【課題】 液晶滴下工法用シール剤として滴下工法による液晶表示素子の製造に用いた場合にでも、液晶汚染を引き起こしにくく、色むらが少ない高品位な画像の液晶表示素子を製造することができる液晶表示素子用硬化性樹脂組成物、液晶滴下工法用シール剤、上下導通用材料及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】 融点が５０℃以上である結晶性エポキシ樹脂、(メタ)アクリル樹脂、熱硬化剤、及び、光ラジカル重合開始剤を含有する液晶表示素子用硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイパネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】マトリクス形状で設置されたアクティブ素子を有する複数の画素セルを含む画素アレイ域を含み、前記画素セル中の第一画素セルの第一アクティブ素子の相対位置は、前記画素セル中の第二画素セルの第二アクティブ素子と異なるディスプレイパネルを採用する。特に、前記アクティブ素子として、薄膜トランジスタを用いるディスプレイパネルに有用である。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス型液晶表示装置において、データライン等による反射光の干渉を抑止し、ＬＣＤパネルに虹状のむらが生じるのを防止する。
【解決手段】アクティブマトリクス型液晶表示装置において、距離的に周期性を有して配置されている構成要素、例えば、データライン１０、ゲートライン２０、補助容量ライン３０、能動層６１については、これらの表面に入射する外光による反射による反射光の干渉が生じ、虹状の表示むらが発生する。これらの表面に、複数の凹部及び凸部が形成し、互いに隣接する凸部の間隔及び互いに隣接する凹部の間隔に距離的な周期性がないようにすることで、反射光の干渉をなくす。距離的に周期性を有して配置されている構成要素の全てにそのような複数の凹部及び凸部を形成することが好ましいが、少なくとも１つの構成要素にそのような複数の凹部及び凸部を形成してもよい。 （もっと読む）

本発明は、単結晶シリコン半導体を回路駆動部及び画素アレイの製造に用いる可撓性を有する高解像度液晶表示装置などの可撓性電気光学装置及びその製造方法に関する。本発明による可撓性電気光学装置は、可撓性単結晶層の上に電子素子が形成される素子層を備える可撓性下部基板部と、前記下部基板部に組み付けられた可撓性上部基板部と、前記下部基板部と前記上部基板部との間に配設された電気光学的物質層と、を備える。 （もっと読む）

【課題】低抵抗の導電物質からなる信号線を用いることにより、良好な接触特性を備える接触構造およびその製造方法を提供する。
【解決手段】接触部形成方法は、基板上に第１配線を形成する段階と、第１配線を覆い、第１配線の一部分を露出させるコンタクトホールを有する絶縁膜を形成する段階と、コンタクトホールによって露出する第１配線の表面に接触層を形成する段階と、接触層を介して第１配線と接続される第２配線を形成する段階とを含み、第１配線は、アルミニウムまたはアルミニウム合金で形成し、第２配線は、ＩＴＯまたはＩＺＯで形成する。 （もっと読む）

基板(19)上に透明電極を形成する方法が開示されている。当該方法は、グラビアオフセット印刷法により、基板上にパターニングされた加熱分解可能なインク組成物を堆積する工程及び、加熱分解可能なインク組成物を加熱分解する工程を有する。加熱分解可能なインク組成物は、可視光波長未満の粒径を有する導電性の金属酸化物、ニトロセルロース結合剤、アルコール溶媒及び、250℃より高温の沸点を有する有機共溶媒を有する。
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【構成】アクティブマトリクスディスプレイ装置を製造する方法は、硬質ガラス基板とその上に位置するプラスチック基板とを含む第１基板構造の製造を含む。プラスチック基板上に画素回路が形成される。ディスプレイのアクティブプレート及びパッシブプレートが実装された後のプラスチック基板から硬質ガラス基板（１２）のみが除去され、ディスプレイモジュール（１０）となる。この方法により、例えば標準的なＡＭＬＣＤ工場において最小の設備を追加するだけで、略従来の基板の取扱、処理、及びセルの作製を使用することが可能となる。
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【課題】　本発明の目的は、液晶配向の不良を減少させ、開口率を高めることにある。
【解決手段】　第１絶縁基板と、第１絶縁基板上部に形成されており、ゲート電極を有するゲート線と、ゲート線を覆うゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上部に形成されている半導体層と、半導体層上部に形成されているソース電極及びドレイン電極とソース電極に連結されており、ゲート線と交差するデータ線と、有機絶縁膜からなっており、ドレイン電極を露出する第１接触孔を有する保護膜と、第１接触孔を通じてドレイン電極と連結されている画素電極と、第１絶縁基板と対向する第２絶縁基板と、ゲート線またはデータ線と重なるブラックマトリックスと、第１絶縁基板と第２絶縁基板の間でブラックマトリックスと重なって位置し、写真エッチング工程で形成された基板スペーサとを含む液晶表示装置を提供する。 （もっと読む）