【課題】反射膜を覆う透明保護層の欠陥部から侵入したエッチング液が透明保護層の下層の反射膜まで浸透した場合であっても、画素が表示欠陥を生じることを防止できる電気光学装置とその製造方法、および電子機器を提供する。
【解決手段】画素の少なくとも一部に金属からなる反射電極９ｂが形成され、反射電極を覆うように透明電極９ａが形成され、反射電極９ｂが複数に分割されたパターン９ｓ，９ｍを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】段差部の凹角部分における配線層の断線を防止する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板４２は、ガラス基板２２と、ガラス基板２２に突出した状態で設けられたドライバ部５０と、ドライバ部５０の表面とガラス基板２２の表面とに沿って形成された段差部５３と、段差部５３の表面に設けられ、段差部５３における少なくとも一部の凹角形状を補償する絶縁性の凹角補償膜５４と、凹角補償膜５４の表面に沿って形成されると共にドライバ部５０に接続された配線層３７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】製造後、画素電極と対向電極とで仕事関数が異なってしまった場合におけるイオンの偏りにより発生する液晶装置におけるフリッカや焼き付き等の表示不良を、確実に防止することができる液晶パネルを具備する液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ基板及び対向基板に、液晶に駆動電圧を印加する画素電極、対向電極をそれぞれ形成するステップＳ１と、いずれか一方の電極に、ハロゲン処理を行うステップＳ４と、画素電極及び対向電極上に、無機配向膜をそれぞれ形成するステップＳ５と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反射モードと透過モードの双方で良好な表示が得られる半透過反射型の液晶装置を提供する。
【解決手段】ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側に、互いに電気的に接続された複数の帯状電極を有する画素電極９と、画素電極９と対向する共通電極１９と、画素電極９と共通電極１９との間に介在する電極部絶縁膜１３とが設けられており、反射表示領域Ｒ内に、入射光の所定の偏光成分の光を選択的に反射させる反射共通電極（反射偏光層）１９ｒと、反射光を散乱させるとともに、当該領域の液晶層厚を他の領域の液晶層厚と異ならせる液晶層厚調整層として機能する光散乱手段２９と、が設けられている。 （もっと読む）

【課題】有機半導体層を液滴吐出法にて形成する際に、より信頼性の高いものを得る、電
気光学装置の製造方法、電気光学装置、液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、
及び電子機器を提供する。
【解決手段】基板１０Ａ上に、第１隔壁１２をパターン状に設ける。基板１０Ａに金属材
料を蒸着し、第１隔壁１２の上面に画素電極１３及び信号線１４を形成するとともに、第
１隔壁１２に囲まれた領域にゲート線１６を形成する。基板１０Ａ上に、ゲート絶縁膜形
成領域１８、及びゲート絶縁膜形成領域１８に一部重なる半導体層形成領域を少なくとも
区画する第２隔壁１７を形成する。ゲート絶縁膜形成領域１８にゲート絶縁膜２６を形成
し、有機半導体層の形成材料を含む機能液を半導体層形成領域に吐出し、ゲート電極１６
ａ及びゲート絶縁膜２６の一部を跨ぎ、画素電極１３及び信号線１４間を電気的に接続す
る有機半導体層２８を形成する。 （もっと読む）

【課題】 電気的特性を下げることなく均一な配向膜が得られる配向膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 上記課題を解決する手段は、透明導電膜の主成分が単層カーボンナノチューブであって、該単層カーボンナノチューブがバンドル状態で存在しており、走査型電子顕微鏡観察にてバンドルの集合状態であるロープ形状が確認できることを特徴とする透明導電膜、および、これを電極層とする透明電極基板を用いる液晶配向膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】異なる幅を連結した導電膜の極細パターンを少ないプロセス数で高精度に形成して高精細な液晶表示パネルを得る。
【解決手段】幅広の導電膜と幅狭の導電膜のように、薄膜トランジスタ基板ＳＵＢ１の下地膜ＵＷの表面の大部分を撥液性ＲＡとし、幅狭のゲート電極形成部ＧＴＡのみを親液性ＦＡとする。新液性ＦＡのゲート電極形成部ＧＴＡに導電性インクを滴下し、滴下したインク膜がゲート電極形成部ＧＴＡに均一に広がった後、撥液性ＲＡのゲート配線形成部ＧＬＡに幅広のゲート配線をＩＪ直描で形成する。ゲート電極形成部ＧＴＡとゲート配線形成部ＧＬＡのインク膜の膜厚は、それぞれの部分におけるインクの滴下量で制御し、焼成後側液晶表示パネルに得られる両者の膜厚を同等にする。 （もっと読む）

【課題】高精細化に伴う液晶分子の初期配向状態（プレチルト角）の乱れや動作時の配向乱れを抑制して高品質の画質表示を可能とする。
【解決手段】背面パネル１２００の内面に有する複数色のカラーフィルタ１２５１、１２５２の上層に駆動素子１２２０の構成層が接着層１２７０で接着される。駆動素子１２２０の構成層、駆動電極（画素電極）１２３０、対向電極１２４０等は接着層１２７０に埋設されており、液晶層１１００側の表面は平滑面となっている。平滑面に配向膜１１０２が成膜され、液晶配向制御能（配向能）が付与されている。前面パネル１３００はガラス板あるいは樹脂シートの透明基板からなり、液晶層１１００側の表面は平滑面となっており、この平滑面に配向膜１１０３が成膜され、液晶配向制御能（配向能）が付与されている。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの金属層が精度良く形成された素子基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかる素子基板の製造方法は、第１の支持基板上に剥離層を形成する工程と、剥離層上に所定のパターンの金属層３３を形成する工程と、金属層を挟むようにして、第１の支持基板１０の上方に第２の支持基板１１０を配置する工程と、第１の支持基板と第２の支持基板の間に流動状態の樹脂材料１１４ａを流し込む工程と、樹脂材料を硬化して樹脂基板１１４を形成する工程と、剥離層を分解することにより、金属層を第１の支持基板から剥離させて、前記樹脂基板に転写する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示素子において、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板をエッチングしてその厚さを薄くするとき、エッチング異常の発生を回避または低減する。
【解決手段】 互いに貼り合わされた第１、第２のガラス基板１、２の厚さを薄くするためのエッチングを行なう前に、第１、第２のガラス基板１、２の外面に形成された第１、第２の導電膜１１、１２を発熱させた後に除冷すると、第１、第２のガラス基板１、２の外面の微小な傷や残留応力が除去または低減される。したがって、その後に、互いに貼り合わされた第１、第２のガラス基板１、２をエッチングしてその厚さを薄くするとき、エッチング異常の発生を回避または低減することができる。なお、互いに貼り合わされた第１、第２のガラス基板１、２の厚さを薄くするためのエッチングを行なった後に、熱処理して急冷した場合には、第１、第２のガラス基板１、２の外面側が強化ガラス化され、その強度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクやレジストを使用することなく、簡単な工程で開口部を形成する方法を提示する。また、低コストで半導体装置を作製する方法を提案する。
【解決手段】基板上に複数の光吸収層を形成し、当該複数の光吸収層上に層間絶縁層を形成し、層間絶縁層側から複数の光吸収層に線状または矩形状のレーザビームを照射して、少なくとも複数の光吸収層上の層間絶縁膜を除去して開口部を形成することにより、複数の光吸収層及び当該複数の光吸収層上に形成される絶縁層を除去して、複数の開口部を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ工程の回数を削減し、製造工程を簡略化し、低いコストで歩留まり良く製造すること可能となる半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】半導体膜を成膜し、レーザビームを遮蔽する遮蔽物を有するフォトマスクを通してレーザビームを照射し、半導体膜中の、フォトマスク中の遮蔽物が形成されない領域を介してレーザビームが照射された領域は昇華し、フォトマスク中の遮蔽物が形成された領域によりレーザビームが照射されなかった領域は昇華せずに島状半導体膜が形成され、ソース電極またはドレイン電極の一方である第１の電極と、ソース電極またはドレイン電極の他方である第２の電極が形成され、ゲート絶縁膜が形成され、ゲート絶縁膜上にゲート電極が形成される半導体装置の作製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＳモード液晶表示装置における液晶セル基板の配向膜によりプレチルトした液晶分子による黒表示の視野角依存性を光学補償する。
【解決手段】本発明のＩＰＳモード液晶表示装置は、ＩＰＳモードで駆動される液晶セルと、液晶セルの両側にクロスニコル配置された一対の偏光板と、バックライトとを有している。そして、偏光板の保護フィルムにＲｅ，Ｒｔｈの小さい光学フィルムを用いる一方で、従来から液晶セルの光学補償用に用いられていた２枚の位相差フィルム（ＩＦ１及びＩＦ２、又は、ＩＦ５及びＩＦ６）のほかに、さらにもう１枚の位相差フィルム（ＩＦ３、又は、ＩＦ４）を配置した。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスでも安定した電気特性を有する透明導電膜を形成することができる酸化物微粒子及び透明導電膜形成用液体材料を提供する。また本発明は、安定な電気特性を有する透明導電膜を形成する方法、並びに信頼性に優れた電気光学装置を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の液体材料１４Ａは、酸化物に変換されたときに透光性を発現する導電性微粒子１１と、Ａｇ微粒子１２とを分散媒１３に含んでなる。本発明の透明導電膜の形成方法は、酸化物に変換されたときに透光性を発現する導電性微粒子１１と、Ａｇ微粒子１２とを分散媒１３に含んでなる液体材料１４Ａを基板上に配置する工程と、基板Ｐ上の液体材Ｓ料１４Ａを減圧又は還元雰囲気中で加熱処理して液体材料１４Ａの固化物を形成する工程と、固化物を酸素含有雰囲気中で加熱処理して固化物を酸化させる工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】材料の利用効率を向上させ、かつ、作製工程を簡略化して作製可能な表示装置及びその作製技術を提供することを目的とする。
【解決手段】光吸収層を形成し、光吸収層上に絶縁層を形成し、光吸収層及び絶縁層に選択的にレーザ光を照射し、絶縁層の照射領域を除去し絶縁層に開口を形成し、開口に光吸収層と接するように導電膜を形成する。露出した光吸収層と接するように開口に導電膜を形成することによって、光吸収層及び導電膜は絶縁層を介して電気的に接続することができる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、製造工程の単純化を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板１０と、平坦化された層間絶縁膜４３と、層間絶縁膜４３上に設けられた画素電極９ａと、画素電極９ａより下層側に形成され、層間絶縁膜４３に開孔されたコンタクトホール８５を介して画素電極９ａと接続された中継層９３と、中継層９３よりも下層側に形成され、平面的に見てコンタクトホール８５と部分的に重なると共に、下部容量電極７１、誘電体膜７５及び上部容量電極３００ａが積層されてなる蓄積容量７０とを備える。更に、中継層９３と同一膜からなると共に、層間絶縁膜４３に開口された開口部８１０から一部が露出する外部回路接続端子１０２並びに、平面的に見て開口部８１０と部分的に重なると共に、下部容量電極７１及び上部容量電極３００ａの各々と同一膜からなる調整膜６１１及び６１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】額縁領域が十分に狭く、対向基板及びアレイ基板間の電気的接続が十分であって、かつ画面にコーナームラ等が発生しない液晶表示装置を提供する。
【解決手段】アレイ基板及び対向基板は、各々、主基板に多面取りされ、接続部材は、額縁領域から額縁領域に隣接する領域にわたって形成された後、個々に割断され、このとき、２つの額縁領域間で二分割されている。 （もっと読む）

【課題】配線抵抗及び不良が減少したアレイ基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板１２０上にバリア層を形成する。その後、バリア層上に銅または銅合金を含むゲートライン１３１及びゲートラインに電気的に接続されるゲート電極１１８を形成する。その後、ゲートライン１３１及びゲート電極１１８の表面を窒化プラズマ処理する。続いて、絶縁基板１２０上にゲートライン１３１及びゲート電極１１８をカバーするゲート絶縁膜１２６を蒸着する。続いて、ゲート絶縁膜１２６上にデータライン１３３、データライン１３３に電気的に接続されるソース電極１１７、ソース電極１１７と離隔されて配置されるドレイン電極１１９、及びゲート電極１１８上でソース電極１１７とドレイン電極１１９との間に配置される半導体パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】平坦度の低下を抑制して所定の特性を発現させる。
【解決手段】第１膜パターン（ゲート配線４０）に対応する第１開口部（第１のパターン形成領域５５）、及び第１膜パターン（４０）より幅狭で第１膜パターン（４０）に接続される第２膜パターン（ゲート電極４１）に対応する第２開口部（第２のパターン形成領域５６）を有するバンク３４を形成する工程と、第１開口部（５５）に機能液Ｌ２の液滴を配置し、機能液Ｌ２の自己流動により機能液Ｌ２を第２開口部（５６）に配置する工程と、第１開口部（５５）及び第２開口部（５６）に配置された機能液Ｌ２を硬化させる工程とを有する。第１膜パターン（４０）及び第２膜パターン（４１）は、液滴を塗布する工程と機能液を硬化させる工程とを液滴毎に複数回繰り返して成膜される。 （もっと読む）

【課題】表示基板とその製造方法及びこれを有する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１領域と第２領域に区分された画素領域を有する基板上に第１及び第２領域にかけて形成されたストレージ電極、ストレージ電極上に形成される透明絶縁膜パターン、透明絶縁膜パターン上の第１及び第２領域にそれぞれ形成された第１及び第２画素電極を含む表示基板を構成し、第１及び第２画素電極のうちのいずれか１つに凹部が形成されるかまたは透明絶縁膜パターンはストレージ電極上の第１領域に形成された第１開口部と第２領域に形成された第２開口部を含む開口部が形成される。 （もっと読む）