【課題】 可撓性基板上の配線を保護可能な実装構造体、実装構造体を備えた電気光学装置、電気光学装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】外力等により回路基板３が力を受けても、ダミー配線２７、２８が、基板５の端縁５ｂと回路基板３の縁３ａとが交差する部分と複数の配線２２との間で、端縁５ｂ、端縁４ａに交差するように回路基板３に設けられているので、この交差する部分と複数の配線２２との間をダミー配線２７、２８等により補強することができ、確実に配線２２の破断を防止することができる。ダミー配線２３〜２８は、端縁５ｂに直交する方向に設けられているので、傾斜する方向に沿って回路基板３が破断することを防止でき、配線２２が破断することを効果的に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 マルチドメイン垂直配向型の液晶表示装置の開口率を向上するための技術を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置は、垂直配向処理が施されている第１基板および第２基板と、第１基板と第２基板の間に介在している液晶層と、第２基板に設けられており、画素領域を確定している複数のゲート線およびデータ線と、第１基板に設けられており互いに略平行に伸びている第１調整手段と、第１基板に設けられており互いに略平行に伸びている第２調整手段とを備えている。第１調整手段と第２調整手段は、電圧が印加されたときに液晶分子が配向する方向を画素領域における位置に応じて変化するように調整する。そして、第１調整手段と第２調整手段は交互に配置されており、その間隔が２５マイクロメートル以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】垂直配向方式の液晶表示装置において、画素電極の容量を実質的に大きして表示品質の向上を図る。
【解決手段】負の誘電率異方性を有する液晶が封入されてなる液晶表示装置において、下側基板の素子基板上には、データ線、ＴＦＤ素子及び補助電極が形成され、それらの上にはオーバーレイヤーが形成され、その上のサブ画素領域内には、略三串団子状の平面形状をなす画素電極が形成されている。本発明の補助電極は、平面視した場合に画素電極が設けられていない領域に複数の補助電極部と第１及び第２接続部とを有している。複数の補助電極部は、オーバーレイヤーを介して液晶層と対向し、第１及び第２接続部は、画素電極と重なっている。また、複数の補助電極部には、画素電極と同電位の電位が印加され、画素電極の容量に、複数の補助電極部の容量を付加する。このため、画素電極の容量を実質的に増加させて、表示品質が低下するのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス型の液晶表示装置において、縞模様が表示されてしまう
ことを抑制する。
【解決手段】Ｄ１〜Ｄ８で示される画像データ信号が供給される配線とコンタクトする
Ｄ１’〜Ｄ８’で示されるサンプリング回路への配線にダミー配線部分を設ける。このダ
ミー配線部分は、バッファー回路側に延在しており、Ｄ１〜Ｄ８で示される配線が有する
インピーダンスを互いに均一化するために機能する。このような構成とすることにより、
Ｄ１〜Ｄ８から漏洩される画像データ信号を均一化し、縞模様表示が行われてしまうこと
を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 光反射層を利用することにより、走査線あるいはデータ線としての第１の透明電極の電気的抵抗を実質的に低減可能な電気光学装置およびそれを用いた電子機器を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置１において、第２透明基板２０には、光散乱用凹凸を形成する下地層２２、光反射層２３、３色のカラーフィルタ層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ、絶縁膜からなる層厚調整層２６、走査線２７、および配向膜２８がこの順に積層されている。これらの層のうち、光反射層２３は走査線２７と同様、帯状に形成され、画像表示領域３の外側で両端部が走査線２７に電気的に接続されている。従って、走査線２７の電気的抵抗を実質的に低減することができる。 （もっと読む）

ＥＬ発光素子（３３）を第１の基板（１）上に設け、ＥＬ発光素子（３３）による発光表示と液晶表示素子による反射表示をともに可能とする。第１の基板（１）の液晶層（５１）側の面上には、ＥＬ制御用スイッチング素子（１７）と液晶層制御用スイッチング素子（１８）を設ける。ＥＬ制御用スイッチング素子（１７）は、ＥＬ発光素子（３３）を構成するアノード電極（２１）またはカソード電極（２４）に接続する。液晶層制御用スイッチング素子（１８）は、液晶表示素子を構成する表示電極（３１）または反射電極（２８）に接続することで、発光素子を内在する液晶表示装置において、液晶表示素子と発光素子とを一体化し、それらの電気的接続も考慮し、薄型化、軽量化を図り、また、反射表示と透過表示の両方を可能とする。
（もっと読む）

【課題】 基板上に薄膜からなる集積回路を形成し、基板から剥離する際、集積回路に亀裂（クラックとも呼ぶ）が生じることがあった。
【解決手段】 本発明は、エッチングの進行方向を一方向に固定し、エッチングの進行に合わせて被剥離層の反りを一方向にすることで亀裂の発生を抑えるというものである。例えば、基板上に設けた剥離層をパターニングして、下地絶縁層を形成し、基板と下地絶縁層とが接する部分で固定させれば、基板と下地絶縁層とが接する部分はエッチングされないことを利用してエッチングの進行を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】 多面取りマザー基板から切り出される液晶表示パネルの切断面でのＩＴＯ付きカレットによるリーク発生率を簡単な方法によって可及的に低く抑える。
【解決手段】 透明電極２を有するパネル基板の各々がマザー基板１上でそれぞれ多面的に形成され、少なくとも一方のマザー基板１には、製造工程で透明電極２に帯電される静電気を放電させる一対の放電電極を含むアレスタＡ１〜Ａ３が形成されており、周辺シール材を介して貼り合わされたマザー基板から各パネル基板がその外形を画定する切り出し線に沿って個々に切り出される液晶表示パネルにおいて、アレスタＡ１〜Ａ３の少なくとも一方の放電電極を尖鋭突起状とし、その一方の放電電極をパネル基板１０側において切り出し線ＣＬに面して配置される構成とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的の一つは、新規な薄膜デバイスの転写技術を用いてアクティブマトリクス基板を形成する際に、問題となる製造上の不都合を排して、アクティブマトリクス基板の現実の製造を可能とすることである。
【解決手段】 転写元の基板上に薄膜トランジスタならびに画素電極を形成するに際し、薄膜トランジスタを形成する前に、画素電極（７０００）を形成しておく。これにより、デバイスを転写体（７７００）に転写した後、転写元基板を離脱させると、画素電極（７０００）の表面が自動的に露出することになる。この部分（７０００）が液晶（４６０）への電圧印加を可能とする。 （もっと読む）

【課題】表示特性を向上させることができる表示基板、これの製造方法及びこれを有する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は表示領域に形成された第１カラーフィルター層、及び画像が表示されない周辺領域に形成された第２カラーフィルター層を有する下部基板を含む。下部基板は表示領域だけではなく、周辺領域にもカラーフィルター層を形成し表示領域と周辺領域間のセルギャップの差異を最小化することができる。これにより、液晶表示装置は表示領域と周辺領域間の光透過率の差異のため発生される縁の染みを防止することができるので、表示特性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 柱状スペーサの滑りによる光漏れ現象を防止することができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 第１部分及びこれより低い第２部分を有する薄膜トランジスタ表示板１００と、対向表示板２００と、柱状スペーサ３２０と液晶層３と、からなる。柱状スペーサ３２０は、薄膜トランジスタ表示板１００上において、他に比べて比較的に低く且つ平坦な部分（第２部分）に位置する。柱状スペーサ３２０の接触部は、表示板１００、２００に加えられた圧力または衝撃によって滑って、再び元の位置に容易に戻り、復元される。 （もっと読む）

【課題】 長時間の駆動に対しても信頼性の高い表示装置用駆動回路を提供する。
【解決手段】 互いに接続され、順次に出力信号をそれぞれ生成する複数のステージを有する表示装置用駆動回路であって、前記各ステージは、複数のトランジスタを有し、前記各トランジスタは、制御電極と、前記制御電極上に形成される第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜上に形成される半導体層と、前記半導体層上に少なくとも一部分が形成される入力電極と、前記半導体層上に少なくとも一部分が形成される出力電極と、前記入力電極及び出力電極上に形成される第２絶縁膜とを備え、前記半導体層と前記第１絶縁膜の厚さとの比が、０．３〜１．５である。 （もっと読む）

【課題】 表示品位が高く、周辺回路とのコンタクト性に優れた液晶表示装置を構成するマトリックス基板およびその製造方法を実現する。
【解決手段】 複数の液晶セルを形成するためのマトリクス回路が形成されている液晶用マトリクス基板において、液晶パネルを組み立てるときに貼り合わせ面となる表面に島状に、第１の導電材からなる絵素電極１２と、第２の導電材からなる端子電極１３とを形成する。このとき、第１の導電材は、第２の導電材よりも透過性が高く、かつ、導電性が低いものを使用する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、横電界によって液晶を駆動する構成における高視野角特性を有したままで開口率を高くすることができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、一対の基板４０、４１間に液晶層４２が配設され、前記一方の基板の対向面上に一つ以上の画素電極５４と前記画素電極と協働して液晶に前記基板面に沿った方向に電界を印加するコモン電極５３とが複数の画素領域５９を形成するように設けられるとともに、前記他方の基板の対向面上に前記各画素領域の表示領域に対応する開口７０を有し前記画素領域以外の非表示領域を覆う導電性のブラックマトリクス７１が設けられ、前記ブラックマトリクスがコモン電極と略同電位とされてなることを特徴とする。また、ブラックマスクの他に導電膜８１を設けてこれをコモン電極と略同電位とすることもできる。 （もっと読む）

【課題】 検査及び駆動を容易にするためのアレイ基板、これを有する母基板、及び液晶表示装置が開示される。
【解決手段】 複数のデータライン、複数のスキャンラインが形成される。画素電極は、データラインとスキャンラインによって定義される領域に形成され、シールド共通電極は、画素電極の外郭を取り囲むように形成される。データパッド部は、データラインに検査用データ電圧を印加する。シールド共通電圧パッド部は、シールド共通電極にデータ電圧と異なるシールド共通電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】 ４回のマスク工程によって形成されるＴＦＴ−ＬＣＤの画素構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板の上に透明導電層と第１金属層を順に形成し、第１金属層と透明導電層をパターン化して、ゲートパターンと画素電極パターンを形成する。次に、ゲート絶縁層と半導体層を基板の上に形成し、パターン化工程によりゲートパターン上方にあるゲート絶縁層と半導体層を保留すると同時に、画素電極パターンの第１金属層を除去する。そして、基板の上に第２金属層を形成し、該第２金属層をパターン化し、半導体層上にソースパターンとドレインパターンを形成する。最後に、基板の上に保護層を形成し、該保護層をパターン化し、画素電極パターンの透明導電層を露出させる。 （もっと読む）

【課題】 照明光の分光特性が不均一であっても、これに起因した色再現性の低下を抑えることができ、反射モード時にも透過モード時にも、発色がよく、視認性の高い表示ができるカラーの半透過反射型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶表示装置は、各々が異なる色に対応する複数のサブ画素５５１からなる画素６１５を有する液晶表示パネルと、照明装置とを具備し、液晶表示パネルは、半透過反射層と、各サブ画素５１１に対応する色のカラーフィルタ５２２とを具備し、半透過反射層は照明光を透過させる透光部を有し、複数のサブ画素５１１のうち少なくとも1つのサブ画素における透光部に対応する光透過領域の面積と、他のサブ画素における透光部に対応する光透過領域の面積とが異なるように、前記透光部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 接触の有無及び接触位置を精度良く検出できる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 第１表示板と、前記第１表示板と離隔して対向配置される第２表示板と、前記第１表示板と前記第２表示板との間に介在する液晶層と、接触によって静電容量が変化し、該静電容量によって大きさが変化する制御電圧を生成する可変キャパシタと、前記第２表示板に設けられ、前記可変キャパシタからの制御電圧に基づいて感知信号を生成する感知素子とを有する。 （もっと読む）

【課題】 針を用いて層間膜にコンタクトホールを形成し、導電性材料を埋め込むことで導電部を形成する場合に、導電部による導通の信頼性を備え、凸部による配線の断線を防止した、コンタクトホールの形成方法、回路基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板２０と、基板２０上に設けられた第１の電極３４ｂと、第１の電極３４ｂ上に設けられた層間膜３２と、層間膜３２上に設けられた第２の電極３４とを備えた回路基板１０に、層間膜３２のコンタクトホールＨ内に埋め込まれて第１の電極３４ｂと第２の電極３４とを導通させる導電性材料からなる導電部３００を形成する。まず、層間膜３２に、針Ｐで機械的に孔を開けつつ、針Ｐに含有させた溶剤によって層間膜３２を化学的に溶解することで、第１の電極３４ｂに到達するコンタクトホールＨを形成し、コンタクトホールＨ内に導電性材料を埋め込んで導電部３００を形成する。 （もっと読む）

【課題】 外部からの入射光を観察者に向けて反射する反射型又は半透過型の液晶表示装置において、虹色光を抑制する液晶表示装置及びその設計方法を提供する。
【解決手段】 反射膜２０の表面には、同じパターンを有し周期的に配列された複数の要素図形グループ３６が形成され、要素図形グループ３６のそれぞれは、要素数がＮ個の凸状の要素図形パターン３１を含み、要素図形パターン３１の各頂点は、0.4以上の最大頂点移動度で標準の要素図形パターンの頂点位置からランダムに移動された位置に配置されており、入射光の平均的な波長をλ_A、要素図形パターン３１の配列の標準ピッチをＬ_Sとして、反射膜２０で反射された反射光の回折によって生じる輝点の離散化角α（°）を下記式：
【数１】


で定義したときに、要素図形パターン３１の頂点位置のランダム移動によって、輝点の離散化角αが0.01°以下となっている。 （もっと読む）