表示基板、これの製造方法及びこれを有する液晶表示装置
【課題】表示特性を向上させることができる表示基板、これの製造方法及びこれを有する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は表示領域に形成された第１カラーフィルター層、及び画像が表示されない周辺領域に形成された第２カラーフィルター層を有する下部基板を含む。下部基板は表示領域だけではなく、周辺領域にもカラーフィルター層を形成し表示領域と周辺領域間のセルギャップの差異を最小化することができる。これにより、液晶表示装置は表示領域と周辺領域間の光透過率の差異のため発生される縁の染みを防止することができるので、表示特性を向上させることができる。
【解決手段】液晶表示装置は表示領域に形成された第１カラーフィルター層、及び画像が表示されない周辺領域に形成された第２カラーフィルター層を有する下部基板を含む。下部基板は表示領域だけではなく、周辺領域にもカラーフィルター層を形成し表示領域と周辺領域間のセルギャップの差異を最小化することができる。これにより、液晶表示装置は表示領域と周辺領域間の光透過率の差異のため発生される縁の染みを防止することができるので、表示特性を向上させることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示基板、これの製造方法及びこれを有する液晶表示装置に関し、より詳細には、表示特性を向上させることができる表示基板、これの製造方法及びこれを有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示装置は画像を表示する液晶表示パネル及び液晶表示パネルに光を提供するバックライト組立体を含む。
液晶表示パネルは画素部が形成された下部基板、下部基板と結合する上部基板、及び下部基板と上部基板との間に介在された液晶層を含む。
下部基板は各画素部別に具備され液晶層に信号電圧を印加する画素電極をさらに具備する。上部基板は、液晶層で共通電圧を印加する共通電極及び光を用いて所定の色を発現する色画素を具備する。各色画素は各画素部と対応して位置する。しかし、下部基板と上部基板との結合の際、色画素と画素部間の位置を合わせることが難しい。
【０００３】
このような問題点を解決するために色画素を下部基板に形成する方案が台頭された。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、色画素が下部基板に形成される場合、（ＡＰＡの恐れがある）周辺領域と表示領域間のセルギャップが異なる。これにより、液晶表示パネルは周辺領域と透過領域との間の光透過率が異なり、これにより、縁の染みが発生する。
本発明の目的は表示特性を向上させることができる表示基板を提供することにある。
また、本発明の他の目的は前記した表示基板を製造する方法を提供することにある。
【０００５】
また、本発明の他の目的は前記した表示基板を具備する液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記した本願第１発明の表示基板は、ベース基板、画素部、第１カラーフィルター層及び第２カラーフィルター層で構成される。
ベース基板は画像が表示される表示領域及び表示領域を取り囲む周辺領域で区画される。画素部は、表示領域に対応してベース基板上に形成される。第１カラーフィルター層は表示領域に対応して画素部が形成されたベース基板上に形成される。第２カラーフィルター層は周辺領域に対応してベース基板上に形成される。
【０００７】
第１カラーフィルター層が画素部に形成され、第２カラーフィルターが周辺領域に形成されることで、表示領域ＤＡと周辺領域ＰＡ間の段差が減少し、表示領域と周辺領域と間のセルギャップの差異を最小化することができる。これにより、液晶表示装置は表示領域と周辺領域と間の光透過率の差異のため発生される縁の染みを防止することができ、表示特性を向上させることができる。また、周辺領域に第２カラーフィルター層を形成することで、周辺領域で光が漏洩するのを防ぐことができる。
【０００８】
本願第２発明は、第１発明において、前記ベース基板上の前記周辺領域に前記画素部と同一の層から形成され、前記画素部と電気的に連結され、ゲート信号を出力する第１ゲート駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
本願第３発明は、第２発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記第１ゲート駆動部の上部に形成されることを特徴とする表示基板を提供する。
【０００９】
第２カラーフィルター層は第１ゲート駆動部の上部に具備されるので、第１ゲート駆動部とその他の電極とを互いに絶縁させることができる。
本願第４発明は、第２発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記画素部と前記第１ゲート駆動部が電気的に連結された領域を除いた領域に形成されることを特徴とする表示装置を提供する。
【００１０】
画素部と周辺領域の段差が大きいため、画素部と第１ゲート駆動部とのコンタクトホールを介した電気的接続が困難である。つまり、画素部と第１ゲート駆動部とが電気的に接続される領域に第２カラーフィルター層が形成されている場合には、コンタクトホールを深く形成するのが困難である。そのため、上記のように第２カラーフィルター層を、画素部と第１ゲート駆動部が電気的に連結される領域を除いた領域に形成してコンタクトホールを容易に形成できるようにする。
【００１１】
本願第５発明は、第４発明において、前記ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記第１ゲート駆動部と電気的に連結された第１出力ラインと、前記ベース基板上の前記表示領域に形成し、前記第１出力ラインと電気的に連結されたゲートラインと、をさらに含み、前記画素部と前記第１ゲート駆動部は前記第１出力ラインと前記ゲートラインを通じて電気的に連結されたことを特徴とする表示基板を提供する。
【００１２】
本願第６発明は、第５発明において、前記ゲートラインが形成された前記ベース基板上に形成し、前記ゲートラインを部分的に露出するように一部分が除去され形成された第１ビアホールを有し、上面に前記第１出力ラインが形成された絶縁層と、前記第１出力ラインが形成された前記絶縁層上に形成され、前記第１出力ラインを部分的に露出するように一部分が除去され形成された第２ビアホールを有する保護膜と、前記保護膜上に形成され、前記第１及び第２ビアホールを通じて前記ゲートライン及び前記第１出力ラインと電気的に連結された電極層と、をさらに含むことを特徴とする表示基板を提供する。
【００１３】
本願第７発明は、第２発明において、前記ベース基板上の前記周辺領域に前記第１ゲート駆動部と同一の層から形成され、前記画素部を間に置き前記第１ゲート駆動部と向き合う第２ゲート駆動部をさらに含むことを特徴とする表示基板を提供する。
本願第８発明は、第７発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記画素部と前記第２ゲート駆動部とが互いに電気的に連結された領域を除いた領域に形成されたことを特徴とする表示基板を提供する。記第４発明と同様の作用効果を奏する。
【００１４】
本願第９発明は、第７発明において、前記ベース基板の前記表示領域内に形成されたゲートラインと、前記ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記ゲートラインと互いに異なる層に形成され、前記第２ゲート駆動部及び前記ゲートラインと電気的に連結され前記第２ゲート駆動部から出力されたゲート信号を伝送する第２出力ラインと、をさらに含み、前記画素部と前記第２ゲート駆動部は前記ゲートラインと前記第２出力ラインを通じて電気的に連結されたことを特徴とする表示基板を提供する。
【００１５】
本願第１０発明は、第９発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記第２ゲート駆動部の上部に形成されることを特徴とする表示基板を提供する。
本願第１１発明は、第１発明において、前記ベース基板の前記周辺領域に形成され、前記ベース基板のソース側に具備され静電気が前記表示領域内に流入されることを防止する静電気遮断回路をさらに含むことを特徴とする表示基板を提供する。
【００１６】
本願第１２発明は、第１１発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記静電気遮断回路が具備された領域を除いた領域に形成されたことを特徴とする表示基板を提供する。
例えば、静電気遮断回路はゲート絶縁膜の下部に具備される第１電極及びゲート絶縁の上面に具備される第２電極を含む。第１及び第２電極は例えば、第３電極を用いて電気的に連結される。ここで、第１カラーフィルター層及び前記第２カラーフィルター層は前記第３の電極が第１及び第２電極と安定的にコンタクトされるように前記静電気遮断回路が形成された領域で除去される。
【００１７】
本願第１３発明は、第１発明において、 前記第１カラーフィルター層は、前記表示領域の外側に拡張され一部分が前記周辺領域に形成され、前記周辺領域で前記ベース基板のソース側及び前記ソース側と対向する領域に位置することを特徴とする表示基板を提供する。
第１カラーフィルター層を上記領域に延在することで、上記領域と画素領域との段差をなくすことができる。
【００１８】
前記した本願第１４発明の目的を実現するための表示基板は、基板、薄膜トランジスタ、第１カラーフィルター層、第２カラーフィルター層、有機膜及び画素電極を含む。前記基板は画像が表示される表示領域及び前記表示領域を取り囲む周辺領域で区画される。前記薄膜トランジスタは前記基板上の表示領域に形成される。前記第１カラーフィルター層は前記薄膜トランジスタが具備された前記基板の前記表示領域に形成される。前記第２カラーフィルター層は前記基板の前記周辺領域に形成される。前記有機膜は前記第１及び第２カラーフィルター層が覆われるように前記表示領域及び前記周辺領域に形成される。前記画素電極は前記第１カラーフィルター層に対応して前記有機膜上に形成され前記薄膜トランジスタと電気的に連結される。本願第１発明と同様の作用効果を奏する。
【００１９】
本願第１５発明は、第１４発明において、前記第１カラーフィルター層及び前記第２カラーフィルター層は互いに所定間隔で離隔され形成されたことを特徴とする表示基板を提供する。
互いに所定間隔で離隔されることで、画素部と表示領域との段差をなくすことができる。
【００２０】
本願第１６発明は、第１５発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記棒形状を有することを特徴とする表示基板を提供する。
本願第１７発明は、第１６発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記表示領域を取り囲むことを特徴とする表示基板を提供する。
本願第１８発明は、第１７発明において、前記第２カラーフィルター層は、少なくとも二つ以上具備され、前記第２カラーフィルター層は所定の間隔で離隔されることを特徴とする表示基板を提供する。
【００２１】
本願第１９発明は、第１４発明において、前記第１カラーフィルター層は、前記表示領域の外側に延長され端部が前記周辺領域に形成されたことを特徴とする表示基板を提供する。
本願第２０発明は、第１９発明において、前記周辺領域に形成された前記第１カラーフィルター層の端部は前記表示領域を間に置き前記第２カラーフィルター層と向き合うことを特徴とする表示基板を提供する。
【００２２】
本願第２１発明は、第１４発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記第１カラーフィルター層と一体に形成されることを特徴とする表示基板を提供する。
また、前記した本願第２２発明の表示基板製造方法は、まず、ベース基板上の表示領域に画素部を形成する。画素部が形成された前記ベース基板上に色画素層を蒸着する。以後、色画素層をパターニングして前記表示領域に第１カラーフィルター層を形成すると同時に表示領域を取り囲む周辺領域に対応して第２カラーフィルター層を形成する。本願第１発明と同様の作用効果を奏する。
【００２３】
本願第２３発明は、第２２発明において、前記画素部を形成する段階で、前記ベース基板上の前記周辺領域に前記画素部にゲート信号を提供する第１ゲート駆動部を形成する段階をさらに含むことを特徴とする表示基板製造方法を提供する。
前記した本願第２４発明の液晶表示装置は、下部基板、上部基板及び液晶層で構成される。下部基板は、第１ベース基板、第１カラーフィルター層及び第２カラーフィルター層を具備する。第１ベース基板が画像が表示される表示領域及び表示領域を取り囲む周辺領域で区画される。第１カラーフィルター層は表示領域に対応して第１ベース基板上に形成され、第２カラーフィルター層は周辺領域に対応して第１ベース基板上に形成される。上部基板は第１ベース基板と向き合う第２ベース基板及び第２ベース基板上に形成された共通電極を具備する。液晶層は上部基板と下部基板との間に介在される。本願第１発明と同様の作用効果を奏する。
【００２４】
本願第２５発明は、第２４発明において、前記下部基板は、前記第１ベース基板上の前記表示領域に形成され前記共通電極と電気的に連結された共通電極ラインと、前記第１ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記共通電極ラインと互いに異なる層に具備され、前記共通電極ラインと電気的に連結された第３出力ラインと、をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００２５】
本願第２６発明は、第２５発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記第３出力ラインと前記共通電極ラインとが互いに電気的に連結される領域を除いた領域に具備されることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
本願第２７発明は、第２５発明において、前記下部基板は、前記第１及び第２カラーフィルター層をカバーする有機膜をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、表示特性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施例をより詳細に説明する。
図１は本発明の一実施例による下部基板の一部を示す平面図である。図２は図１の切断面Ｉ-Ｉ’に沿って切断した断面図である。
図１及び図２に示すように、下部基板１１００は第１ベース基板１１１０、ゲートラインＧＬ、データラインＤＬ、薄膜トランジスタ１１２０、画素電極１１３０、第１カラーフィルター層１１５０、第２カラーフィルター層１１５５及び有機膜１１６０を含む。
【００２８】
本実施例において、第１ベース基板１１１０は画像が表示される表示領域ＤＡ及び前記表示領域ＤＡを取り囲み実質的に前記画像が表示されない周辺領域ＰＡで区画される。前記第１ベース基板１１１０はガラスや石英のように光を透過させる透明な材質からなる。
前記ゲートラインＧＬは前記第１ベース基板１１１０上に形成され、前記下部基板１１００は前記ゲートラインＧＬを複数具備する。前記複数のゲートラインは第１方向Ｄ１に延長され形成され、前記第１方向Ｄ１と直交する第２方向Ｄ２に配置される。例えば、前記下部基板１１００の解像度が１０２４×７６８である場合、約７６８個のゲートラインが前記第２方向Ｄ２に配置される。
【００２９】
前記データラインＤＬは前記第１ベース基板１１１０上に形成され、前記下部基板１１００は前記データラインＤＬを複数具備する。前記複数のデータラインは前記第２方向Ｄ２に延長され形成され、前記第１方向Ｄ１に配置される。例えば、前記下部基板１１００の解像度が１０２４×７６８の場合、約１０２４×３個のデータラインが前記第１方向Ｄ１に配置される。
【００３０】
図３は図２に示されたＴＦＴを概念的に示す平面図である。
図２及び図３に示すように、前記ＴＦＴ１１２０は前記第１ベース基板１１１０上に形成され、前記ゲートラインＧＬ及び前記データラインＤＬと連結される。
前記ＴＦＴ１１２０は前記表示領域ＤＡに複数形成される。例えば、前記下部基板１１００の解像度が１０２４×７６８の場合、１０２４×７６８×３個のＴＦＴが形成される。
【００３１】
前記ＴＦＴ１１２０はゲート電極１１２１、アクティブ層１１２２、オーミックコンタクト層１１２３、ソース電極１１２４及びドレイン電極１１２５を具備する。
前記ゲート電極１１２１は前記ゲートラインＧＬから分岐され形成され、ゲート信号を受信する。図２に示されていないが、前記ゲート電極１１２１は前記ゲートラインＧＬと同一層に形成される。
【００３２】
前記ゲート電極１１２１が形成された前記第１ベース基板１１１０上には前記ゲート絶縁膜１１４０が形成される。前記ゲート絶縁膜１１４０は前記ゲート電極１１２１及び前記ゲートラインＧＬを保護する。
前記ゲート絶縁膜１１４０上の前記表示領域ＤＡには前記アクティブ層１１２２及び前記オーミックコンタクト層１１２３が順次に形成される。前記アクティブ層１１２２及び前記オーミックコンタクト層１１２３は前記ゲート電極１１２１と対応して具備される。前記オーミックコンタクト層１１２３は前記アクティブ層１１２２を部分的に露出するように中央部が除去される。前記アクティブ層１１２２の露出された領域はチャンネル領域に提供される。
【００３３】
前記オーミックコンタクト層１１２３の上部には前記ソース電極１１２４及び前記ドレイン電極１１２５が形成される。前記ソース電極１１２４及び前記ドレイン電極１１２５は前記チャンネル領域中心で互いに対向して位置する。前記ソース電極１１２４はデータラインＤＬから分岐されて形成され、データ信号を受信する。
一方、前記画素電極１１３０は前記ＴＦＴ１１２０と電気的に連結され、前記第１カラーフィルター層１１５０の上面に形成される。前記画素電極１１３０はインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯ）またはインジウム亜鉛酸化物（以下、ＩＺＯ）のような透明性導電物質からなる。
【００３４】
前記第１カラーフィルター層１１５０は前記ＴＦＴ１１２０の前記ドレイン電極１１２５と一対一対応する位置に形成される。前記第１カラーフィルター層１１５０は赤色波長の光を選択的に通過させる赤色カラーフィルター、緑色波長の光を選択的に通過させる緑色カラーフィルター及び青色波長の光を選択的に通過させる青色カラーフィルターを含む。
【００３５】
前記下部基板１１００は前記第１カラーフィルター層１１５０が前記表示領域ＤＡのみに形成されるので、前記表示領域ＤＡと前記周辺領域ＰＡ間の境界部で段差が発生する。
前記第２カラーフィルター層１１５５は前記周辺領域ＰＡに形成され、前記表示領域ＤＡと前記周辺領域ＰＡ間の段差を減少させる。前記第２カラーフィルター層１１５５は前記第１カラーフィルター層１１５０と同一の材質から形成される。前記第２カラーフィルター層１１５５は前記第１カラーフィルター層１１５０を形成する工程と同一の工程を通じて形成され、望ましくは、前記第１カラーフィルター層１１５０を形成する過程で共に形成される。
【００３６】
前記第２カラーフィルター層１１５５は前記第１カラーフィルター層１１５０と所定間隔離隔されて配置され、棒形状に形成される。
前記有機膜１１６０は前記第１カラーフィルター層１１５０及び前記第２カラーフィルター層１１５５を覆うように前記第１ベース基板１１１０の全体に形成され、前記下部基板１１００の上面を平坦化させる機能をする。前記第１カラーフィルター層１１５０及び前記有機膜１１６０は前記ドレイン電極１１２５を露出するように部分的に除去され形成されたコンタクトホールＣＨを有する。前記画素電極１１３０は前記コンタクトホールＣＨを通じて前記ドレイン電極１１２５と電気的に連結される。
【００３７】
前記有機膜１１６０は前記ゲートラインＧＬ及び前記データラインＤＬの端部に形成されたパッド部を露出するように一部分が除去され形成されたビアホールＶＨを有する。
図４は図１に示された第２カラーフィルター層の他の一例を示す部分切開平面図である。
図４に示すように、前記第２カラーフィルター層１１７０は前記周辺領域ＰＡに形成され、前記表示領域ＤＡを取り囲む。ここで、前記第２カラーフィルター層１１５５は前記表示領域ＤＡと前記周辺領域ＰＡ間の段差を減少させるか、または段差が発生しないように適合した幅を有することが望ましい。
【００３８】
図５は図１に示された第２カラーフィルター層のさらにまたの一例を示す部分切開平面図である。
図５に示すように、前記第１カラーフィルター層１１８０は前記表示領域ＤＡ及び前記周辺領域ＰＡに形成される。前記第１カラーフィルター層１１８０は前記周辺領域ＰＡ全体に形成されるか、部分的に形成されることもできる。前記第１カラーフィルター層１１８０が前記周辺領域ＰＡ全体に形成される場合、前記下部基板１１００は前記第２カラーフィルター層１１５５（図１参照）を具備しないこともあり得る。前記第１カラーフィルター層１１８０は前記周辺領域ＰＡで前記複数のゲートライン及び前記複数のデータラインのパッド部を露出するように一部分が除去され形成された開口部を有する。
【００３９】
このように、前記第１カラーフィルター層１１８０は前記表示領域ＤＡから延長され前記周辺領域ＰＡにまで形成されるので、前記表示領域ＤＡと前記周辺領域ＰＡ間の段差を防止することができる。
図６は図１に示された第１及び第２カラーフィルター層のさらにまたの一例を示す部分切開平面図である。
【００４０】
図６に示すように、前記第１カラーフィルター層１１９０は前記表示領域ＤＡ全体及び前記周辺領域ＰＡの一部分に形成される。
前記第２カラーフィルター層１１９５は前記周辺領域ＰＡに形成され、棒形状に形成される。前記第２カラーフィルター層１１９５は前記複数のゲートライン及び前記複数のデータラインのパッド部側に位置する。前記第１カラーフィルター層１１９０は前記表示領域ＤＡを間に置き、前記第２カラーフィルター層１１９５と対向する端部が前記周辺領域ＰＡに位置する。
【００４１】
ゲートライン及びデータラインのパッド側だけでなく、第２カラーフィルター層と対向する端部においても第１カラーフィルター層が配置されることで、当該端部においても画素部と周辺領域との段差をなくすことができる。
図７は本発明の一実施例による液晶表示装置の断面図である。
図１及び図７に示すように、液晶表示装置１０００は下部基板１１００、上部基板１２００及び液晶層１３００を含む。
【００４２】
前記下部基板１１００は第１ベース基板１１１０、ＴＦＴ１１２０、画素電極１１３０、ゲート絶縁膜１１４０、第１及び第２カラーフィルター層１１５０、１１５５及び有機膜１１６０を含む。
この実施例において、前記下部基板１１００は図１に示された下部基板と同一の構成を有するので、その重複された説明は省略する。
【００４３】
この実施例において、前記第１カラーフィルター層１１５０は前記第１ベース基板１１１０の表示領域ＤＡに形成される。しかし、前記第１カラーフィルター層１１５０は図５及び図６に示された第１カラーフィルター層１１８０、１１９０のように、前記表示領域ＤＡの外側に拡張され前記周辺領域ＰＡに形成されることもできる。
また、この実施例において、前記第２カラーフィルター層１１５５は前記第１ベース基板１１１０の周辺領域ＰＡに棒形状に形成されるが、図４に示された第２カラーフィルター層１１７０のように、表示領域ＤＡを取り囲むように閉ループ形状に形成されることもできる。
【００４４】
前記上部基板１２００は前記下部基板１１００と向き合うように配置される。前記上部基板１２００は前記画素電極１１３０と向き合う共通電極を含む。
前記下部基板１１００と前記上部基板１２００との間にはシーラント１４００が介在される。前記シーラント１４００は前記下部基板１１００と前記上部基板１２００とを互いに結合させ、前記液晶層１３００を前記下部基板１１００と前記上部基板１２００との間に密封する。
【００４５】
図８は本発明の他の実施例による液晶表示装置を示す平面図であり、図９は図８に示された下部基板を示す平面図である。
図８及び図９に示すように、前記液晶表示装置２０００は下部基板２１００、前記下部基板２１００と対向して結合する上部基板２２００及び前記下部基板２１００に実装されデータ信号を出力する駆動チップ２３００を含む。
【００４６】
前記下部基板２１００は第１ベース基板１１１０及び前記第１ベース基板１１００上に形成された複数の画素部を含む。
前記第１ベース基板１１１０は画像が表示される表示領域ＤＡ及び前記表示領域を取り囲む周辺領域ＰＡで区画される。前記周辺領域ＰＡは実質的に前記画像が表示されない。前記第１ベース基板１１１０は図１に示された第１ベース基板１１１０と同一であるので、重複された説明は省略する。
【００４７】
前記複数の画素部は複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ及び複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍからなる。ここで、ｎとｍは１以上の自然数である。
前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎは第１方向Ｄ１に延長され形成され、前記第１方向Ｄ１と直交する第２方向Ｄ２に配置される。前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎは前記表示領域ＤＡで前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍと絶縁され交差し、ゲート信号を伝送する。
【００４８】
前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍは前記第２方向Ｄ２に延長されて形成され、前記第１方向Ｄ１に配置される。前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍは前記駆動チップ２３００と電気的に連結され前記データ信号を伝送する。
各画素部Ｐｘはゲートライン及びデータラインと連結された薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）１１２０及び前記ＴＦＴ１１２０と電気的に連結された画素電極１１３０を具備する。
【００４９】
前記下部基板２１００は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成され前記ゲート信号を出力する第１ゲート駆動部２１１０をさらに含む。
前記第１ゲート駆動部２１１０は外部から入力される制御信号に応答して前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎにゲート信号を順次に出力する。前記第１ゲート駆動部２１１０は前記ＴＦＴ１１２０を形成する工程と同一の工程を通じて前記ＴＦＴ１１２０を形成する過程で共に形成される。
【００５０】
しかし、前記第１ゲート駆動部２１１０は前記駆動チップ２３００に内蔵されるか、別途のチップで形成され前記ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに実装されることもできる。前記第１ゲート駆動部２１１０が前記駆動チップ２３００に内蔵される場合には前記駆動チップ２３００は前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎに前記ゲート信号を出力する。
【００５１】
図１０は図９に示された第１ゲート駆動部を示すブロック図である。
図１０に示すように、前記第１ゲート駆動部２１１０は回路部ＣＳ及び前記回路部ＣＳに隣接して具備された入力部ＬＳを含む。
前記回路部ＣＳは互いに従属的に連結された第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１からなり、第１ないし第ｎゲート信号ＯＵＴ１〜ＯＵＴｎを順次に出力する。
【００５２】
前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１は第１クロック端子ＣＫ１、第２クロック端子ＣＫ２、第１入力端子ＩＮ１、第２入力端子ＩＮ２、アース電圧端子Ｖ１、リセット端子ＲＥ、キャリー端子ＣＲ及び出力端子ＯＵＴを含む。
前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のうち奇数番目ステージＳＲＣ１、ＳＲＣ３、．．．ＳＲＣｎ＋１の前記第１クロック端子ＣＫ１には第１クロックＣＫＶが提供され、偶数番目ステージＳＲＣ２、．．．ＳＲＣｎの前記第１クロック端子ＣＫ１には前記第１クロックＣＫＶと異なる位相を有する第２クロックＣＫＶＢが提供される。一方、前記奇数番目のステージＳＲＣ１、ＳＲＣ２、．．．ＳＲＣｎ＋１の前記第２クロック端子ＣＫ２には前記第２クロックＣＫＶＢが提供され、前記偶数番目ステージＳＲＣ２、．．．ＳＲＣｎの前記第２クロック端子ＣＫ２には前記第１クロックＣＫＶが提供される。
【００５３】
前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣ＋１それぞれの第１入力端子ＩＮ１には開始信号ＳＴＶまたは直前ステージの前端ゲート信号が入力される。前記一番目の駆動ステージＳＲＣ１の第１入力端子ＩＮ１には前記回路部ＣＳの動作が開始される前記開始信号ＳＴＶが提供される。
一方、前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１それぞれの第２入力端子ＩＮ１には次のステージの後端キャリー信号が入力される。前記第ｎ＋１ステージＳＲＣｎ＋１は前記ｎ番目ステージＳＲＣｎの第２入力端子ＩＮ２にキャリー信号を提供するためにダミーで備えられたステージである。前記ｎ＋１ステージＳＲＣｎ＋１の第２入力端子ＩＮ２には次のステージの後端キャリー信号の代わりに前記開始信号ＳＴＶが提供される。
【００５４】
前記第１ないし第ｎステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のオフ電圧端子Ｖ１には前記オフ電圧Ｖｏｆｆが提供され、前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のリセット端子ＲＥには前記ｎ＋１番目のステージＳＲＣｎ＋１から出力された第ｎ＋１ゲート信号が提供される。
前記奇数番目ステージＳＲＣ１、ＳＲＣ３、．．．、ＳＲＣｎ＋１のキャリー端子ＣＲ及び出力端子ＯＵＴでは前記第１クロックＣＫＶが出力され、前記偶数番目のステージＳＲＣ２、．．．、ＳＲＣｎのキャリー端子ＣＲ及び出力端子ＯＵＴでは前記第２クロックＣＫＶＢが出力される。前記第２ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ２〜ＳＲＣｎ＋１のキャリー端子ＣＲから出力されたキャリー信号は直前ステージの第２入力端子ＩＮ２に提供される。また、前記第１ないし第ｎステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎの出力端子ＯＵＴから出力された第１ないし第ｎゲート信号ＯＵＴ１〜ＯＵＴｎは次のステージの第１入力端子ＩＮ１に提供される。
【００５５】
一方、前記入力部ＬＳは前記第１ないし第５信号配線ＳＬ１、ＳＬ２、ＳＬ３、ＳＬ４、ＳＬ５を含む。
前記第１信号配線ＳＬ１は外部から前記オフ電圧Ｖｏｆｆの入力を受ける。前記第２信号配線ＳＬ２は外部から前記第１クロックＣＫＶの入力を受け、前記第３クロック配線ＳＬ３は外部から前記第２クロックＣＫＶＢの入力を受ける。前記第４信号配線ＳＬ４は外部から提供された前記開始信号ＳＴＶを前記第１ステージＳＲＣ１の第１入力端子ＩＮ１及び前記第ｎ＋１ステージＳＲＣｎ＋１の第２入力端子ＩＮ２に提供する。前記第５信号配線ＳＬ５は前記ｎ＋１ステージＳＲＣｎ＋１から出力された第ｎ＋１ゲート信号を前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のリセット端子ＲＥに提供する。
【００５６】
本発明の一実施例として、前記第５信号配線ＳＬ５、第４信号配線ＳＬ４、第３信号配線ＳＬ３、第２信号配線ＳＬ２及び第１信号配線ＳＬ１は順次に前記回路部ＣＳに隣接して配置される。従って、前記第１信号配線ＳＬ１は他の配線より前記第１ベース基板１１１０（図２参照）の最外郭に配置される。
前記入力部ＬＳは第１、第２及び第３連結配線ＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３をさらに含む。
【００５７】
前記第１連結配線ＣＬ１は前記第１信号配線ＳＬ１を前記回路部ＣＳの第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のオフ電圧端子Ｖ１に連結する。前記第２連結配線ＣＬ２は前記第２信号配線ＳＬ２を前記回路部ＣＳの奇数番目のステージＳＲＣ１、ＳＲＣ３、．．．、ＳＲＣｎ＋１の第１クロック端子ＣＫ１及び偶数番目のステージＳＲＣ２、．．．、ＳＲＣｎの第２クロック端子ＣＫ２に連結させる。前記第３連結配線ＣＬ３は前記第３信号配線ＳＬ３を前記回路部ＣＳの偶数番目のステージＳＲＣ２、．．．、ＳＲＣｎの第１クロック端子ＣＫ１及び奇数番目のステージＳＲＣ１、ＳＲＣ３、．．．、ＳＲＣｎ＋１の第２クロック端子ＣＫ２に連結させる。
【００５８】
また、図９に示すように、前記下部基板２１００は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成された第２ゲート駆動部２１２０をさらに具備することができる。前記第２ゲート駆動部２１２０は前記第１ゲート駆動部２１１０と対向して具備される。即ち、前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０は前記表示領域ＤＡの両側にそれぞれ具備される。
【００５９】
前記第２ゲート駆動部２１２０は前記表示領域ＤＡを中心に前記第１ゲート駆動部２１１０が具備された領域とそれとは反対の領域間のセルギャップを同一に合わせるために形成される。それだけではなく、前記第２ゲート駆動部２１２０は前記第１ゲート駆動部位２１１０の機能を分担するために形成されることができる。
前記第２ゲート駆動部２１２０は前記第１ゲート駆動部２１１０と同一の機能を遂行する場合には、前記第１ゲート駆動部２１１０と同様に外部から入力される制御信号に応答してゲート信号を出力し、前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎに出力されたゲート信号を提供する。
【００６０】
これとは異なり、前記第２ゲート駆動部２１２０が単純に前記周辺領域ＰＡのセルギャップを均一にするために形成される場合にはゲート信号を出力しない。
前記第２ゲート駆動部２１２０は前記第１ゲート駆動部２１１０と同様に、前記ＴＦＴ１１２０を形成する工程と同一の工程で形成され、前記ＴＦＴ１１２０が形成されるとき共に形成される。
【００６１】
また、図８に示すように、前記下部基板２１００は前記第１ベース基板１１１０の前記表示領域ＤＡに形成された第１カラーフィルター層２１３０及び前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成された第２カラーフィルター層２１４０をさらに具備する。
前記第１カラーフィルター層２１３０は前記表示領域ＤＡに対応して具備され、外部から提供される光を用いて所定の色を発現するＲ、Ｇ、Ｂ色画素からなる。
【００６２】
前記第２カラーフィルター層２１４０は前記周辺領域ＰＡに対応して具備され、前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０の上部に形成される。前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第１カラーフィルター層２１３０と同様に前記Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素からなるか、前記Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素のうちいずれか一つの色画素のみからなることができる。
【００６３】
前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第１カラーフィルター層２１３０を形成する工程と同一の工程を通じて形成され、前記第１カラーフィルター層２１３０を形成する過程で共に形成される。
前記第２カラーフィルター層２１３０は前記表示領域ＰＡを取り囲むように前記周辺領域ＰＡ全体に形成されることができ、前記表示領域ＤＡの両側、即ち、前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０が形成された領域のみに位置することもできる。
【００６４】
このように、前記第２カラーフィルター層２１４０が前記表示領域ＤＡの両側のみに具備される場合、前記第１カラーフィルター層２１３０が前記周辺領域ＰＡ側に拡張され前記第２カラーフィルター層２１４０の機能を代わりにすることもできる。
即ち、前記第１カラーフィルター層２１３０は、前記表示領域ＤＡから前記駆動チップ２３００が位置する前記第１ベース基板１１１０のソース側及び前記ソース側と対向する端部側に拡張される。従って、前記第１カラーフィルター層２１３０は前記表示領域ＤＡの他にも前記周辺領域ＰＡを部分的にカバーする。
【００６５】
図１１は図８の切断線ＩＩ-ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
図８及び図１１に示すように、前記第１ベース基板１１１０上の前記表示領域ＤＡには前記ＴＦＴ１１２０が具備される。前記ＴＦＴ１１２０は図２に示されたＴＦＴ１１２０と同一の構成を有するので、その重複された説明は省略する。
前記下部基板２１００は前記ＴＦＴ１１２０及び前記第１ゲート駆動部２１１０を保護する保護膜２１５０をさらに具備する。前記保護膜２１５０は前記ＴＦＴ１１２０及び前記第１ゲート駆動部２１１０が形成された前記第１ベース基板１１１０上に形成される。
【００６６】
前記保護膜２１５０上には第１及び第２カラーフィルター層２１３０、２１４０が形成される。前記第１カラーフィルター層２１３０は前記表示領域ＤＡに形成される。
前記第２カラーフィルター層２１４０は前記周辺領域ＰＡに形成され、前記第１カラーフィルター層２１３０と同一の材質からなる。前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０の上部に位置して前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０及び前記上部基板２２００を互いに絶縁させる。これにより、前記液晶表示装置２０００は前記下部基板２１００及び上部基板２２００が前記周辺領域ＰＡで互いにショートされることを防止することができる。
【００６７】
前記第１及び第２カラーフィルター層２１３０、２１４０は同一の厚さに形成される。従って、前記液晶表示装置２０００は前記表示領域ＤＡのセルギャップＧ１と前記周辺領域ＰＡのセルギャップＧ２間の差異を減少することができる。また、前記下部基板２１００は前記周辺領域ＰＡの厚さを厚く形成することができるので、前記液晶表示装置２０００は前記周辺領域ＰＡで光が漏洩されることを防止することができる。
【００６８】
これにより、前記液晶表示装置２０００は前記周辺領域ＰＡで染みが発生することを防止することができるので、表示特性を向上させることができる。
一方、前記保護膜２１５０及び前記第１カラーフィルター層２１３０は前記ＴＦＴ１１２０のドレイン電極１１２５を部分的に露出するように一部分が除去され形成されたコンタクトホールＣＨを有する。
【００６９】
前記画素電極１１３０は前記第１カラーフィルター層２１３０の上面に形成される。前記画素電極１１３０はインジウム錫酸化物ＩＴＯ、またはインジウム亜鉛酸化物ＩＺＯのような透明な導電物質からなる。前記画素電極１１３０は前記コンタクトホールＣＨを通じて前記ＴＦＴ１１２０と電気的に連結される。
前記上部基板２２２０は前記下部基板２１００と対向して具備される。前記上部基板２２００は第２ベース基板２２１０、ブラックマトリックス２２２０及び共通電極２２３０を含む。
【００７０】
前記第２ベース基板２２１０は光を透過させる透明な材質からなり、前記第１ベース基板１１１０と対向して位置する。前記ブラックマトリックス２２２０は前記第２ベース基板２２１０上に形成され光を遮断する。前記ブラックマトリックス２２２０は前記ＴＦＴ２１２０及び前記周辺領域ＰＡと対応して位置する。前記共通電極２２３０は前記ブラックマトリックス２２２０が形成された前記第２ベース基板２２１０上に形成され共通電圧を提供する。前記共通電極２２３０は前記ＩＴＯやＩＺＯのような透明な導電性物質からなる。前記下部基板２１００と前記上部基板２２００との間には液晶層１３００が介在される。前記液晶層１３００は前記画素電極１１３０と前記共通電極２２３０との間に形成された電解によって光の透過率を調節する。これにより、前記液晶表示装置２０００は前記画像を表示する。
【００７１】
図１２ないし図１４は図１１に示された下部基板の製造工程過程を示す断面図である。
図１２に示すように、前記第１ベース基板１１１０の前記表示領域ＤＡには前記ＴＦＴ１１２０が形成される。前記ＴＦＴ１１２０を形成する過程で前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡには前記第１ゲート駆動部２１１０が形成される。
図１２ないし図１４には図示していないが、前記第１ゲート駆動部２１１０と共に前記第２ゲート駆動部２１２０（図８参照）が形成され、前記ＴＦＴ１１２０を形成する過程で前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ（図２参照）及び前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍ（図９参照）が共に形成される。
【００７２】
以後、前記第１ベース基板１１１０の上部に前記ＴＦＴ１１２０及び前記第１ゲート駆動部２１１０をカバーする前記保護膜２１５０を形成する。
図１３に示すように、前記保護膜２１５０上に所定の色を有する色画素層ＣＰを形成する。前記色画素層ＣＰをパターニングして前記第１カラーフィルター層２１３０をなす前記Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素のうちいずれか一つの色画素を形成し、同時に前記第２カラーフィルター層２１４０を形成する。
【００７３】
ここで、前記色画素層ＣＰは前記Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素のうちいずれか一つの色画素からなる。従って、前記第１カラーフィルター層２１３０は各Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素と対応する三つの色画素層を各色画素層別に蒸着しパターニングする工程を反復して形成する。
図１４に示すように、前記第１カラーフィルター層２１３０及び前記保護膜２１５０は一部分が除去され前記コンタクトホールＣＨを形成する。図１１に示されたように、前記第１カラーフィルター層２１３０の上部に前記画素電極１１３０を形成して前記下部基板２１００を完成する。
【００７４】
図１５は図９‘Ａ’部分を拡大して示す平面図である。
図９及び図１５に示すように、前記下部基板２１００は前記第１ゲート駆動部２１１０と電気的に連結された第１出力部をさらに具備する。前記第１出力部は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成され、前記第１ゲート駆動部２１１０から出力されたゲート信号を伝送する。
【００７５】
前記第１出力部は複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐからなり、前記複数の出力ライン ＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐは前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと電気的に連結される。ここで、ｐは１以上の自然数である。
この実施例において、前記複数の出力ライン ＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐの構造は互いに同一で、前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐと前記複数のゲートライン ＧＬ１〜Ｇｌｎと間の連結関係が同一である。従って、以下、第１出力ラインＯＬ１＿１を一例にして前記複数の出力ライン ＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐの構造を説明し、前記第１出力ラインＯＬ１＿１と第１ゲートラインＧＬ１と間の連結関係を一例にして前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐと間の連結関係を説明する。
【００７６】
図１６は図１５の切断線ＩＩＩ-ＩＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
図１５及び図１６に示すように、前記第１出力ラインＯＬ１＿１はゲート絶縁膜１１４０の上部に形成され、前記保護膜２１５０は前記第１出力ラインＯＬ１＿１の上部に具備され前記第１出力ラインＯＬ１＿１をカバーする。前記第１出力ラインＯＬ１＿１には前記第１ゲートラインＧＬ１と隣接した端部に出力パッドＯＬ１＿ＯＰが形成される。
【００７７】
前記第１ゲートラインＧＬ１には前記第１出力ラインＯＬ１＿１と隣接した端部に入力パッドＧＬ１＿ＩＰが形成され、前記入力パッドＧＬ１＿ＩＰ側端部が前記周辺領域ＰＡに具備される。前記第１ゲートラインＧＬ１は前記ゲート絶縁膜１１４０の下に具備される。従って、前記第１出力ラインＯＬ１＿１及び前記第１ゲートラインＧＬ１は互いに異なる層に具備される。
【００７８】
前記ゲート絶縁膜１１４０及び前記保護膜２１５０は一部分が除去され形成された第１ビアホールＶＨ１を具備する。前記第１ビアホールＶＨ１は前記第１ゲートラインＧＬ１の前記入力パッドＧＬ１＿ＩＰを部分的に露出する。
前記保護膜２１５０は一部分が除去され形成された第２ビアホールＶＨ２をさらに具備する。前記第２ビアホールＶＨ２は前記第１出力ラインＯＬ１＿１の前記出力パッドＯＬ１＿ＯＰを部分的に露出する。
【００７９】
前記下部基板２１００は前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐを電気的に連結する第１電極層２１７０をさらに具備する。
前記第１電極層２１７０は前記保護膜２１５０上に形成され、透明な導電性物質からなる。前記第１電極層２１７０は前記画素電極１１３０（図９参照）を形成する工程と同一の工程で形成され、前記画素電極１１３０を形成する過程で共に形成する。
【００８０】
前記第１電極層２１７０は前記第１ビアホールＶＨ１を通じて前記第１ゲートラインＧＬ１と電気的に連結され、前記第２ビアホールＶＨ２を通じて前記第１出力ラインＯＬ１＿１と電気的に連結される。これにより、前記第１出力ラインＯＬ１は前記第１ゲートラインＧＬ１と電気的に連結され、前記第１ゲートラインＧＬ１は前記第１出力ラインＯＬ１＿１からゲート信号を受信する。
【００８１】
前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第１電極層２１７０と対応する領域で除去される。これは、前記第２カラーフィルター層２１４０が前記出力パッドＯＬ１＿ＯＰ及び前記入力パッドＧＬ１＿ＩＰの上部に具備され、前記第１及び第２ビアホールＶＨ１、ＶＨ２と前記第１及び第２ビアホールＶＨ１、ＶＨ２を成す周辺部と間の段差が大きいためである。
【００８２】
このように段差が大きいと、前記第１電極層２１７０と前記出力パッドＯＬ１＿ＯＰ及び前記入力パッドＧＬ１＿ＩＰ間のコンタクトがうまく行われないことがあり得る。そのため、前記第１ゲートラインＧＬ１と前記第１出力ラインＯＬ１＿１間の電気的連結が切れるか、不完全に連結され得る。これを防止するために、前記第２カラーフィルター層２１４０は前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ及び前記複数の出力ライン ＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐが電気的に連結される領域で除去される。
【００８３】
また、図８及び図９に示すように、前記下部基板２１００は前記第２ゲート駆動部２１２０と電気的に連結された第２出力部をさらに具備する。前記第２出力部は前記第１出力部と同様に、前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成され、前記第２ゲート駆動部２１２０から出力されたゲート信号を伝送する。
前記第２出力部は複数のゲート出力ラインＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑからなり、前記複数のゲート出力ライン ＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑは前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと電気的に連結される。ここで、ｑは１以上の自然数である。
【００８４】
この実施例において、前記複数のゲート出力ライン ＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑの構造は前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐと同一である。また、前記複数のゲート出力ラインＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑと前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと間の連結関係は前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐと前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと間の連結関係と互いに同一である。従って、前記複数のゲート出力ラインＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑに関する重複される説明は省略する。
【００８５】
図１７は図８の切断線ＩＶ-ＩＶ’に沿って切断した断面図である。
図８及び図９に示すように、前記下部基板２１００は前記第１ベース基板１１１０上に形成され前記共通電圧を印加する複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎ及び前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎに前記共通電圧を提供する第３出力部ＯＬ３をさらに含む。
前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは前記第１方向Ｄ１に延長され形成され、前記第２方向Ｄ２に配置される。前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは前記表示領域ＤＡ及び前記周辺領域ＰＡにかけて位置する。前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは一端部が前記第３出力部ＯＬ３と連結され前記共通電圧を受信する。
【００８６】
図示していないが、前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは前記上部基板２２００に具備された前記共通電極２２３０（図１７参照）と電気的に連結される。これにより、前記共通電極２２３０は前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎから前記共通電圧を受信する。
前記第３出力部ＯＬ３は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに位置し、前記表示領域ＤＡを部分的に取り囲む。前記第３出力部ＯＬ３は前記駆動チップ２３００と連結され前記駆動チップ２３００から前記共通電圧を受信する。
【００８７】
前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは同一の構造を有し、前記第３出力部ＯＬ３との連結関係も同一である。従って、前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎと前記第３出力部ＯＬ３と間の連結関係に対する説明において、第１共通電極ラインＣＬ１を一例にして前記第３出力部ＯＬ３との連結関係を説明する。
図８及び図１７に示すように、前記第１共通電極ラインＣＬ１は前記第１ベース基板１１１０上に形成され、前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと同一層に具備される。前記第１共通電極ラインＣＬ１は一端部が前記周辺領域ＰＡに位置する。
【００８８】
前記ゲート絶縁膜１１４０は前記第１共通電極ラインＣＬ１が形成された第１ベース基板１１１０上に形成される。
前記第３出力部ＯＬ３は前記ゲート絶縁１１４０の上面に形成され、前記保護膜２１５０は前記第３出力部ＯＬ３が形成された前記ゲート絶縁膜１１４０上に形成される。このように、前記第３出力部ＯＬ３及び前記第１共通電極ラインＣＬ１は互いに異なる層に具備される。
【００８９】
前記第３出力部ＯＬ３と前記第１共通電極ラインＣＬ１とを電気的に連結するために第３及び第４ビアホールＶＨ３、ＶＨ４を具備する。
前記第３、及び第４ビアホールＶＨ３、ＶＨ４は前記周辺領域ＰＡに形成され、互いに隣接して位置する。前記第３ビアホールＶＨ３は前記ゲート絶縁膜１１４０及び前記保護膜２１５０を部分的に除去して形成され、前記第１共通電極ラインＤＬ１の一端部を露出する。前記第４ビアホールＶＨ４は前記保護膜２１５０を部分的に除去して形成され、前記第３出力部ＯＬ３を部分的に露出する。
【００９０】
前記下部基板２１００は前記第３出力部ＯＬ３と前記第１共通電極ラインＣＬ１を電気的に連結する第２電極層２１８０をさらに具備する。
前記第２電極層２１８０は前記保護膜２１５０の上面に形成され、前記周辺領域ＰＡに位置する。前記第２電極層２１８０は前記第１電極層２１７０（図１５参照）と同一の材質から形成され、前記第１電極２１７０を形成する際、同時に形成される。前記第２電極層２１８０は前記第３ビアホールＶＨ３を通じて前記第１共通電極ラインＣＬ１と電気的に連結され、前記第４ビアホールＶＨ４を通じて前記第３出力部ＯＬ３と電気的に連結される。前記第２電極層２１８０は前記第３ビアホールＶＨ３が形成された領域に延長され前記第４ビアホールＶＨ４が形成された領域にかけて形成される。これにより、前記第１共通電極ラインＣＬ１及び前記第３出力部ＯＬ３は前記第２電極層２１８０を通じて電気的に連結される。
【００９１】
前記第２カラーフィルター層２１４０は第１共通電極ラインＣＬ１及び前記第３出力部ＯＬ３と前記電極層ＯＬ３が安定的にコンタクトされるように、前記第１共通電極ラインＣＬ１と前記第３出力部ＯＬ３とが電気的に連結される領域、即ち、前記第２電極層２１８０と対応する領域には形成されない。
図８及び図９に示すように、前記下部基板２１００は前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍを通じて前記表示領域ＤＡに静電気が流入されることを防止する静電気遮断回路２１６０をさらに具備する。
【００９２】
前記静電気遮断回路２１６０は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成される。前記静電気遮断回路２１６０は前記駆動チップ３００と表示領域ＰＡとの間に位置する。
図１８は図８の切断線Ｖ-Ｖ’線に沿って切断した断面図である。
図８及び図１８に示すように、前記液晶表示装置２０００は前記下部基板２１００と前記上部基板２２００とを結合して前記液晶層１３００を封入するシーラント１４００をさらに具備する。
【００９３】
前記静電気遮断回路２１６０は前記液晶層１３００が位置する領域に形成される。前記周辺領域ＰＡに延長された前記第１カラーフィルター層２１３０及び前記第２カラーフィルター層２１４０は前記静電気遮断回路２１６０の上部に形成されない。
図面には図示されていないが、前記静電気遮断回路２１６０は前記ゲート絶縁膜１１４０の下部に具備される第１電極及び前記ゲート絶縁１１４０の上面に具備される第２電極を含む。前記第１及び第２電極は前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ及び前記第１出力部を連結する方法と同様に、第３電極を用いて電気的に連結される。前記第１カラーフィルター層２１３０及び前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第３の電極が前記第１及び第２電極と安定的にコンタクトされるように前記静電気遮断回路２１６０が形成された領域で除去される。
【００９４】
前記液晶表示装置２０００は前記駆動チップ２３００を前記下部基板２１００に付着する異方性導電フィルム（以下、ＡＣＦ）２４００をさらに含む。前記ＡＣＦ２４００は前記下部基板２１００と前記駆動チップ２３００との間に介在され前記下部基板２１００及び前記駆動チップ２３００を電気的に連結する。
前述した本発明によると、液晶表示装置は表示領域に形成された第１カラーフィルター層及び画像が表示されない周辺領域に形成された第２カラーフィルター層を有する下部基板を含む。下部基板は表示領域だけではなく、周辺領域にもカラーフィルター層を形成して表示領域と周辺領域と間の段差を最小化することができるので、表示領域と周辺領域と間のセルギャップの差異を最小化することができる。これにより、液晶表示装置は表示領域と周辺領域と間の光透過率の差異のため発生される縁の染みを防止することができ、表示特性を向上させることができる。
【００９５】
また、第２カラーフィルター層を、第１カラーフィルター層と同じカラーフィルター層により形成することにより、段差をなくす構造を、第１カラーフィルターと同じ製造工程で形成できるなど、全体の製造工程を容易にしつつ表示部と周辺領域との段差をなくすことができる。
また、第２カラーフィルター層は第１及び第２ゲート駆動部の上部に具備されるので、第１及び第２ゲート駆動部と共通電極を互いに絶縁させる。これにより、液晶表示装置は周辺領域で上部基板と下部基板とが互いにショートされることを防止することができる。
【００９６】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の一実施例による下部基板の一部を示す平面図である。
【図２】図１の切断面Ｉ−Ｉ’線による断面図である。
【図３】図２に示された薄膜トランジスタを概念的に示す平面図である。
【図４】図１に示された第２カラーフィルターの他の一例を示す部分切開平面図である。
【図５】図１に示されたダミーフィルターのさらにまたの一例を示す部分切開平面図である。
【図６】図１に示されたダミーフィルターのさらにまたの一例を示す部分切開平面図である。
【図７】本発明の一実施例による液晶表示装置の断面図である。
【図８】本発明の他の実施例による液晶表示装置を示す平面図である。
【図９】図８に示された下部基板を示す平面図である。
【図１０】図９に示された第１ゲート駆動部を示すブロック図である。
【図１１】図８の切断線ＩＩ-ＩＩ’による平面図である。
【図１２】図１１に示された下部基板の製造過程を示す断面図である。
【図１３】図１１に示された下部基板の製造過程を示す断面図である。
【図１４】図１１に示された下部基板の製造過程を示す断面図である。
【図１５】図９の‘Ａ’部分を拡大して示す平面図である。
【図１６】図１５の切断線ＩＩＩ-ＩＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【図１７】図８の切断線ＩＶ-ＩＶ’線に沿って切断した断面図である。
【図１８】図８の切断線Ｖ-Ｖ’線に沿って切断した断面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１００ 下部基板
２００ 上部基板
３００ 駆動チップ
４００ 液晶層
５００ 液晶表示装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示基板、これの製造方法及びこれを有する液晶表示装置に関し、より詳細には、表示特性を向上させることができる表示基板、これの製造方法及びこれを有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示装置は画像を表示する液晶表示パネル及び液晶表示パネルに光を提供するバックライト組立体を含む。
液晶表示パネルは画素部が形成された下部基板、下部基板と結合する上部基板、及び下部基板と上部基板との間に介在された液晶層を含む。
下部基板は各画素部別に具備され液晶層に信号電圧を印加する画素電極をさらに具備する。上部基板は、液晶層で共通電圧を印加する共通電極及び光を用いて所定の色を発現する色画素を具備する。各色画素は各画素部と対応して位置する。しかし、下部基板と上部基板との結合の際、色画素と画素部間の位置を合わせることが難しい。
【０００３】
このような問題点を解決するために色画素を下部基板に形成する方案が台頭された。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、色画素が下部基板に形成される場合、（ＡＰＡの恐れがある）周辺領域と表示領域間のセルギャップが異なる。これにより、液晶表示パネルは周辺領域と透過領域との間の光透過率が異なり、これにより、縁の染みが発生する。
本発明の目的は表示特性を向上させることができる表示基板を提供することにある。
また、本発明の他の目的は前記した表示基板を製造する方法を提供することにある。
【０００５】
また、本発明の他の目的は前記した表示基板を具備する液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記した本願第１発明の表示基板は、ベース基板、画素部、第１カラーフィルター層及び第２カラーフィルター層で構成される。
ベース基板は画像が表示される表示領域及び表示領域を取り囲む周辺領域で区画される。画素部は、表示領域に対応してベース基板上に形成される。第１カラーフィルター層は表示領域に対応して画素部が形成されたベース基板上に形成される。第２カラーフィルター層は周辺領域に対応してベース基板上に形成される。
【０００７】
第１カラーフィルター層が画素部に形成され、第２カラーフィルターが周辺領域に形成されることで、表示領域ＤＡと周辺領域ＰＡ間の段差が減少し、表示領域と周辺領域と間のセルギャップの差異を最小化することができる。これにより、液晶表示装置は表示領域と周辺領域と間の光透過率の差異のため発生される縁の染みを防止することができ、表示特性を向上させることができる。また、周辺領域に第２カラーフィルター層を形成することで、周辺領域で光が漏洩するのを防ぐことができる。
【０００８】
本願第２発明は、第１発明において、前記ベース基板上の前記周辺領域に前記画素部と同一の層から形成され、前記画素部と電気的に連結され、ゲート信号を出力する第１ゲート駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
本願第３発明は、第２発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記第１ゲート駆動部の上部に形成されることを特徴とする表示基板を提供する。
【０００９】
第２カラーフィルター層は第１ゲート駆動部の上部に具備されるので、第１ゲート駆動部とその他の電極とを互いに絶縁させることができる。
本願第４発明は、第２発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記画素部と前記第１ゲート駆動部が電気的に連結された領域を除いた領域に形成されることを特徴とする表示装置を提供する。
【００１０】
画素部と周辺領域の段差が大きいため、画素部と第１ゲート駆動部とのコンタクトホールを介した電気的接続が困難である。つまり、画素部と第１ゲート駆動部とが電気的に接続される領域に第２カラーフィルター層が形成されている場合には、コンタクトホールを深く形成するのが困難である。そのため、上記のように第２カラーフィルター層を、画素部と第１ゲート駆動部が電気的に連結される領域を除いた領域に形成してコンタクトホールを容易に形成できるようにする。
【００１１】
本願第５発明は、第４発明において、前記ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記第１ゲート駆動部と電気的に連結された第１出力ラインと、前記ベース基板上の前記表示領域に形成し、前記第１出力ラインと電気的に連結されたゲートラインと、をさらに含み、前記画素部と前記第１ゲート駆動部は前記第１出力ラインと前記ゲートラインを通じて電気的に連結されたことを特徴とする表示基板を提供する。
【００１２】
本願第６発明は、第５発明において、前記ゲートラインが形成された前記ベース基板上に形成し、前記ゲートラインを部分的に露出するように一部分が除去され形成された第１ビアホールを有し、上面に前記第１出力ラインが形成された絶縁層と、前記第１出力ラインが形成された前記絶縁層上に形成され、前記第１出力ラインを部分的に露出するように一部分が除去され形成された第２ビアホールを有する保護膜と、前記保護膜上に形成され、前記第１及び第２ビアホールを通じて前記ゲートライン及び前記第１出力ラインと電気的に連結された電極層と、をさらに含むことを特徴とする表示基板を提供する。
【００１３】
本願第７発明は、第２発明において、前記ベース基板上の前記周辺領域に前記第１ゲート駆動部と同一の層から形成され、前記画素部を間に置き前記第１ゲート駆動部と向き合う第２ゲート駆動部をさらに含むことを特徴とする表示基板を提供する。
本願第８発明は、第７発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記画素部と前記第２ゲート駆動部とが互いに電気的に連結された領域を除いた領域に形成されたことを特徴とする表示基板を提供する。記第４発明と同様の作用効果を奏する。
【００１４】
本願第９発明は、第７発明において、前記ベース基板の前記表示領域内に形成されたゲートラインと、前記ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記ゲートラインと互いに異なる層に形成され、前記第２ゲート駆動部及び前記ゲートラインと電気的に連結され前記第２ゲート駆動部から出力されたゲート信号を伝送する第２出力ラインと、をさらに含み、前記画素部と前記第２ゲート駆動部は前記ゲートラインと前記第２出力ラインを通じて電気的に連結されたことを特徴とする表示基板を提供する。
【００１５】
本願第１０発明は、第９発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記第２ゲート駆動部の上部に形成されることを特徴とする表示基板を提供する。
本願第１１発明は、第１発明において、前記ベース基板の前記周辺領域に形成され、前記ベース基板のソース側に具備され静電気が前記表示領域内に流入されることを防止する静電気遮断回路をさらに含むことを特徴とする表示基板を提供する。
【００１６】
本願第１２発明は、第１１発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記静電気遮断回路が具備された領域を除いた領域に形成されたことを特徴とする表示基板を提供する。
例えば、静電気遮断回路はゲート絶縁膜の下部に具備される第１電極及びゲート絶縁の上面に具備される第２電極を含む。第１及び第２電極は例えば、第３電極を用いて電気的に連結される。ここで、第１カラーフィルター層及び前記第２カラーフィルター層は前記第３の電極が第１及び第２電極と安定的にコンタクトされるように前記静電気遮断回路が形成された領域で除去される。
【００１７】
本願第１３発明は、第１発明において、 前記第１カラーフィルター層は、前記表示領域の外側に拡張され一部分が前記周辺領域に形成され、前記周辺領域で前記ベース基板のソース側及び前記ソース側と対向する領域に位置することを特徴とする表示基板を提供する。
第１カラーフィルター層を上記領域に延在することで、上記領域と画素領域との段差をなくすことができる。
【００１８】
前記した本願第１４発明の目的を実現するための表示基板は、基板、薄膜トランジスタ、第１カラーフィルター層、第２カラーフィルター層、有機膜及び画素電極を含む。前記基板は画像が表示される表示領域及び前記表示領域を取り囲む周辺領域で区画される。前記薄膜トランジスタは前記基板上の表示領域に形成される。前記第１カラーフィルター層は前記薄膜トランジスタが具備された前記基板の前記表示領域に形成される。前記第２カラーフィルター層は前記基板の前記周辺領域に形成される。前記有機膜は前記第１及び第２カラーフィルター層が覆われるように前記表示領域及び前記周辺領域に形成される。前記画素電極は前記第１カラーフィルター層に対応して前記有機膜上に形成され前記薄膜トランジスタと電気的に連結される。本願第１発明と同様の作用効果を奏する。
【００１９】
本願第１５発明は、第１４発明において、前記第１カラーフィルター層及び前記第２カラーフィルター層は互いに所定間隔で離隔され形成されたことを特徴とする表示基板を提供する。
互いに所定間隔で離隔されることで、画素部と表示領域との段差をなくすことができる。
【００２０】
本願第１６発明は、第１５発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記棒形状を有することを特徴とする表示基板を提供する。
本願第１７発明は、第１６発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記表示領域を取り囲むことを特徴とする表示基板を提供する。
本願第１８発明は、第１７発明において、前記第２カラーフィルター層は、少なくとも二つ以上具備され、前記第２カラーフィルター層は所定の間隔で離隔されることを特徴とする表示基板を提供する。
【００２１】
本願第１９発明は、第１４発明において、前記第１カラーフィルター層は、前記表示領域の外側に延長され端部が前記周辺領域に形成されたことを特徴とする表示基板を提供する。
本願第２０発明は、第１９発明において、前記周辺領域に形成された前記第１カラーフィルター層の端部は前記表示領域を間に置き前記第２カラーフィルター層と向き合うことを特徴とする表示基板を提供する。
【００２２】
本願第２１発明は、第１４発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記第１カラーフィルター層と一体に形成されることを特徴とする表示基板を提供する。
また、前記した本願第２２発明の表示基板製造方法は、まず、ベース基板上の表示領域に画素部を形成する。画素部が形成された前記ベース基板上に色画素層を蒸着する。以後、色画素層をパターニングして前記表示領域に第１カラーフィルター層を形成すると同時に表示領域を取り囲む周辺領域に対応して第２カラーフィルター層を形成する。本願第１発明と同様の作用効果を奏する。
【００２３】
本願第２３発明は、第２２発明において、前記画素部を形成する段階で、前記ベース基板上の前記周辺領域に前記画素部にゲート信号を提供する第１ゲート駆動部を形成する段階をさらに含むことを特徴とする表示基板製造方法を提供する。
前記した本願第２４発明の液晶表示装置は、下部基板、上部基板及び液晶層で構成される。下部基板は、第１ベース基板、第１カラーフィルター層及び第２カラーフィルター層を具備する。第１ベース基板が画像が表示される表示領域及び表示領域を取り囲む周辺領域で区画される。第１カラーフィルター層は表示領域に対応して第１ベース基板上に形成され、第２カラーフィルター層は周辺領域に対応して第１ベース基板上に形成される。上部基板は第１ベース基板と向き合う第２ベース基板及び第２ベース基板上に形成された共通電極を具備する。液晶層は上部基板と下部基板との間に介在される。本願第１発明と同様の作用効果を奏する。
【００２４】
本願第２５発明は、第２４発明において、前記下部基板は、前記第１ベース基板上の前記表示領域に形成され前記共通電極と電気的に連結された共通電極ラインと、前記第１ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記共通電極ラインと互いに異なる層に具備され、前記共通電極ラインと電気的に連結された第３出力ラインと、をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００２５】
本願第２６発明は、第２５発明において、前記第２カラーフィルター層は、前記第３出力ラインと前記共通電極ラインとが互いに電気的に連結される領域を除いた領域に具備されることを特徴とする液晶表示装置を提供する。
本願第２７発明は、第２５発明において、前記下部基板は、前記第１及び第２カラーフィルター層をカバーする有機膜をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、表示特性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施例をより詳細に説明する。
図１は本発明の一実施例による下部基板の一部を示す平面図である。図２は図１の切断面Ｉ-Ｉ’に沿って切断した断面図である。
図１及び図２に示すように、下部基板１１００は第１ベース基板１１１０、ゲートラインＧＬ、データラインＤＬ、薄膜トランジスタ１１２０、画素電極１１３０、第１カラーフィルター層１１５０、第２カラーフィルター層１１５５及び有機膜１１６０を含む。
【００２８】
本実施例において、第１ベース基板１１１０は画像が表示される表示領域ＤＡ及び前記表示領域ＤＡを取り囲み実質的に前記画像が表示されない周辺領域ＰＡで区画される。前記第１ベース基板１１１０はガラスや石英のように光を透過させる透明な材質からなる。
前記ゲートラインＧＬは前記第１ベース基板１１１０上に形成され、前記下部基板１１００は前記ゲートラインＧＬを複数具備する。前記複数のゲートラインは第１方向Ｄ１に延長され形成され、前記第１方向Ｄ１と直交する第２方向Ｄ２に配置される。例えば、前記下部基板１１００の解像度が１０２４×７６８である場合、約７６８個のゲートラインが前記第２方向Ｄ２に配置される。
【００２９】
前記データラインＤＬは前記第１ベース基板１１１０上に形成され、前記下部基板１１００は前記データラインＤＬを複数具備する。前記複数のデータラインは前記第２方向Ｄ２に延長され形成され、前記第１方向Ｄ１に配置される。例えば、前記下部基板１１００の解像度が１０２４×７６８の場合、約１０２４×３個のデータラインが前記第１方向Ｄ１に配置される。
【００３０】
図３は図２に示されたＴＦＴを概念的に示す平面図である。
図２及び図３に示すように、前記ＴＦＴ１１２０は前記第１ベース基板１１１０上に形成され、前記ゲートラインＧＬ及び前記データラインＤＬと連結される。
前記ＴＦＴ１１２０は前記表示領域ＤＡに複数形成される。例えば、前記下部基板１１００の解像度が１０２４×７６８の場合、１０２４×７６８×３個のＴＦＴが形成される。
【００３１】
前記ＴＦＴ１１２０はゲート電極１１２１、アクティブ層１１２２、オーミックコンタクト層１１２３、ソース電極１１２４及びドレイン電極１１２５を具備する。
前記ゲート電極１１２１は前記ゲートラインＧＬから分岐され形成され、ゲート信号を受信する。図２に示されていないが、前記ゲート電極１１２１は前記ゲートラインＧＬと同一層に形成される。
【００３２】
前記ゲート電極１１２１が形成された前記第１ベース基板１１１０上には前記ゲート絶縁膜１１４０が形成される。前記ゲート絶縁膜１１４０は前記ゲート電極１１２１及び前記ゲートラインＧＬを保護する。
前記ゲート絶縁膜１１４０上の前記表示領域ＤＡには前記アクティブ層１１２２及び前記オーミックコンタクト層１１２３が順次に形成される。前記アクティブ層１１２２及び前記オーミックコンタクト層１１２３は前記ゲート電極１１２１と対応して具備される。前記オーミックコンタクト層１１２３は前記アクティブ層１１２２を部分的に露出するように中央部が除去される。前記アクティブ層１１２２の露出された領域はチャンネル領域に提供される。
【００３３】
前記オーミックコンタクト層１１２３の上部には前記ソース電極１１２４及び前記ドレイン電極１１２５が形成される。前記ソース電極１１２４及び前記ドレイン電極１１２５は前記チャンネル領域中心で互いに対向して位置する。前記ソース電極１１２４はデータラインＤＬから分岐されて形成され、データ信号を受信する。
一方、前記画素電極１１３０は前記ＴＦＴ１１２０と電気的に連結され、前記第１カラーフィルター層１１５０の上面に形成される。前記画素電極１１３０はインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯ）またはインジウム亜鉛酸化物（以下、ＩＺＯ）のような透明性導電物質からなる。
【００３４】
前記第１カラーフィルター層１１５０は前記ＴＦＴ１１２０の前記ドレイン電極１１２５と一対一対応する位置に形成される。前記第１カラーフィルター層１１５０は赤色波長の光を選択的に通過させる赤色カラーフィルター、緑色波長の光を選択的に通過させる緑色カラーフィルター及び青色波長の光を選択的に通過させる青色カラーフィルターを含む。
【００３５】
前記下部基板１１００は前記第１カラーフィルター層１１５０が前記表示領域ＤＡのみに形成されるので、前記表示領域ＤＡと前記周辺領域ＰＡ間の境界部で段差が発生する。
前記第２カラーフィルター層１１５５は前記周辺領域ＰＡに形成され、前記表示領域ＤＡと前記周辺領域ＰＡ間の段差を減少させる。前記第２カラーフィルター層１１５５は前記第１カラーフィルター層１１５０と同一の材質から形成される。前記第２カラーフィルター層１１５５は前記第１カラーフィルター層１１５０を形成する工程と同一の工程を通じて形成され、望ましくは、前記第１カラーフィルター層１１５０を形成する過程で共に形成される。
【００３６】
前記第２カラーフィルター層１１５５は前記第１カラーフィルター層１１５０と所定間隔離隔されて配置され、棒形状に形成される。
前記有機膜１１６０は前記第１カラーフィルター層１１５０及び前記第２カラーフィルター層１１５５を覆うように前記第１ベース基板１１１０の全体に形成され、前記下部基板１１００の上面を平坦化させる機能をする。前記第１カラーフィルター層１１５０及び前記有機膜１１６０は前記ドレイン電極１１２５を露出するように部分的に除去され形成されたコンタクトホールＣＨを有する。前記画素電極１１３０は前記コンタクトホールＣＨを通じて前記ドレイン電極１１２５と電気的に連結される。
【００３７】
前記有機膜１１６０は前記ゲートラインＧＬ及び前記データラインＤＬの端部に形成されたパッド部を露出するように一部分が除去され形成されたビアホールＶＨを有する。
図４は図１に示された第２カラーフィルター層の他の一例を示す部分切開平面図である。
図４に示すように、前記第２カラーフィルター層１１７０は前記周辺領域ＰＡに形成され、前記表示領域ＤＡを取り囲む。ここで、前記第２カラーフィルター層１１５５は前記表示領域ＤＡと前記周辺領域ＰＡ間の段差を減少させるか、または段差が発生しないように適合した幅を有することが望ましい。
【００３８】
図５は図１に示された第２カラーフィルター層のさらにまたの一例を示す部分切開平面図である。
図５に示すように、前記第１カラーフィルター層１１８０は前記表示領域ＤＡ及び前記周辺領域ＰＡに形成される。前記第１カラーフィルター層１１８０は前記周辺領域ＰＡ全体に形成されるか、部分的に形成されることもできる。前記第１カラーフィルター層１１８０が前記周辺領域ＰＡ全体に形成される場合、前記下部基板１１００は前記第２カラーフィルター層１１５５（図１参照）を具備しないこともあり得る。前記第１カラーフィルター層１１８０は前記周辺領域ＰＡで前記複数のゲートライン及び前記複数のデータラインのパッド部を露出するように一部分が除去され形成された開口部を有する。
【００３９】
このように、前記第１カラーフィルター層１１８０は前記表示領域ＤＡから延長され前記周辺領域ＰＡにまで形成されるので、前記表示領域ＤＡと前記周辺領域ＰＡ間の段差を防止することができる。
図６は図１に示された第１及び第２カラーフィルター層のさらにまたの一例を示す部分切開平面図である。
【００４０】
図６に示すように、前記第１カラーフィルター層１１９０は前記表示領域ＤＡ全体及び前記周辺領域ＰＡの一部分に形成される。
前記第２カラーフィルター層１１９５は前記周辺領域ＰＡに形成され、棒形状に形成される。前記第２カラーフィルター層１１９５は前記複数のゲートライン及び前記複数のデータラインのパッド部側に位置する。前記第１カラーフィルター層１１９０は前記表示領域ＤＡを間に置き、前記第２カラーフィルター層１１９５と対向する端部が前記周辺領域ＰＡに位置する。
【００４１】
ゲートライン及びデータラインのパッド側だけでなく、第２カラーフィルター層と対向する端部においても第１カラーフィルター層が配置されることで、当該端部においても画素部と周辺領域との段差をなくすことができる。
図７は本発明の一実施例による液晶表示装置の断面図である。
図１及び図７に示すように、液晶表示装置１０００は下部基板１１００、上部基板１２００及び液晶層１３００を含む。
【００４２】
前記下部基板１１００は第１ベース基板１１１０、ＴＦＴ１１２０、画素電極１１３０、ゲート絶縁膜１１４０、第１及び第２カラーフィルター層１１５０、１１５５及び有機膜１１６０を含む。
この実施例において、前記下部基板１１００は図１に示された下部基板と同一の構成を有するので、その重複された説明は省略する。
【００４３】
この実施例において、前記第１カラーフィルター層１１５０は前記第１ベース基板１１１０の表示領域ＤＡに形成される。しかし、前記第１カラーフィルター層１１５０は図５及び図６に示された第１カラーフィルター層１１８０、１１９０のように、前記表示領域ＤＡの外側に拡張され前記周辺領域ＰＡに形成されることもできる。
また、この実施例において、前記第２カラーフィルター層１１５５は前記第１ベース基板１１１０の周辺領域ＰＡに棒形状に形成されるが、図４に示された第２カラーフィルター層１１７０のように、表示領域ＤＡを取り囲むように閉ループ形状に形成されることもできる。
【００４４】
前記上部基板１２００は前記下部基板１１００と向き合うように配置される。前記上部基板１２００は前記画素電極１１３０と向き合う共通電極を含む。
前記下部基板１１００と前記上部基板１２００との間にはシーラント１４００が介在される。前記シーラント１４００は前記下部基板１１００と前記上部基板１２００とを互いに結合させ、前記液晶層１３００を前記下部基板１１００と前記上部基板１２００との間に密封する。
【００４５】
図８は本発明の他の実施例による液晶表示装置を示す平面図であり、図９は図８に示された下部基板を示す平面図である。
図８及び図９に示すように、前記液晶表示装置２０００は下部基板２１００、前記下部基板２１００と対向して結合する上部基板２２００及び前記下部基板２１００に実装されデータ信号を出力する駆動チップ２３００を含む。
【００４６】
前記下部基板２１００は第１ベース基板１１１０及び前記第１ベース基板１１００上に形成された複数の画素部を含む。
前記第１ベース基板１１１０は画像が表示される表示領域ＤＡ及び前記表示領域を取り囲む周辺領域ＰＡで区画される。前記周辺領域ＰＡは実質的に前記画像が表示されない。前記第１ベース基板１１１０は図１に示された第１ベース基板１１１０と同一であるので、重複された説明は省略する。
【００４７】
前記複数の画素部は複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ及び複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍからなる。ここで、ｎとｍは１以上の自然数である。
前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎは第１方向Ｄ１に延長され形成され、前記第１方向Ｄ１と直交する第２方向Ｄ２に配置される。前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎは前記表示領域ＤＡで前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍと絶縁され交差し、ゲート信号を伝送する。
【００４８】
前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍは前記第２方向Ｄ２に延長されて形成され、前記第１方向Ｄ１に配置される。前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍは前記駆動チップ２３００と電気的に連結され前記データ信号を伝送する。
各画素部Ｐｘはゲートライン及びデータラインと連結された薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）１１２０及び前記ＴＦＴ１１２０と電気的に連結された画素電極１１３０を具備する。
【００４９】
前記下部基板２１００は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成され前記ゲート信号を出力する第１ゲート駆動部２１１０をさらに含む。
前記第１ゲート駆動部２１１０は外部から入力される制御信号に応答して前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎにゲート信号を順次に出力する。前記第１ゲート駆動部２１１０は前記ＴＦＴ１１２０を形成する工程と同一の工程を通じて前記ＴＦＴ１１２０を形成する過程で共に形成される。
【００５０】
しかし、前記第１ゲート駆動部２１１０は前記駆動チップ２３００に内蔵されるか、別途のチップで形成され前記ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに実装されることもできる。前記第１ゲート駆動部２１１０が前記駆動チップ２３００に内蔵される場合には前記駆動チップ２３００は前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎに前記ゲート信号を出力する。
【００５１】
図１０は図９に示された第１ゲート駆動部を示すブロック図である。
図１０に示すように、前記第１ゲート駆動部２１１０は回路部ＣＳ及び前記回路部ＣＳに隣接して具備された入力部ＬＳを含む。
前記回路部ＣＳは互いに従属的に連結された第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１からなり、第１ないし第ｎゲート信号ＯＵＴ１〜ＯＵＴｎを順次に出力する。
【００５２】
前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１は第１クロック端子ＣＫ１、第２クロック端子ＣＫ２、第１入力端子ＩＮ１、第２入力端子ＩＮ２、アース電圧端子Ｖ１、リセット端子ＲＥ、キャリー端子ＣＲ及び出力端子ＯＵＴを含む。
前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のうち奇数番目ステージＳＲＣ１、ＳＲＣ３、．．．ＳＲＣｎ＋１の前記第１クロック端子ＣＫ１には第１クロックＣＫＶが提供され、偶数番目ステージＳＲＣ２、．．．ＳＲＣｎの前記第１クロック端子ＣＫ１には前記第１クロックＣＫＶと異なる位相を有する第２クロックＣＫＶＢが提供される。一方、前記奇数番目のステージＳＲＣ１、ＳＲＣ２、．．．ＳＲＣｎ＋１の前記第２クロック端子ＣＫ２には前記第２クロックＣＫＶＢが提供され、前記偶数番目ステージＳＲＣ２、．．．ＳＲＣｎの前記第２クロック端子ＣＫ２には前記第１クロックＣＫＶが提供される。
【００５３】
前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣ＋１それぞれの第１入力端子ＩＮ１には開始信号ＳＴＶまたは直前ステージの前端ゲート信号が入力される。前記一番目の駆動ステージＳＲＣ１の第１入力端子ＩＮ１には前記回路部ＣＳの動作が開始される前記開始信号ＳＴＶが提供される。
一方、前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１それぞれの第２入力端子ＩＮ１には次のステージの後端キャリー信号が入力される。前記第ｎ＋１ステージＳＲＣｎ＋１は前記ｎ番目ステージＳＲＣｎの第２入力端子ＩＮ２にキャリー信号を提供するためにダミーで備えられたステージである。前記ｎ＋１ステージＳＲＣｎ＋１の第２入力端子ＩＮ２には次のステージの後端キャリー信号の代わりに前記開始信号ＳＴＶが提供される。
【００５４】
前記第１ないし第ｎステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のオフ電圧端子Ｖ１には前記オフ電圧Ｖｏｆｆが提供され、前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のリセット端子ＲＥには前記ｎ＋１番目のステージＳＲＣｎ＋１から出力された第ｎ＋１ゲート信号が提供される。
前記奇数番目ステージＳＲＣ１、ＳＲＣ３、．．．、ＳＲＣｎ＋１のキャリー端子ＣＲ及び出力端子ＯＵＴでは前記第１クロックＣＫＶが出力され、前記偶数番目のステージＳＲＣ２、．．．、ＳＲＣｎのキャリー端子ＣＲ及び出力端子ＯＵＴでは前記第２クロックＣＫＶＢが出力される。前記第２ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ２〜ＳＲＣｎ＋１のキャリー端子ＣＲから出力されたキャリー信号は直前ステージの第２入力端子ＩＮ２に提供される。また、前記第１ないし第ｎステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎの出力端子ＯＵＴから出力された第１ないし第ｎゲート信号ＯＵＴ１〜ＯＵＴｎは次のステージの第１入力端子ＩＮ１に提供される。
【００５５】
一方、前記入力部ＬＳは前記第１ないし第５信号配線ＳＬ１、ＳＬ２、ＳＬ３、ＳＬ４、ＳＬ５を含む。
前記第１信号配線ＳＬ１は外部から前記オフ電圧Ｖｏｆｆの入力を受ける。前記第２信号配線ＳＬ２は外部から前記第１クロックＣＫＶの入力を受け、前記第３クロック配線ＳＬ３は外部から前記第２クロックＣＫＶＢの入力を受ける。前記第４信号配線ＳＬ４は外部から提供された前記開始信号ＳＴＶを前記第１ステージＳＲＣ１の第１入力端子ＩＮ１及び前記第ｎ＋１ステージＳＲＣｎ＋１の第２入力端子ＩＮ２に提供する。前記第５信号配線ＳＬ５は前記ｎ＋１ステージＳＲＣｎ＋１から出力された第ｎ＋１ゲート信号を前記第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のリセット端子ＲＥに提供する。
【００５６】
本発明の一実施例として、前記第５信号配線ＳＬ５、第４信号配線ＳＬ４、第３信号配線ＳＬ３、第２信号配線ＳＬ２及び第１信号配線ＳＬ１は順次に前記回路部ＣＳに隣接して配置される。従って、前記第１信号配線ＳＬ１は他の配線より前記第１ベース基板１１１０（図２参照）の最外郭に配置される。
前記入力部ＬＳは第１、第２及び第３連結配線ＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３をさらに含む。
【００５７】
前記第１連結配線ＣＬ１は前記第１信号配線ＳＬ１を前記回路部ＣＳの第１ないし第ｎ＋１ステージＳＲＣ１〜ＳＲＣｎ＋１のオフ電圧端子Ｖ１に連結する。前記第２連結配線ＣＬ２は前記第２信号配線ＳＬ２を前記回路部ＣＳの奇数番目のステージＳＲＣ１、ＳＲＣ３、．．．、ＳＲＣｎ＋１の第１クロック端子ＣＫ１及び偶数番目のステージＳＲＣ２、．．．、ＳＲＣｎの第２クロック端子ＣＫ２に連結させる。前記第３連結配線ＣＬ３は前記第３信号配線ＳＬ３を前記回路部ＣＳの偶数番目のステージＳＲＣ２、．．．、ＳＲＣｎの第１クロック端子ＣＫ１及び奇数番目のステージＳＲＣ１、ＳＲＣ３、．．．、ＳＲＣｎ＋１の第２クロック端子ＣＫ２に連結させる。
【００５８】
また、図９に示すように、前記下部基板２１００は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成された第２ゲート駆動部２１２０をさらに具備することができる。前記第２ゲート駆動部２１２０は前記第１ゲート駆動部２１１０と対向して具備される。即ち、前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０は前記表示領域ＤＡの両側にそれぞれ具備される。
【００５９】
前記第２ゲート駆動部２１２０は前記表示領域ＤＡを中心に前記第１ゲート駆動部２１１０が具備された領域とそれとは反対の領域間のセルギャップを同一に合わせるために形成される。それだけではなく、前記第２ゲート駆動部２１２０は前記第１ゲート駆動部位２１１０の機能を分担するために形成されることができる。
前記第２ゲート駆動部２１２０は前記第１ゲート駆動部２１１０と同一の機能を遂行する場合には、前記第１ゲート駆動部２１１０と同様に外部から入力される制御信号に応答してゲート信号を出力し、前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎに出力されたゲート信号を提供する。
【００６０】
これとは異なり、前記第２ゲート駆動部２１２０が単純に前記周辺領域ＰＡのセルギャップを均一にするために形成される場合にはゲート信号を出力しない。
前記第２ゲート駆動部２１２０は前記第１ゲート駆動部２１１０と同様に、前記ＴＦＴ１１２０を形成する工程と同一の工程で形成され、前記ＴＦＴ１１２０が形成されるとき共に形成される。
【００６１】
また、図８に示すように、前記下部基板２１００は前記第１ベース基板１１１０の前記表示領域ＤＡに形成された第１カラーフィルター層２１３０及び前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成された第２カラーフィルター層２１４０をさらに具備する。
前記第１カラーフィルター層２１３０は前記表示領域ＤＡに対応して具備され、外部から提供される光を用いて所定の色を発現するＲ、Ｇ、Ｂ色画素からなる。
【００６２】
前記第２カラーフィルター層２１４０は前記周辺領域ＰＡに対応して具備され、前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０の上部に形成される。前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第１カラーフィルター層２１３０と同様に前記Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素からなるか、前記Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素のうちいずれか一つの色画素のみからなることができる。
【００６３】
前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第１カラーフィルター層２１３０を形成する工程と同一の工程を通じて形成され、前記第１カラーフィルター層２１３０を形成する過程で共に形成される。
前記第２カラーフィルター層２１３０は前記表示領域ＰＡを取り囲むように前記周辺領域ＰＡ全体に形成されることができ、前記表示領域ＤＡの両側、即ち、前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０が形成された領域のみに位置することもできる。
【００６４】
このように、前記第２カラーフィルター層２１４０が前記表示領域ＤＡの両側のみに具備される場合、前記第１カラーフィルター層２１３０が前記周辺領域ＰＡ側に拡張され前記第２カラーフィルター層２１４０の機能を代わりにすることもできる。
即ち、前記第１カラーフィルター層２１３０は、前記表示領域ＤＡから前記駆動チップ２３００が位置する前記第１ベース基板１１１０のソース側及び前記ソース側と対向する端部側に拡張される。従って、前記第１カラーフィルター層２１３０は前記表示領域ＤＡの他にも前記周辺領域ＰＡを部分的にカバーする。
【００６５】
図１１は図８の切断線ＩＩ-ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
図８及び図１１に示すように、前記第１ベース基板１１１０上の前記表示領域ＤＡには前記ＴＦＴ１１２０が具備される。前記ＴＦＴ１１２０は図２に示されたＴＦＴ１１２０と同一の構成を有するので、その重複された説明は省略する。
前記下部基板２１００は前記ＴＦＴ１１２０及び前記第１ゲート駆動部２１１０を保護する保護膜２１５０をさらに具備する。前記保護膜２１５０は前記ＴＦＴ１１２０及び前記第１ゲート駆動部２１１０が形成された前記第１ベース基板１１１０上に形成される。
【００６６】
前記保護膜２１５０上には第１及び第２カラーフィルター層２１３０、２１４０が形成される。前記第１カラーフィルター層２１３０は前記表示領域ＤＡに形成される。
前記第２カラーフィルター層２１４０は前記周辺領域ＰＡに形成され、前記第１カラーフィルター層２１３０と同一の材質からなる。前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０の上部に位置して前記第１及び第２ゲート駆動部２１１０、２１２０及び前記上部基板２２００を互いに絶縁させる。これにより、前記液晶表示装置２０００は前記下部基板２１００及び上部基板２２００が前記周辺領域ＰＡで互いにショートされることを防止することができる。
【００６７】
前記第１及び第２カラーフィルター層２１３０、２１４０は同一の厚さに形成される。従って、前記液晶表示装置２０００は前記表示領域ＤＡのセルギャップＧ１と前記周辺領域ＰＡのセルギャップＧ２間の差異を減少することができる。また、前記下部基板２１００は前記周辺領域ＰＡの厚さを厚く形成することができるので、前記液晶表示装置２０００は前記周辺領域ＰＡで光が漏洩されることを防止することができる。
【００６８】
これにより、前記液晶表示装置２０００は前記周辺領域ＰＡで染みが発生することを防止することができるので、表示特性を向上させることができる。
一方、前記保護膜２１５０及び前記第１カラーフィルター層２１３０は前記ＴＦＴ１１２０のドレイン電極１１２５を部分的に露出するように一部分が除去され形成されたコンタクトホールＣＨを有する。
【００６９】
前記画素電極１１３０は前記第１カラーフィルター層２１３０の上面に形成される。前記画素電極１１３０はインジウム錫酸化物ＩＴＯ、またはインジウム亜鉛酸化物ＩＺＯのような透明な導電物質からなる。前記画素電極１１３０は前記コンタクトホールＣＨを通じて前記ＴＦＴ１１２０と電気的に連結される。
前記上部基板２２２０は前記下部基板２１００と対向して具備される。前記上部基板２２００は第２ベース基板２２１０、ブラックマトリックス２２２０及び共通電極２２３０を含む。
【００７０】
前記第２ベース基板２２１０は光を透過させる透明な材質からなり、前記第１ベース基板１１１０と対向して位置する。前記ブラックマトリックス２２２０は前記第２ベース基板２２１０上に形成され光を遮断する。前記ブラックマトリックス２２２０は前記ＴＦＴ２１２０及び前記周辺領域ＰＡと対応して位置する。前記共通電極２２３０は前記ブラックマトリックス２２２０が形成された前記第２ベース基板２２１０上に形成され共通電圧を提供する。前記共通電極２２３０は前記ＩＴＯやＩＺＯのような透明な導電性物質からなる。前記下部基板２１００と前記上部基板２２００との間には液晶層１３００が介在される。前記液晶層１３００は前記画素電極１１３０と前記共通電極２２３０との間に形成された電解によって光の透過率を調節する。これにより、前記液晶表示装置２０００は前記画像を表示する。
【００７１】
図１２ないし図１４は図１１に示された下部基板の製造工程過程を示す断面図である。
図１２に示すように、前記第１ベース基板１１１０の前記表示領域ＤＡには前記ＴＦＴ１１２０が形成される。前記ＴＦＴ１１２０を形成する過程で前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡには前記第１ゲート駆動部２１１０が形成される。
図１２ないし図１４には図示していないが、前記第１ゲート駆動部２１１０と共に前記第２ゲート駆動部２１２０（図８参照）が形成され、前記ＴＦＴ１１２０を形成する過程で前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ（図２参照）及び前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍ（図９参照）が共に形成される。
【００７２】
以後、前記第１ベース基板１１１０の上部に前記ＴＦＴ１１２０及び前記第１ゲート駆動部２１１０をカバーする前記保護膜２１５０を形成する。
図１３に示すように、前記保護膜２１５０上に所定の色を有する色画素層ＣＰを形成する。前記色画素層ＣＰをパターニングして前記第１カラーフィルター層２１３０をなす前記Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素のうちいずれか一つの色画素を形成し、同時に前記第２カラーフィルター層２１４０を形成する。
【００７３】
ここで、前記色画素層ＣＰは前記Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素のうちいずれか一つの色画素からなる。従って、前記第１カラーフィルター層２１３０は各Ｒ、Ｇ、Ｂ色画素と対応する三つの色画素層を各色画素層別に蒸着しパターニングする工程を反復して形成する。
図１４に示すように、前記第１カラーフィルター層２１３０及び前記保護膜２１５０は一部分が除去され前記コンタクトホールＣＨを形成する。図１１に示されたように、前記第１カラーフィルター層２１３０の上部に前記画素電極１１３０を形成して前記下部基板２１００を完成する。
【００７４】
図１５は図９‘Ａ’部分を拡大して示す平面図である。
図９及び図１５に示すように、前記下部基板２１００は前記第１ゲート駆動部２１１０と電気的に連結された第１出力部をさらに具備する。前記第１出力部は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成され、前記第１ゲート駆動部２１１０から出力されたゲート信号を伝送する。
【００７５】
前記第１出力部は複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐからなり、前記複数の出力ライン ＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐは前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと電気的に連結される。ここで、ｐは１以上の自然数である。
この実施例において、前記複数の出力ライン ＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐの構造は互いに同一で、前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐと前記複数のゲートライン ＧＬ１〜Ｇｌｎと間の連結関係が同一である。従って、以下、第１出力ラインＯＬ１＿１を一例にして前記複数の出力ライン ＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐの構造を説明し、前記第１出力ラインＯＬ１＿１と第１ゲートラインＧＬ１と間の連結関係を一例にして前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐと間の連結関係を説明する。
【００７６】
図１６は図１５の切断線ＩＩＩ-ＩＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
図１５及び図１６に示すように、前記第１出力ラインＯＬ１＿１はゲート絶縁膜１１４０の上部に形成され、前記保護膜２１５０は前記第１出力ラインＯＬ１＿１の上部に具備され前記第１出力ラインＯＬ１＿１をカバーする。前記第１出力ラインＯＬ１＿１には前記第１ゲートラインＧＬ１と隣接した端部に出力パッドＯＬ１＿ＯＰが形成される。
【００７７】
前記第１ゲートラインＧＬ１には前記第１出力ラインＯＬ１＿１と隣接した端部に入力パッドＧＬ１＿ＩＰが形成され、前記入力パッドＧＬ１＿ＩＰ側端部が前記周辺領域ＰＡに具備される。前記第１ゲートラインＧＬ１は前記ゲート絶縁膜１１４０の下に具備される。従って、前記第１出力ラインＯＬ１＿１及び前記第１ゲートラインＧＬ１は互いに異なる層に具備される。
【００７８】
前記ゲート絶縁膜１１４０及び前記保護膜２１５０は一部分が除去され形成された第１ビアホールＶＨ１を具備する。前記第１ビアホールＶＨ１は前記第１ゲートラインＧＬ１の前記入力パッドＧＬ１＿ＩＰを部分的に露出する。
前記保護膜２１５０は一部分が除去され形成された第２ビアホールＶＨ２をさらに具備する。前記第２ビアホールＶＨ２は前記第１出力ラインＯＬ１＿１の前記出力パッドＯＬ１＿ＯＰを部分的に露出する。
【００７９】
前記下部基板２１００は前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐを電気的に連結する第１電極層２１７０をさらに具備する。
前記第１電極層２１７０は前記保護膜２１５０上に形成され、透明な導電性物質からなる。前記第１電極層２１７０は前記画素電極１１３０（図９参照）を形成する工程と同一の工程で形成され、前記画素電極１１３０を形成する過程で共に形成する。
【００８０】
前記第１電極層２１７０は前記第１ビアホールＶＨ１を通じて前記第１ゲートラインＧＬ１と電気的に連結され、前記第２ビアホールＶＨ２を通じて前記第１出力ラインＯＬ１＿１と電気的に連結される。これにより、前記第１出力ラインＯＬ１は前記第１ゲートラインＧＬ１と電気的に連結され、前記第１ゲートラインＧＬ１は前記第１出力ラインＯＬ１＿１からゲート信号を受信する。
【００８１】
前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第１電極層２１７０と対応する領域で除去される。これは、前記第２カラーフィルター層２１４０が前記出力パッドＯＬ１＿ＯＰ及び前記入力パッドＧＬ１＿ＩＰの上部に具備され、前記第１及び第２ビアホールＶＨ１、ＶＨ２と前記第１及び第２ビアホールＶＨ１、ＶＨ２を成す周辺部と間の段差が大きいためである。
【００８２】
このように段差が大きいと、前記第１電極層２１７０と前記出力パッドＯＬ１＿ＯＰ及び前記入力パッドＧＬ１＿ＩＰ間のコンタクトがうまく行われないことがあり得る。そのため、前記第１ゲートラインＧＬ１と前記第１出力ラインＯＬ１＿１間の電気的連結が切れるか、不完全に連結され得る。これを防止するために、前記第２カラーフィルター層２１４０は前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ及び前記複数の出力ライン ＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐが電気的に連結される領域で除去される。
【００８３】
また、図８及び図９に示すように、前記下部基板２１００は前記第２ゲート駆動部２１２０と電気的に連結された第２出力部をさらに具備する。前記第２出力部は前記第１出力部と同様に、前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成され、前記第２ゲート駆動部２１２０から出力されたゲート信号を伝送する。
前記第２出力部は複数のゲート出力ラインＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑからなり、前記複数のゲート出力ライン ＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑは前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと電気的に連結される。ここで、ｑは１以上の自然数である。
【００８４】
この実施例において、前記複数のゲート出力ライン ＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑの構造は前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐと同一である。また、前記複数のゲート出力ラインＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑと前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと間の連結関係は前記複数の出力ラインＯＬ１＿１〜ＯＬ１＿ｐと前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと間の連結関係と互いに同一である。従って、前記複数のゲート出力ラインＯＬ２＿１〜ＯＬ２＿ｑに関する重複される説明は省略する。
【００８５】
図１７は図８の切断線ＩＶ-ＩＶ’に沿って切断した断面図である。
図８及び図９に示すように、前記下部基板２１００は前記第１ベース基板１１１０上に形成され前記共通電圧を印加する複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎ及び前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎに前記共通電圧を提供する第３出力部ＯＬ３をさらに含む。
前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは前記第１方向Ｄ１に延長され形成され、前記第２方向Ｄ２に配置される。前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは前記表示領域ＤＡ及び前記周辺領域ＰＡにかけて位置する。前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは一端部が前記第３出力部ＯＬ３と連結され前記共通電圧を受信する。
【００８６】
図示していないが、前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは前記上部基板２２００に具備された前記共通電極２２３０（図１７参照）と電気的に連結される。これにより、前記共通電極２２３０は前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎから前記共通電圧を受信する。
前記第３出力部ＯＬ３は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに位置し、前記表示領域ＤＡを部分的に取り囲む。前記第３出力部ＯＬ３は前記駆動チップ２３００と連結され前記駆動チップ２３００から前記共通電圧を受信する。
【００８７】
前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎは同一の構造を有し、前記第３出力部ＯＬ３との連結関係も同一である。従って、前記複数の共通電極ラインＣＬ１〜ＣＬｎと前記第３出力部ＯＬ３と間の連結関係に対する説明において、第１共通電極ラインＣＬ１を一例にして前記第３出力部ＯＬ３との連結関係を説明する。
図８及び図１７に示すように、前記第１共通電極ラインＣＬ１は前記第１ベース基板１１１０上に形成され、前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎと同一層に具備される。前記第１共通電極ラインＣＬ１は一端部が前記周辺領域ＰＡに位置する。
【００８８】
前記ゲート絶縁膜１１４０は前記第１共通電極ラインＣＬ１が形成された第１ベース基板１１１０上に形成される。
前記第３出力部ＯＬ３は前記ゲート絶縁１１４０の上面に形成され、前記保護膜２１５０は前記第３出力部ＯＬ３が形成された前記ゲート絶縁膜１１４０上に形成される。このように、前記第３出力部ＯＬ３及び前記第１共通電極ラインＣＬ１は互いに異なる層に具備される。
【００８９】
前記第３出力部ＯＬ３と前記第１共通電極ラインＣＬ１とを電気的に連結するために第３及び第４ビアホールＶＨ３、ＶＨ４を具備する。
前記第３、及び第４ビアホールＶＨ３、ＶＨ４は前記周辺領域ＰＡに形成され、互いに隣接して位置する。前記第３ビアホールＶＨ３は前記ゲート絶縁膜１１４０及び前記保護膜２１５０を部分的に除去して形成され、前記第１共通電極ラインＤＬ１の一端部を露出する。前記第４ビアホールＶＨ４は前記保護膜２１５０を部分的に除去して形成され、前記第３出力部ＯＬ３を部分的に露出する。
【００９０】
前記下部基板２１００は前記第３出力部ＯＬ３と前記第１共通電極ラインＣＬ１を電気的に連結する第２電極層２１８０をさらに具備する。
前記第２電極層２１８０は前記保護膜２１５０の上面に形成され、前記周辺領域ＰＡに位置する。前記第２電極層２１８０は前記第１電極層２１７０（図１５参照）と同一の材質から形成され、前記第１電極２１７０を形成する際、同時に形成される。前記第２電極層２１８０は前記第３ビアホールＶＨ３を通じて前記第１共通電極ラインＣＬ１と電気的に連結され、前記第４ビアホールＶＨ４を通じて前記第３出力部ＯＬ３と電気的に連結される。前記第２電極層２１８０は前記第３ビアホールＶＨ３が形成された領域に延長され前記第４ビアホールＶＨ４が形成された領域にかけて形成される。これにより、前記第１共通電極ラインＣＬ１及び前記第３出力部ＯＬ３は前記第２電極層２１８０を通じて電気的に連結される。
【００９１】
前記第２カラーフィルター層２１４０は第１共通電極ラインＣＬ１及び前記第３出力部ＯＬ３と前記電極層ＯＬ３が安定的にコンタクトされるように、前記第１共通電極ラインＣＬ１と前記第３出力部ＯＬ３とが電気的に連結される領域、即ち、前記第２電極層２１８０と対応する領域には形成されない。
図８及び図９に示すように、前記下部基板２１００は前記複数のデータラインＤＬ１〜ＤＬｍを通じて前記表示領域ＤＡに静電気が流入されることを防止する静電気遮断回路２１６０をさらに具備する。
【００９２】
前記静電気遮断回路２１６０は前記第１ベース基板１１１０の前記周辺領域ＰＡに形成される。前記静電気遮断回路２１６０は前記駆動チップ３００と表示領域ＰＡとの間に位置する。
図１８は図８の切断線Ｖ-Ｖ’線に沿って切断した断面図である。
図８及び図１８に示すように、前記液晶表示装置２０００は前記下部基板２１００と前記上部基板２２００とを結合して前記液晶層１３００を封入するシーラント１４００をさらに具備する。
【００９３】
前記静電気遮断回路２１６０は前記液晶層１３００が位置する領域に形成される。前記周辺領域ＰＡに延長された前記第１カラーフィルター層２１３０及び前記第２カラーフィルター層２１４０は前記静電気遮断回路２１６０の上部に形成されない。
図面には図示されていないが、前記静電気遮断回路２１６０は前記ゲート絶縁膜１１４０の下部に具備される第１電極及び前記ゲート絶縁１１４０の上面に具備される第２電極を含む。前記第１及び第２電極は前記複数のゲートラインＧＬ１〜ＧＬｎ及び前記第１出力部を連結する方法と同様に、第３電極を用いて電気的に連結される。前記第１カラーフィルター層２１３０及び前記第２カラーフィルター層２１４０は前記第３の電極が前記第１及び第２電極と安定的にコンタクトされるように前記静電気遮断回路２１６０が形成された領域で除去される。
【００９４】
前記液晶表示装置２０００は前記駆動チップ２３００を前記下部基板２１００に付着する異方性導電フィルム（以下、ＡＣＦ）２４００をさらに含む。前記ＡＣＦ２４００は前記下部基板２１００と前記駆動チップ２３００との間に介在され前記下部基板２１００及び前記駆動チップ２３００を電気的に連結する。
前述した本発明によると、液晶表示装置は表示領域に形成された第１カラーフィルター層及び画像が表示されない周辺領域に形成された第２カラーフィルター層を有する下部基板を含む。下部基板は表示領域だけではなく、周辺領域にもカラーフィルター層を形成して表示領域と周辺領域と間の段差を最小化することができるので、表示領域と周辺領域と間のセルギャップの差異を最小化することができる。これにより、液晶表示装置は表示領域と周辺領域と間の光透過率の差異のため発生される縁の染みを防止することができ、表示特性を向上させることができる。
【００９５】
また、第２カラーフィルター層を、第１カラーフィルター層と同じカラーフィルター層により形成することにより、段差をなくす構造を、第１カラーフィルターと同じ製造工程で形成できるなど、全体の製造工程を容易にしつつ表示部と周辺領域との段差をなくすことができる。
また、第２カラーフィルター層は第１及び第２ゲート駆動部の上部に具備されるので、第１及び第２ゲート駆動部と共通電極を互いに絶縁させる。これにより、液晶表示装置は周辺領域で上部基板と下部基板とが互いにショートされることを防止することができる。
【００９６】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の一実施例による下部基板の一部を示す平面図である。
【図２】図１の切断面Ｉ−Ｉ’線による断面図である。
【図３】図２に示された薄膜トランジスタを概念的に示す平面図である。
【図４】図１に示された第２カラーフィルターの他の一例を示す部分切開平面図である。
【図５】図１に示されたダミーフィルターのさらにまたの一例を示す部分切開平面図である。
【図６】図１に示されたダミーフィルターのさらにまたの一例を示す部分切開平面図である。
【図７】本発明の一実施例による液晶表示装置の断面図である。
【図８】本発明の他の実施例による液晶表示装置を示す平面図である。
【図９】図８に示された下部基板を示す平面図である。
【図１０】図９に示された第１ゲート駆動部を示すブロック図である。
【図１１】図８の切断線ＩＩ-ＩＩ’による平面図である。
【図１２】図１１に示された下部基板の製造過程を示す断面図である。
【図１３】図１１に示された下部基板の製造過程を示す断面図である。
【図１４】図１１に示された下部基板の製造過程を示す断面図である。
【図１５】図９の‘Ａ’部分を拡大して示す平面図である。
【図１６】図１５の切断線ＩＩＩ-ＩＩＩ’線に沿って切断した断面図である。
【図１７】図８の切断線ＩＶ-ＩＶ’線に沿って切断した断面図である。
【図１８】図８の切断線Ｖ-Ｖ’線に沿って切断した断面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１００ 下部基板
２００ 上部基板
３００ 駆動チップ
４００ 液晶層
５００ 液晶表示装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像が表示される表示領域及び前記表示領域を取り囲む周辺領域で区画されるベース基板と、
前記表示領域に対応して前記ベース基板上に形成された画素部と、
前記表示領域に対応して前記画素部が形成された前記ベース基板上に形成された第１カラーフィルター層と、
前記周辺領域に対応して前記ベース基板上に形成された第２カラーフィルター層と、
を含むことを特徴とする表示基板。
【請求項２】
前記ベース基板上の前記周辺領域に前記画素部と同一の層から形成され、前記画素部と電気的に連結され、ゲート信号を出力する第１ゲート駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項３】
前記第２カラーフィルター層は、前記第１ゲート駆動部の上部に形成されることを特徴とする請求項２記載の表示基板。
【請求項４】
前記第２カラーフィルター層は、前記画素部と前記第１ゲート駆動部が電気的に連結された領域を除いた領域に形成されることを特徴とする請求項２記載の表示装置。
【請求項５】
前記ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記第１ゲート駆動部と電気的に連結された第１出力ラインと、
前記ベース基板上の前記表示領域に形成し、前記第１出力ラインと電気的に連結されたゲートラインと、をさらに含み、
前記画素部と前記第１ゲート駆動部は前記第１出力ラインと前記ゲートラインを通じて電気的に連結されたことを特徴とする請求項４記載の表示基板。
【請求項６】
前記ゲートラインが形成された前記ベース基板上に形成し、前記ゲートラインを部分的に露出するように一部分が除去され形成された第１ビアホールを有し、上面に前記第１出力ラインが形成された絶縁層と、
前記第１出力ラインが形成された前記絶縁層上に形成され、前記第１出力ラインを部分的に露出するように一部分が除去され形成された第２ビアホールを有する保護膜と、
前記保護膜上に形成され、前記第１及び第２ビアホールを通じて前記ゲートライン及び前記第１出力ラインと電気的に連結された電極層と、をさらに含むことを特徴とする請求項５記載の表示基板。
【請求項７】
前記ベース基板上の前記周辺領域に前記第１ゲート駆動部と同一の層から形成され、前記画素部を間に置き前記第１ゲート駆動部と向き合う第２ゲート駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項２記載の表示基板。
【請求項８】
前記第２カラーフィルター層は、前記画素部と前記第２ゲート駆動部とが互いに電気的に連結された領域を除いた領域に形成されたことを特徴とする請求項７記載の表示基板。
【請求項９】
前記ベース基板の前記表示領域内に形成されたゲートラインと、
前記ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記ゲートラインと互いに異なる層に形成され、前記第２ゲート駆動部及び前記ゲートラインと電気的に連結され前記第２ゲート駆動部から出力されたゲート信号を伝送する第２出力ラインと、をさらに含み、
前記画素部と前記第２ゲート駆動部は前記ゲートラインと前記第２出力ラインを通じて電気的に連結されたことを特徴とする請求項７記載の表示基板。
【請求項１０】
前記第２カラーフィルター層は、前記第２ゲート駆動部の上部に形成されることを特徴とする請求項９記載の表示基板。
【請求項１１】
前記ベース基板の前記周辺領域に形成され、前記ベース基板のソース側に具備され静電気が前記表示領域内に流入されることを防止する静電気遮断回路をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項１２】
前記第２カラーフィルター層は、前記静電気遮断回路が具備された領域を除いた領域に形成されたことを特徴とする請求項１１記載の表示基板。
【請求項１３】
前記第１カラーフィルター層は、前記表示領域の外側に拡張され一部分が前記周辺領域に形成され、前記周辺領域で前記ベース基板のソース側及び前記ソース側と対向する領域に位置することを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項１４】
画像が表示される表示領域及び前記表示領域を取り囲む周辺領域で区画された基板と、
前記基板上の表示領域に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタが具備された前記基板の前記表示領域に形成された第１カラーフィルター層と、
前記基板の前記周辺領域に形成され第２カラーフィルター層と、
前記第１及び第２カラーフィルター層が覆われるように前記表示領域及び前記周辺領域に形成された有機膜と、
前記第１カラーフィルター層に対応して前記有機膜上に形成され前記薄膜トランジスタと電気的に連結された画素電極と、
を含むことを特徴とする表示基板。
【請求項１５】
前記第１カラーフィルター層及び前記第２カラーフィルター層は互いに所定間隔で離隔され形成されたことを特徴とする請求項１４記載の表示基板。
【請求項１６】
前記第２カラーフィルター層は、前記棒形状を有することを特徴とする請求項１５記載の表示基板。
【請求項１７】
前記第２カラーフィルター層は、前記表示領域を取り囲むことを特徴とする請求項１６記載の表示基板。
【請求項１８】
前記第２カラーフィルター層は、少なくとも二つ以上具備され、前記第２カラーフィルター層は所定の間隔で離隔されることを特徴とする請求項１７記載の表示基板。
【請求項１９】
前記第１カラーフィルター層は、前記表示領域の外側に延長され端部が前記周辺領域に形成されたことを特徴とする請求項１４記載の表示基板。
【請求項２０】
前記周辺領域に形成された前記第１カラーフィルター層の端部は前記表示領域を間に置き前記第２カラーフィルター層と向き合うことを特徴とする請求項１９記載の表示基板。
【請求項２１】
前記第２カラーフィルター層は、前記第１カラーフィルター層と一体に形成されることを特徴とする請求項１４記載の表示基板。
【請求項２２】
ベース基板上の表示領域に画素部を形成する段階と、
前記画素部が形成された前記ベース基板上に色画素層を形成する段階と、
前記色画素層をパターニングして前記表示領域に対応して第１カラーフィルター層と同一の層から前記表示領域を取り囲む周辺領域に対応して第２カラーフィルター層を形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示基板製造方法。
【請求項２３】
前記画素部を形成する段階で、
前記ベース基板上の前記周辺領域に前記画素部にゲート信号を提供する第１ゲート駆動部を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項２２記載の表示基板製造方法。
【請求項２４】
画像が表示される表示領域及び前記表示領域を取り囲む周辺領域で区画された第１ベース基板、前記表示領域に対応して前記第１ベース基板上に形成された第１カラーフィルター層、及び前記周辺領域に対応して前記第１ベース基板上に形成された第２カラーフィルター層を具備する下部基板と、
第１ベース基板と向き合う第２ベース基板及び前記第２ベース基板上に形成された共通電極を具備する上部基板と、
前記上部基板と前記下部基板との間に具備された液晶層と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２５】
前記下部基板は、
前記第１ベース基板上の前記表示領域に形成され前記共通電極と電気的に連結された共通電極ラインと、
前記第１ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記共通電極ラインと互いに異なる層に具備され、前記共通電極ラインと電気的に連結された第３出力ラインと、をさらに含むことを特徴とする請求項２４記載の液晶表示装置。
【請求項２６】
前記第２カラーフィルター層は、前記第３出力ラインと前記共通電極ラインとが互いに電気的に連結される領域を除いた領域に具備されることを特徴とする請求項２５記載の液晶表示装置。
【請求項２７】
前記下部基板は、前記第１及び第２カラーフィルター層をカバーする有機膜をさらに含むことを特徴とする請求項２５記載の液晶表示装置。
【請求項１】
画像が表示される表示領域及び前記表示領域を取り囲む周辺領域で区画されるベース基板と、
前記表示領域に対応して前記ベース基板上に形成された画素部と、
前記表示領域に対応して前記画素部が形成された前記ベース基板上に形成された第１カラーフィルター層と、
前記周辺領域に対応して前記ベース基板上に形成された第２カラーフィルター層と、
を含むことを特徴とする表示基板。
【請求項２】
前記ベース基板上の前記周辺領域に前記画素部と同一の層から形成され、前記画素部と電気的に連結され、ゲート信号を出力する第１ゲート駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項３】
前記第２カラーフィルター層は、前記第１ゲート駆動部の上部に形成されることを特徴とする請求項２記載の表示基板。
【請求項４】
前記第２カラーフィルター層は、前記画素部と前記第１ゲート駆動部が電気的に連結された領域を除いた領域に形成されることを特徴とする請求項２記載の表示装置。
【請求項５】
前記ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記第１ゲート駆動部と電気的に連結された第１出力ラインと、
前記ベース基板上の前記表示領域に形成し、前記第１出力ラインと電気的に連結されたゲートラインと、をさらに含み、
前記画素部と前記第１ゲート駆動部は前記第１出力ラインと前記ゲートラインを通じて電気的に連結されたことを特徴とする請求項４記載の表示基板。
【請求項６】
前記ゲートラインが形成された前記ベース基板上に形成し、前記ゲートラインを部分的に露出するように一部分が除去され形成された第１ビアホールを有し、上面に前記第１出力ラインが形成された絶縁層と、
前記第１出力ラインが形成された前記絶縁層上に形成され、前記第１出力ラインを部分的に露出するように一部分が除去され形成された第２ビアホールを有する保護膜と、
前記保護膜上に形成され、前記第１及び第２ビアホールを通じて前記ゲートライン及び前記第１出力ラインと電気的に連結された電極層と、をさらに含むことを特徴とする請求項５記載の表示基板。
【請求項７】
前記ベース基板上の前記周辺領域に前記第１ゲート駆動部と同一の層から形成され、前記画素部を間に置き前記第１ゲート駆動部と向き合う第２ゲート駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項２記載の表示基板。
【請求項８】
前記第２カラーフィルター層は、前記画素部と前記第２ゲート駆動部とが互いに電気的に連結された領域を除いた領域に形成されたことを特徴とする請求項７記載の表示基板。
【請求項９】
前記ベース基板の前記表示領域内に形成されたゲートラインと、
前記ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記ゲートラインと互いに異なる層に形成され、前記第２ゲート駆動部及び前記ゲートラインと電気的に連結され前記第２ゲート駆動部から出力されたゲート信号を伝送する第２出力ラインと、をさらに含み、
前記画素部と前記第２ゲート駆動部は前記ゲートラインと前記第２出力ラインを通じて電気的に連結されたことを特徴とする請求項７記載の表示基板。
【請求項１０】
前記第２カラーフィルター層は、前記第２ゲート駆動部の上部に形成されることを特徴とする請求項９記載の表示基板。
【請求項１１】
前記ベース基板の前記周辺領域に形成され、前記ベース基板のソース側に具備され静電気が前記表示領域内に流入されることを防止する静電気遮断回路をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項１２】
前記第２カラーフィルター層は、前記静電気遮断回路が具備された領域を除いた領域に形成されたことを特徴とする請求項１１記載の表示基板。
【請求項１３】
前記第１カラーフィルター層は、前記表示領域の外側に拡張され一部分が前記周辺領域に形成され、前記周辺領域で前記ベース基板のソース側及び前記ソース側と対向する領域に位置することを特徴とする請求項１記載の表示基板。
【請求項１４】
画像が表示される表示領域及び前記表示領域を取り囲む周辺領域で区画された基板と、
前記基板上の表示領域に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタが具備された前記基板の前記表示領域に形成された第１カラーフィルター層と、
前記基板の前記周辺領域に形成され第２カラーフィルター層と、
前記第１及び第２カラーフィルター層が覆われるように前記表示領域及び前記周辺領域に形成された有機膜と、
前記第１カラーフィルター層に対応して前記有機膜上に形成され前記薄膜トランジスタと電気的に連結された画素電極と、
を含むことを特徴とする表示基板。
【請求項１５】
前記第１カラーフィルター層及び前記第２カラーフィルター層は互いに所定間隔で離隔され形成されたことを特徴とする請求項１４記載の表示基板。
【請求項１６】
前記第２カラーフィルター層は、前記棒形状を有することを特徴とする請求項１５記載の表示基板。
【請求項１７】
前記第２カラーフィルター層は、前記表示領域を取り囲むことを特徴とする請求項１６記載の表示基板。
【請求項１８】
前記第２カラーフィルター層は、少なくとも二つ以上具備され、前記第２カラーフィルター層は所定の間隔で離隔されることを特徴とする請求項１７記載の表示基板。
【請求項１９】
前記第１カラーフィルター層は、前記表示領域の外側に延長され端部が前記周辺領域に形成されたことを特徴とする請求項１４記載の表示基板。
【請求項２０】
前記周辺領域に形成された前記第１カラーフィルター層の端部は前記表示領域を間に置き前記第２カラーフィルター層と向き合うことを特徴とする請求項１９記載の表示基板。
【請求項２１】
前記第２カラーフィルター層は、前記第１カラーフィルター層と一体に形成されることを特徴とする請求項１４記載の表示基板。
【請求項２２】
ベース基板上の表示領域に画素部を形成する段階と、
前記画素部が形成された前記ベース基板上に色画素層を形成する段階と、
前記色画素層をパターニングして前記表示領域に対応して第１カラーフィルター層と同一の層から前記表示領域を取り囲む周辺領域に対応して第２カラーフィルター層を形成する段階と、
を含むことを特徴とする表示基板製造方法。
【請求項２３】
前記画素部を形成する段階で、
前記ベース基板上の前記周辺領域に前記画素部にゲート信号を提供する第１ゲート駆動部を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項２２記載の表示基板製造方法。
【請求項２４】
画像が表示される表示領域及び前記表示領域を取り囲む周辺領域で区画された第１ベース基板、前記表示領域に対応して前記第１ベース基板上に形成された第１カラーフィルター層、及び前記周辺領域に対応して前記第１ベース基板上に形成された第２カラーフィルター層を具備する下部基板と、
第１ベース基板と向き合う第２ベース基板及び前記第２ベース基板上に形成された共通電極を具備する上部基板と、
前記上部基板と前記下部基板との間に具備された液晶層と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２５】
前記下部基板は、
前記第１ベース基板上の前記表示領域に形成され前記共通電極と電気的に連結された共通電極ラインと、
前記第１ベース基板上の前記周辺領域に形成され、前記共通電極ラインと互いに異なる層に具備され、前記共通電極ラインと電気的に連結された第３出力ラインと、をさらに含むことを特徴とする請求項２４記載の液晶表示装置。
【請求項２６】
前記第２カラーフィルター層は、前記第３出力ラインと前記共通電極ラインとが互いに電気的に連結される領域を除いた領域に具備されることを特徴とする請求項２５記載の液晶表示装置。
【請求項２７】
前記下部基板は、前記第１及び第２カラーフィルター層をカバーする有機膜をさらに含むことを特徴とする請求項２５記載の液晶表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【公開番号】特開２００６−６５３２７（Ｐ２００６−６５３２７Ａ）
【公開日】平成１８年３月９日（２００６．３．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２３５１５３（Ｐ２００５−２３５１５３）
【出願日】平成１７年８月１５日（２００５．８．１５）
【出願人】（３９００１９８３９）三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】４１６，Ｍａｅｔａｎ−ｄｏｎｇ，Ｙｅｏｎｇｔｏｎｇ−ｇｕ，Ｓｕｗｏｎ−ｓｉ Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−ｄｏ，Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年３月９日（２００６．３．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月１５日（２００５．８．１５）
【出願人】（３９００１９８３９）三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】４１６，Ｍａｅｔａｎ−ｄｏｎｇ，Ｙｅｏｎｇｔｏｎｇ−ｇｕ，Ｓｕｗｏｎ−ｓｉ Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−ｄｏ，Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
【Ｆターム（参考）】
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