【課題】従来の方法による有機電子素子製造時に問題とされる、ソース／ドレイン電極材料が特定金属や金属酸化物に制限される限界性を克服して、データライン材料と相異なるソース／ドレイン電極材料を使用できる有機電子素子の電極形成方法、これによって形成された電極を含む有機薄膜トランジスタ及びこれを含む表示素子を提供する。
【解決手段】有機電子素子の電極形成時に、パターニング及び精密度面で良好でありながらも、ソース／ドレイン電極材料が金（Ａｕ）やインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）など特定金属や金属酸化物に制限される限界性を克服し、一般金属や金属酸化物だけでなく、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ混合物などを含む伝導性物質の使用を可能にする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、写真エッチング工程を使用せずに効率的でかつ、高精度に薄膜をパターニングできる表示板の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、表示板の製造装置及び製造方法に関し、本発明による表示板の製造装置は作業対象表示板が載置されて、少なくとも一つの光透過部を有する載置部、前記載置部の上に位置し、少なくとも一つの整列キー及びパターン形成部を含む型部、前記型部を駆動する型部駆動部、及び前記載置部の下に位置して前記光透過部を介して前記作業対象表示板と前記型部の誤整列の有無を確認する整列感知部を含む。本発明により、加圧型部を利用したインプリントリソグラフィ工程を通して効率的でかつ、高精度に特定物質をパターニングできる。 （もっと読む）

【課題】製造工程数を減らして製造費用を節減した有機ＴＦＴアレイ基板及びその製造方法を得る。
【解決手段】本発明の有機ＴＦＴアレイ基板は、基板１５１上に形成されたデータライン及びデータラインに交差するゲートライン１５２と；データラインに接続されたソース電極１６０と；ソース電極１６０から一定間隔に離隔されたドレイン電極１６２と；ソース電極１６０とドレイン電極１６２とが離隔された領域にチャネルを形成するための有機半導体層１６４と；有機半導体層１６４上に形成されるゲート電極１５８と；有機半導体層１６４とゲート電極１５８との間に形成される有機ゲート絶縁膜１７４と；ゲート電極１５８を形成するためにゲート電極上１５８に形成されたゲートフォトレジストパターン１７５と；ドレイン電極１６２に接続された画素電極１７６とを備える。 （もっと読む）

【課題】 安定性に優れ、高移動度であり、フレキシブルディスプレイの画素部や駆動部に適した薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】 絶縁基板上にゲート電極を有し、それらの上に形成されたゲート絶縁膜の上に、ドレイン電極、ソース電極が配置されており、ソース電極とドレイン電極の間隙を含むように酸化物半導体パターンが配置されている薄膜トランジスタ装置であって、該酸化物半導体パターン上に、封止層を有する。封止層が無機絶縁膜であり、例えば酸化窒化シリコンである。または、フッ素化樹脂である。また、少なくとも画素電極上には封止層を有しない。さらに封止層上に、画素電極部に開口を有する層間絶縁膜を有し、層間絶縁膜上に、開口部で画素電極と接続された上部画素電極を有する。 （もっと読む）

【課題】製造コストの低減に寄与する製造方法を提供する。
【解決手段】基板１８上に設けられたバンク３４によって区画されたパターン形成領域に
、機能液を配置して膜パターンを形成する。基板１８上に第１のバンク形成材料を配置し
て第１バンク層３５を形成する工程と、第１バンク層３５上に第２バンク層３６を形成す
る工程とを有する。第１のバンク形成材料は有機材料であり、第２バンク層３６は第１バ
ンク層３５を被覆するフッ素系の樹脂材料からなる。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルを多数個取り基板を用いて製造する場合に、静電破壊を防止するための基板間接続線を介して発生する、ラビング工程等での帯電、分断後のサージの進入やＦＰＣとのショート等を低減回避することである。
【解決手段】ＩＴＯやＩＺＯ等の光透過導電酸化膜によって画素電極１３１を形成する際に、当該光透過導電酸化膜を利用して配線Ｌ５１上に基板間接続線１５１を形成し、この基板間接続線１５１によって多数個取りアレイ基板内の隣接するアレイ基板間で配線Ｌ５１同士を接続する。画素電極１３１上に層間絶縁膜１３２を形成する際に、層間絶縁膜１３２用の絶縁膜を利用して基板間接続線１５１を覆う層間絶縁膜１５２を形成する。共通電極１３３用の導電膜を利用して基板間接続線１５１上にパッド１５３を形成する。パッド１５３と基板間接続線１５１と配線Ｌ５１との積層によって外部接続端子部１５０が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、工程が簡単でかつ、低コストで作られる表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】支持板１０上に設置された基板１００上に有機物質を塗布する段階、モールド５０の所定パターンが形成された面を有機物質と接触させる段階、支持板を所定角度に傾ける段階、及び、加圧ローラ７０を回転させてモールドを加圧する段階を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】少ない面積で十分な容量の保持容量を形成可能にする。
【解決手段】複数の走査線と複数のデータ線との交差に対応して画素が構成され、前記複
数のデータ線に夫々接続された保持容量を有する電気光学装置であって、前記保持容量は
、基板上に形成されて前記データ線に電気的に接続された下部電極と、前記下部電極上に
第１の容量絶縁膜を介して形成され所定の固定電位点に接続される固定電極と、前記固定
電極上に第２の容量絶縁膜を介して形成され前記下部電極と電気的に接続された上部電極
と、を具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタの特性が向上した表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、絶縁基板と；絶縁基板上に形成され、導電膜を含むデータ配線と；導電膜と電気的に接続されている少なくとも１つのソース電極と、ソース電極と離間するようにソース電極の周縁に沿って形成されているドレイン電極とを含む薄膜トランジスタと；導電膜と電気的に接続されている画素電極とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高い光透過率と広い視野角を確保することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 透光性絶縁基板３０上に、第１方向Ａ１に長い複数の矩形状の画素電極１１がマトリクス状に配置されているアレイ基板２と、透光性絶縁基板４０上に、複数の画素電極１１に対応して共通に設けられている対向電極４２と、この対向電極４２上に設けられ、第１方向Ａ１と交わる第２方向Ａ２に長い複数のリブ４３を備え、アレイ基板２と対向して配置されている対向基板３と、アレイ基板２と対向基板３との間に配置された液晶層４とを備え、リブ４３は、画素電極１１と対向電極４２とに挟まれた画素領域２０３内において、複数の画素電極１１の対向する短辺の中央を通る第１仮想線２０２あるいは画素電極１１の対向する長辺の中央を通る第２方向Ａ２の第２仮想線２０４の少なくとも一方に対して非対称に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】小型化・高精細化の要請に応えることができると共に、画素領域の開口率を飛躍的に向上させることができる電気光学装置、電子機器及びプロジェクタを提供すること。
【解決手段】ＴＦＴアレイ基板１０の画素間領域には、基板面に対して凹部１０ａが設けられており、容量素子１７の一部及びデータ線６ａ、走査線３ａなどの配線の一部がこの凹部１０ａ内に設けられているので、これら容量素子１７及び配線が画素間領域内に占める面積を小さくすることができる。したがって、その分液晶装置を小型化することが可能となり、画素間領域を狭くする、すなわち、画素領域を広げることが可能となる。これにより、小型化・高精細化の要請に応えることができると共に、画素領域の開口率を飛躍的に高めることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置に係り、特に、高輝度及び広視野角を具現する横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板とその製造方法に関する。
【解決手段】本発明は、基板と；前記基板上に、第１方向に形成されたゲート配線と；前記基板上に、第２方向に形成されたデータ配線と；前記ゲート配線及びデータ配線に連結された薄膜トランジスタと；プレート状であって、第１透明導電性物質で前記基板上に形成される共通電極と；前記共通電極の上部に、第２透明導電性物質で構成されて、前記第２方向に沿って形成されて、相互に離隔された第１及び第２パターンと、前記第１及び第２パターンを連結して、前記第１及び第２パターンに斜めに形成されて相互に離隔する多数の第３パターンとを含むことを特徴とする横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板を提供する。これによって、開口率、視野角及び輝度が改善される。 （もっと読む）

【課題】非線形性の向上、および残像現象の原因となる素子ドリフト現象の防止の双方を実現可能な非線形素子、この非線形素子を画素スイッチング素子として用いた電気光学装置、および非線形素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】非線形素子１０ｘは、下電極１３ｘ、この下電極１３ｘの表面側を覆う絶縁層１４ｘ、およびこの絶縁層１４ｘを介して下電極１３ｘに対向する上電極１５ｘを備えたＴＦＤ素子である。絶縁層１４ｘに用いたタンタル酸化膜は、窒素を含有しているため、非線形性が高い。また、絶縁層１４ｘに用いたタンタル酸化膜が窒素を含有していると、素子ドリフトが多くなり、残像現象が発生しやすくなるが、絶縁層１４ｘに用いたタンタル酸化膜は、窒素に加えて、水素も含有しているため、素子ドリフト現象が小さいので、残像現像が発生しにくい。 （もっと読む）

【課題】コスト増を招くことなく配線を形成する。
【解決手段】複数層の膜４１、４７及び４２、４７が積層されてなる配線を基板Ｐに形成する。複数層の膜のうち、少なくとも二層の膜をそれぞれ液相法で塗布する工程と、少なくとも二層の膜を一括して焼成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】第１の走査線上の表示が不鮮明にならない、かつ、静電破壊が防止された液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１基板３と、第２基板４と、両基板３，４間に設けられた液晶５とを備え、第１基板３上において、行列状に配置された第１から第Ｎ（Ｎは２以上の整数）までの走査線ｇ１〜ｇ６００および複数の信号線ｓ１〜ｓ２４００と、第１の走査線ｇ１に沿ってその外側近傍に設けられたダミー線１５と、第１の走査線ｇ１と各信号線ｓ１〜ｓ２４００とに接続された各スイッチング素子２５と、各スイッチング素子２５とダミー線１５との間に接続された各補助コンデンサ２６と、各走査線ｇ１〜ｇ６００を駆動する走査駆動部３１ａ，３１ｂと、各信号線ｓ１〜ｓ２４００を駆動する信号駆動部３０ａ〜３０ｅとを備え、走査駆動部３１ａ，３１ｂは走査時において、ダミー線１５に対して非選択時駆動電圧以下の電圧を常時、出力する。 （もっと読む）

【課題】タッチ不良を防止できる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】互いに対向する第１基板及び第２基板、該第２基板上の所定部位に形成された突起、該突起と中心部が対応して形成され、前記突起に対する対応面よりも大きい対応面を有しながら前記第１基板上に形成された第１コラムスペーサー、前記突起と対応しない第１コラムスペーサーの対応面に対応して形成され、前記突起の周辺部を囲む形で前記第２基板に形成された凹部、及び前記第１及び第２基板間に形成された液晶層と、を備える液晶表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】低抵抗信号線、特にアルミニウム信号線を用いる液晶表示装置の製造方法において、アルミニウムの腐食を生じないとともに、洗浄力に優れている洗浄剤、及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板上に第１薄膜層を積層し、前記第１薄膜層をフォトエッチング工程でパターニングし、前記第１薄膜層が形成されている基板を洗浄し、洗浄された前記基板上に第２薄膜層を積層することを含み、前記洗浄は、超純水と、サイクリックアミンと、ピロガロールと、ベンゾトリアゾールと、メチルグリコールとを含む洗浄剤を用いて行なうことを特徴とする、薄膜トランジスタ表示板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】印刷システム及びこれを用いた液晶表示素子の製造方法において、比較的高価のマスクを用いないことによって製造費用を節減し、露光、現像工程などを施さないことによって工程を単純化し、工程時間を短縮する。
【解決手段】移動レール３００と、該移動レール３００上部に位置する印刷板６００及び基板４００と、前記移動レール３００を介して前記印刷板６００及び基板４００を経由してパターンを転写する印刷ロール２７０と、前記印刷板６００を洗浄するための洗浄部５３０と、を備えて構成されることを特徴とする印刷システムを提供する。 （もっと読む）

【課題】平坦性の高いパターンを形成可能とする。
【解決手段】基板Ｐ上に積層構造の配線４１、４２を形成する。基板Ｐ上に下地層Ｆ１を形成する工程と、下地層Ｆ１の上に液状体の液滴を吐出して配線本体Ｆ２を形成する工程とを有する。液状体は、銀を含む第１微粒子と、第１微粒子に添加され銀とは異なる第２微粒子とを含む。 （もっと読む）

【課題】たとえ導電性ペーストで配線層を形成する場合においても、隣接する他の配線層との離間距離を従来よりも狭めて形成することのできる表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】同層かつ隣接して形成される第１配線層および第２配線層を有し、第１配線層および第２配線層は、いずれも導電性インクの塗布および乾燥により形成されるものであって、前記第１配線層および第２配線層はそれぞれ別工程による塗布および乾燥によって形成する。 （もっと読む）