【課題】液晶表示装置の表示品質の劣化を抑制することである。
【解決手段】絶縁基板の上面に形成されたゲート電極１２と、ゲート電極１２を覆うように積層されたゲート絶縁膜１１と、ゲート絶縁膜１１の上方に形成されるドレイン電極７およびソース電極８と、ゲート絶縁膜１１の上面に積層されて、ゲート電極１２が発生させる電界によりドレイン電極７及びソース電極８間の電流を制御する半導体層９と、半導体層９の上方のチャネル領域１３に対応した領域に形成された開口部１４を有する共通電極２と、ドレイン電極７およびソース電極８から離間して配置された帯電防止パターン１６とを含み、帯電防止パターン１６の一端および他端を共通電極２に接続する。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れる有機導電膜を提供する。
【解決手段】有機導電膜１２ａは、少なくとも導電性ポリマーを含有する導電性組成物を用いて形成された有機導電膜１２ａであって、その片面の最大高さ（Ｒｚ）が、平均膜厚に対して３５％以上である。前記導電性ポリマーは、ポリチオフェン系導電性ポリマーであり、ドーパントとの複合体である。光学フィルム、包装材、透明電極フィルム、液晶表示セル等の構成部材として好適に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】 表示パネル形成に際してのラビング時の静電気対策を主の目的としたカラーフィルタ形成基板の裏面の透明導電層のダメージの不具合を解決でき、且つ、表示用パネルに用いられた際に、横電界の乱れを抑制して、確実に液晶の配向の乱れを抑制できる横電界方式のＬＣＤ表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を提供する。
【解決手段】 透明基板側から、ブラックマトリクス層、各色のカラーフィルタ用の着色層、オーバーコート層、柱状物の順として、且つ、前記透明基板と前記オーバーコート層との間に、全面に、透明導電層を配しており、前記透明導電層は、少なくとも前記カラーフィルタ用の各色の着色層形成領域の一部を開口する開口部を有している。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された絶縁膜の応力を低減し、歩留まりが向上したデバイスおよびこのデバイスを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】本開示の表示装置は、基板と、基板上の一部の領域に形成された金属層と、金属層上に設けられると共に、金属層未形成領域の少なくとも一部に溝を有する第１絶縁膜とを備える。 （もっと読む）

【課題】高開口率と輝度均一性を実現し、画像品質を向上することができる。
【解決手段】サブ画素には、画素電極４ＰＩＸ、画素薄膜トランジスタ４ＴＦＴ、蓄積容量電極ＣＳ２が配置されている。蓄積容量電極ＣＳ２は、蓄積容量線ＣＳと同層で形成され、蓄積容量線ＣＳと電気的に接続されている。蓄積容量４ＣＳは、主に蓄積容量電極ＣＳ２とシリコン層４ＳＩから構成される電極との間で絶縁膜を介して形成される。画素薄膜トランジスタ４ＴＦＴのソース電極又はドレイン電極の一方は、コンタクトホール４ＣＯＮＴ１を介してデータ線Ｄに接続され、他方は、コンタクトホール４ＣＯＮＴ２を介して画素電極４ＰＩＸに接続される。 （もっと読む）

【課題】精細かつ高スループットの導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面、第２の波面および第３の波面を有する基体と、第１の波面上に設けられた第１の層と、第２の波面上に形成された第２の層とを備える。第１の層は２以上の層が積層された積層構造を有し、第２の層は第１の層の一部の層からなる単層構造または積層構造を有し、第１の層および第２の層は導電パターン部を形成する。第１の波面、第２の波面および第３の波面が０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）＜（Ａｍ３／λｍ３）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、Ａｍ３：第３の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長、λｍ３：第３の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、積層構造の単純化を図り、しかも高品質な表示を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、基板上に、データ線（６）に接続された第１ソースドレイン領域、及び画素電極（９）に接続された第２ソースドレイン領域を含んでなる半導体層（３０ａ）と、半導体層と画素電極との間に配置され、一の走査線（１１）に接続されたゲート電極（３０ｂ）とを有するトランジスター（３０）と、一の走査線に隣り合う走査線に接続された第２トランジスターのゲート電極が延在してなる第１容量電極と、第１容量電極と画素電極との間に設けられるとともに第２ソースドレイン領域に接続された第２容量電極とを有する蓄積容量（７０）とを備える。蓄積容量は、半導体層とゲート電極との間の絶縁膜及び半導体層と基板との間の絶縁膜を貫通するとともに基板に設けられた溝内の少なくとも一部に設けられている。 （もっと読む）

【課題】熱応力に起因するヒロック等の欠陥が画素電極の表面に発生することを防止することができる電気光学装置、および該電気光学装置を用いた投射型表示装置提供する。
【解決手段】電気光学装置１００の素子基板１０において、ノンドープシリコン酸化膜からなる第３層間絶縁膜４４と、アルミニウム膜等からなる画素電極９ａとの間にはドープトシリコン酸化膜からなる応力緩和膜４６が形成されている。応力緩和膜４６は、ドープトシリコン酸化膜からなり、第３層間絶縁膜４４と異なる熱膨張係数をもって第３層間絶縁膜４４に接するとともに、画素電極９ａと異なる熱膨張係数をもって画素電極９ａに接している。また、各層の熱膨張係数は以下の関係第３層間絶縁膜４４＜応力緩和膜４６＜画素電極９ａにある。このため、応力緩和膜４６は、第３層間絶縁膜４４と画素電極９ａとの間において熱膨張係数の差を緩和する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、容易に形成することが可能であり、画素電極の断線が生じにくく、高品質なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板、これを用いた液晶表示装置、および上記カラーフィルタ付ＴＦＴ基板を、容易な工程で高いスループットで製造することができ、製造コストを削減することが可能なカラーフィルタ付ＴＦＴ基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】基板と、上記基板上に形成された複数のＴＦＴ素子と、上記基板上に形成された複数色の画素部と、上記画素部上に形成された画素電極と、上記画素部間に配置され、上記ＴＦＴ素子のドレイン電極と上記画素電極とを接続するためのコンタクトホールとを有し、上記コンタクトホール内には、上記ドレイン電極および上記画素電極の間に導電材料が配置されていることを特徴とするカラーフィルタ付ＴＦＴ基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】トップコンタクト構造において、有機半導体層の膜質を確保しつつチャネル領域に対するコンタクト抵抗（注入抵抗）の低減を図る。
【解決手段】有機半導体層１７は、ゲート電極１３を幅方向に覆う状態で配置されており、ゲート電極１３の幅方向の中央部に配置された厚膜部１７−１と、この厚膜部１７−１よりも薄い膜厚を有してゲート電極１３の幅方向の両端に配置された薄膜部１７−２とを有する。またソース電極１９ｓおよびドレイン電極１９ｄは、有機半導体層１７の薄膜部１７−２上に端部が積層される。有機半導体層１７は、厚膜部１７−１が前記ゲート電極１３の幅の範囲内に設けられる一方、薄膜部１７−２は、厚膜部１７−１からゲート電極１３の幅方向の外側に延設される。 （もっと読む）

【課題】表示画素当たりの開口率の低下を抑制することが可能なように光センサが組み込まれた表示装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル１０内に２次元配列された複数の表示画素のうちの列方向に隣接する２個の表示画素からなる表示画素対を挟むようにしてゲートライン１１１を配置するとともに、表示画素対の間にセンサゲートライン１２１を配置する。薄膜トランジスタ光センサＴ０、Ｔ１を各表示画素対に対して行方向に隣接するように配置する。 （もっと読む）

【課題】光源からの出射光の波面変化を面内で連続的に行える位相補正素子を備えた光ヘッド装置を得る。
【解決手段】それぞれ異なる電圧を供給できるようにされている複数の給電部がそれぞれ異なる位置に設けられ、かつ入射光の波面形状を連続的に変化させたい領域を、各給電部への配線部が形成される領域を除き覆うように形成されている１つの連続した電極が少なくとも形成された透明基板の間に異方性光学媒質が備えられている位相補正素子を光源１からの出射光を平行化するコリメートレンズ３と出射光を光記録媒体８へ集光する対物レンズ６の間に配置した光ヘッド装置とする。 （もっと読む）

【課題】大型ガラス基板同士を貼り合わせてパネルとしなくても、機能層を形成した後の大型ガラス基板に対する薄手化および切断を行なうことのできるとともに、大型ガラス基板を切断した際に電気的固体装置用基板が分散することを防止することができる電気的固体装置用基板の製造方法および電気的固体装置を提供すること。
【解決手段】機能層２９を形成した大型ガラス基板２００の一方面２００ａに対して、複数の基板切り出し領域２００ｓの各々を覆う第１保護層２８１と、第１保護層２８１の上から大型ガラス基板２００の一方面２００ａを覆う第２保護層２８２とを形成した状態で第１エッチング工程を行ない、大型ガラス基板２００を薄手化する。また、第２保護層２８２を除去し、かつ、大型ガラス基板２００の他方面２００ｂ側を第３保護層で覆った状態で第２エッチング工程を行ない、大型ガラス基板２００を切断する。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、製造コストの削減を可能ならしめつつ、表示画像のコントラスト比を向上させることにより、画像表示の高品位化を図る。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に、画素電極（９）と、導電層（６、７、１１、７１）と、導電層の端面の少なくとも一部を導電層よりも光反射率の低い遮光性材料で覆うように形成された反射防止膜（８０）とを備える。反射防止膜は、基板上で導電層の下地をなす下地面に、接する又は面する先端部並びにこの先端部に繋がる本体部を有し、先端部の膜厚が本体部の膜厚より薄くなるように、且つその表面が導電層の端面に比して湾曲して又は斜めになるように、形成されている。 （もっと読む）

【課題】視野角を充分に広くし、しかも表示装置相互間の視野角のばらつきを容易に補正する。
【解決手段】画素毎に、第一画素電極5aと第二画素電極5bとを形成し、第一画素電極5aとの間に第一補償容量Cs1を形成する第一容量電極17と、第二画素電極5bとの間に第二及び第三補償容量Cs2，Cs3を形成する第二及び第三容量電極18，19と、第一画素電極5aの外側に配置された第一の横電界生成電極22と、第二画素電極5bの外側に配置された第二の横電界生成電極23と、第一画素電極5aが設けられた領域を第一と第二の領域に区分するように形成された第一誘電体層と、第二画素電極5bが設けられた領域を第三と第四の領域に区分するように形成された第二誘電体層とを設け、第一容量電極17と第二容量電極18とに第一の電圧を印加し、第三容量電極19に第二の電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ−Ｙマトリックスの中の擬似容量エレメントをチャージングおよびディスチャージングするためのアドレス指定メカニズム。
【解決手段】該メカニズムは、高インピーダンスインライン抵抗器（ロジックビット １）と並列な低インピーダンス抵抗器（ロジックビット ０）への回路を開きまたは閉じることなどによって、抵抗器−コンデンサ（ＲＣ）時定数を大きい値と小さい値との間で切り替えられ得る。Ｘ−Ｙマトリックスの中のエレメント（１０２）がアドレスされ制御され得る。Ｘ−Ｙマトリックスは導体の複数の「行」および「列」により構成され得る。列および行（１００および１０１）に沿って生じ得るクロストークは、ヒステリシス管理または行のインピーダンスのその全長にわたる全面的な管理、のいずれかによって削減され得る。それぞれのマトリックスエレメントのアクティブなデバイスのスイッチング機能の必要性が除去される。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板と接続可能な信頼性の高い回路基板を提供する。
【解決手段】基板上に、エネルギーを付与することにより低表面エネルギー状態から高表面エネルギー状態に変化する材料を含有する濡れ性変化層と、前記濡れ性変化層における高表面エネルギー状態の領域上に形成される複数の領域からなる第１の導電層と、前記第１の導電層の複数の領域間における前記濡れ性変化層上に形成される層間絶縁膜と、前記第１の導電層上に形成される第２の導電層とを有し、前記第２の導電層において、信号入出力のためのフレキシブル基板の接続電極と接続される。 （もっと読む）

【課題】フリッカ現象や焼き付き現象を抑制できる液晶装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】液晶装置２は、第１基板１６に設けられた第１配向膜６０と、第２基板１８に設けられた第２配向膜４８と、第１配向膜６０と第２配向膜４８との間に挟持された液晶層４０と、第１基板１６に設けられ、液晶層４０に電界を印加して液晶層４０を調光駆動するための第１電極３６及び第２電極３８と、電界が発生する第１電極３６及び第２電極３８の各界面に設けられた第１絶縁膜９２と、第１基板１６に設けられ、画素スイッチング素子３４の表面を被覆する第２絶縁膜５８と、を含み、第１電極３６は、第２電極３８と同一の材料で構成され、第２配向膜４８は、第１配向膜６０よりも比抵抗が高い材料で構成され、第１配向膜６０は、第１絶縁膜９２よりも比抵抗が高い材料で構成され、第１絶縁膜９２は、第２絶縁膜５８よりも比抵抗が低い材料で構成されている。 （もっと読む）

【課題】 凝集物が除去された印刷インクを版にインキングできるようにする。
【解決手段】 ガイドレール２上を走行する版テーブル４の走行位置の上側に、インク掻き兼充填ブレード１２とインク掻き兼戻しブレード１１を、個別の昇降用アクチュエータ１５と１４により版テーブル４上に保持された版３の表面より離反した位置から接する位置まで独立して昇降駆動できるように設ける。更に、版テーブル４の移動と、各ブレード１２と１１の昇降を制御する制御器を備えて、凝集物破壊機能付きインキング装置Ｉを形成する。版３を保持した版テーブル４を往復移動させながら、版３に対し各ブレード１２と１１を交互に接触させて相対的に摺動させることで、版３上に供給された印刷インクとなるペースト１７の凝集破壊処理を十分に行わせた後、インク掻き兼充填ブレード１２により凝集破壊処理された印刷インクの版への充填を行わせる。 （もっと読む）

【課題】生産性が向上し、かつ特性が良好な半透過性膜、表示デバイス、及びパターン基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる半透過性膜は、光学特性として光の透過特性と反射特性とを有する半透過性膜である。半透過性膜は、アルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金のいずれかに少なくとも４０ｍｏｌ％以上５０ｍｏｌ％未満の窒素を含む窒素含有膜である。また、半透過性膜は、上記の窒素含有膜と金属膜との積層膜とすることも可能である。 （もっと読む）