソース電極配線１７を形成し、領域Ｍ外で各配線１６、１７を接続する接続配線１９を形成し、領域Ｍの外周縁に沿ってＴＦＴアレイ基板１０を分断するものである。そして、ＴＦＴアレイ基板１０をマザー基板１００から分断する際に、配線１６、１７の各々と接続配線１９とを分断する。 （もっと読む）

【課題】 電子素子を所定の位置に実装するための新規な実装方法を提供する。
【解決手段】 分散媒２１と分散媒２１に入れられた１つだけの素子チップ２２とを含む液滴２０を、基板１０の一主面上に配置する工程と、液滴２０から分散媒２１を除去することによって、素子チップ２２を基板１０上に配置する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】幅の異なる幾つかの領域を有するパターン形成領域に機能液を配置する場合等において、形成される膜パターン間での膜厚さを無くした該膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の膜パターンの形成方法は、基板１８上に第１バンク層３５と第２バンク層３６とを積層形成する工程と、前記第１バンク層３５及び第２バンク層３６をパターニングすることで、第１のパターン形成領域５６と、該第１のパターン形成領域５６に連続し、かつ該第１のパターン形成領域５６より幅が広い第２のパターン形成領域５５とからなるパターン形成領域１３を有するバンク３４を形成する工程と、を有し、前記第１バンク層３５、第２バンク層３６の形成材料がいずれもシロキサン結合を主鎖としてなる材料であり、前記第２バンク層の形成材料が、側鎖にフッ素結合を有する材料であることを特徴としている。 （もっと読む）