【課題】 本発明は、撮影した複数の赤外線画像から欠陥位置特定に適した画像を抽出して、短絡欠陥部の位置を正確に特定することを目的とする。
【解決手段】 本発明の配線検査方法は、基板に形成された配線の短絡欠陥部の有無を検査する配線検査方法であって、配線に電圧を印加して前記短絡欠陥部を発熱させる発熱工程（Ｓ３〜Ｓ６）と、基板を撮影して複数の時刻毎の赤外線画像を取得する画像取得工程（Ｓ２〜Ｓ５）と、所定時刻の赤外線画像を用いて発熱領域を認識する発熱領域認識工程（Ｓ８）と、発熱領域から短絡欠陥部の位置を特定できるか判定する発熱領域判定工程（Ｓ９）と、発熱領域から短絡欠陥部の位置を特定する欠陥位置特定工程（Ｓ１０）とを含み、発熱領域認識工程はさらに、発熱領域判定工程において短絡欠陥部の位置を特定できないと判定されたとき、所定時刻と異なる別時刻の赤外線画像を用いて、発熱領域を認識することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配線間の短絡等を発生させずに、複数の配線が並列する配線領域の幅寸法を狭めることのできる電気光学装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置１００では、素子基板１０の辺１０ｅと画素電極配列領域１０ｐとの間で複数の配線１０５が並列する配線領域１１は、一部の配線１０５と他の配線１０５とが異なる層に位置する第２配線領域１１ｂとを備えており、かかる第２配線領域１１ｂでは、異なる層に位置する配線１０５の間に平面視で広い隙間を設けなくても短絡等の問題が発生しない。このため、第２配線領域１１ｂについては、配線１０５間の短絡等を発生させず、幅方向の寸法を第１配線領域１１ａより狭くすることができる。 （もっと読む）

【課題】表示品位の劣化を抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１方向Ｘに延びた第１ゲート配線Ｇ１および第２ゲート配線Ｇ２と、第１方向Ｘと交差する第２方向Ｙに延びたソース配線Ｓと、第１ゲート配線Ｇ１と第２ゲート配線Ｇ２との間に配置され、第２方向Ｙに延びた主画素電極ＰＡを含む画素電極ＰＥと、を備えた第１基板ＡＲと、主画素電極ＰＡを挟んだ両側で主画素電極ＰＡと略平行に延びた共通電極ＣＥを有する第２基板ＣＴと、第１基板ＡＲと第２基板ＣＴとの間に保持された液晶分子ＬＭを含む液晶層ＬＱと、を備え、第１ゲート配線Ｇ１と第２ゲート配線Ｇ２との少なくとも一方は、ソース配線Ｓと交差する位置において画素電極ＰＥ側の端部に設けられた凹部ＧＸを備える液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】フラットパネル修復に、検査切断修復結合ツール及び独立体積修復ツールの２種類が必要である
【解決手段】装置は、統合された検査機能と、材料除去機能と、材料堆積機能とを備え、検査動作、材料除去動作、及び材料堆積動作を同じ光軸に沿って実行する。装置は、部分的に、カメラと、一対のレンズと、１つ又は複数のレーザとを備える。第１のレンズは、検査を受けているターゲット基板上に形成される構造上に光軸に沿ってカメラを合焦させるために使用される。第１のレンズは、検査された構造が材料除去を必要としていると識別される場合、構造上にレーザビームを合焦させて、その構造上に存在する材料を除去するためにも使用される。第２のレンズは、検査された構造が材料堆積を必要としていると識別される場合、レーザビームをリボン上に合焦させて、リボンに形成された埋め込みウェルから流動的複合物を構造に転写するために使用される。 （もっと読む）

【課題】表示品位の劣化を抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１方向に沿って延出した第１ゲート配線及び第２ゲート配線と、第２方向に沿って延出した第１ソース配線及び第２ソース配線と、第１ソース配線のエッジの直上に位置し第２方向に沿って延出した帯状の第１主画素電極、第２ソース配線のエッジの直上に位置し第２方向に沿って延出した帯状の第２主画素電極、及び、第１主画素電極及び第２主画素電極を繋ぎ第１方向に沿って延出した帯状の第１副画素電極を備えた画素電極と、を備えた第１基板と、第１主画素電極と第２主画素電極との間に位置し第２方向に沿って延出した帯状の第１主共通電極、第１ソース配線の上方に位置し第２方向に沿って延出した帯状の第２主共通電極、及び、第２ソース配線の上方に位置し第２方向に沿って延出した帯状の第３主共通電極を備えた共通電極を備えた第２基板と、を備えた液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】石英ガラスなどのガラスに較べて紫外線透過率の低い樹脂シートの表面に形成した透明電極の検査に必要な測定精度を得ることのできる透明電極の観察装置を提供すること。
【解決手段】樹脂シートＦの表面に形成された透明電極Ｐの光透過率が５０％以下となる２００〜３００ｎｍの波長帯域の紫外線光を含む光を照射する光源１と、光源１から照射された紫外線光によって励起され、蛍光発光した樹脂シートＦの光の強度が０．１以上となる４００〜５００ｎｍの波長帯域の光を透過する光学フィルタ２と、光学フィルタ２を透過した可視域の波長に感度を有する画像を撮影するカメラ３とを備えたので、透明電極Ｐが形成された部位は暗くなり、それ以外の部位は明るく撮影される。これにより、可視光では視認が困難な透明電極Ｐの形状を特定でき、透明電極Ｐの検査に必要な測定精度を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】高い動作信頼性を有する表示素子を提供する。
【解決手段】この液晶表示素子は、透明基板と、その一方の面に形成された透明電極とを有する透明電極基板と、液晶層と、液晶層を挟んで透明電極と対向する領域に位置する複数の画素電極、およびそれ以外の領域に位置する第１の導電膜を含む第１の層と、第１の導電膜と重複する領域に位置する第２の導電膜を含む第２の層とを順に有する画素電極基板とを備える。ここで、第１および第２の導電膜の少なくとも一方が電気的に孤立している。 （もっと読む）

【課題】表示パネルにおいて、電流リークによる不良品を低減する。
【解決手段】表示パネルの製造方法は、基板の主表面上に複数の層を形成したものを用いて表示パネルを製造する方法であって、前記複数の層のうち最終製品に残存する各層を前記主表面に近いものから順に第１構造層、第２構造層、第３構造層、…、第ｎ構造層と呼ぶこととしたときに、１≦ｋ≦ｎ−１を満たす全てのｋに関して、第ｋ構造層を成膜する工程Ｓ（ｋ，１）と、前記第ｋ構造層を成膜する工程より後で第ｋ＋１構造層を成膜する工程より前に、前記第ｋ構造層の上面を研磨することによって平坦化する工程Ｓ（ｋ，３）とを、それぞれ含み、さらに、第ｎ構造層を成膜する工程Ｓ（ｎ，１）と、前記第ｎ構造層の上面を研磨することによって平坦化する工程Ｓ（ｎ，３）とを含む。 （もっと読む）

【課題】画像表示における視野角を改善し、液晶の配向乱れによる画質劣化を抑制する半透過型の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】絶縁面上に絶縁膜を有する第１の領域と、絶縁面上に絶縁膜を有さない第２の領域とを有し、第１の領域において、絶縁膜上に第１の導電膜を有し、第２の領域において、絶縁面上に第２の導電膜を有し、第１の導電膜は、光を反射する機能を有し、第２の導電膜は、光を透過する機能を有し、第１の導電膜上に、及び、第２の導電膜上に、液晶層を有し、第１の領域において、絶縁膜は、第１の凸部と第２の凸部とを有し、絶縁膜の端部から第１の導電膜の端部までの距離が、絶縁膜の端部から第２の導電膜の第１の端部までの距離よりも長い領域を有し、第１の凸部と第２の凸部との間の凹部の底の位置から第１の凸部の頂上の位置までの高さが、絶縁面から凹部の底の位置までの高さよりも低い領域を有する液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】ゲートスルーホールに接続される配線部のカバレジが不足するとともに、ゲートスルーホール端部において、配線部のショートが生じる場合がある。
【解決手段】表示装置であって、基板上の所定の位置に形成された電極層と、電極層上に形成された絶縁膜に設けられたゲートスルーホールを介して電極層と接続される配線膜と、を有し、前記ゲートスルーホールは、前記積層方向に順に水平方向に対して、第1のテーパ角を有する第１のテーパ部と、前記第１のテーパ角と異なる第２のテーパ角を有する第２のテーパ部と、前記第２のテーパ角と異なる第３のテーパ角を第３のテーパ部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】端子部の微細化が図られた液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 画素配列領域および周辺領域１０５を含む主表面を有する透明基板１３１と、画素配列領域に形成されたスイッチング素子と、透明基板１３１の主表面上に形成された層間絶縁膜１４０と、端部が層間絶縁膜１４０から露出するように形成された配線と、透明基板１３１の主表面から配線に達するように形成された透明導電膜１１８とを備え、透明基板１３１の主表面上に位置する透明導電膜１１８の上面上に異方性導電膜１６０が配置される。 （もっと読む）

【課題】表示品位の劣化を抑制することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１方向に第１幅を有し第１方向に交差する第２方向に沿って延出した主画素電極と、第１方向に第１幅よりも大きい第２幅をおいて向かい合う第１エッジ及び第２エッジを有し前記主画素電極と電気的に接続された副画素電極と、前記主画素電極を挟んだ両側で第２方向に沿って延出し前記第１エッジ及び前記第２エッジの少なくとも一方と向かい合う位置で途切れた第１主共通電極と、第１方向に沿って延出し前記第１主共通電極と電気的に接続された第１副共通電極と、を備えた第１基板と、前記第１主共通電極に対向し第２方向に沿って延出するとともに前記第１主共通電極と電気的に接続された第２主共通電極を備えた第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、を備えたことを特徴とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】段差部にて、絶縁膜の両側に形成される電極同士が短絡する恐れのない液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１の基板は、アクティブ素子と、前記アクティブ素子よりも上層に形成された第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜よりも上層に設けられた第１の電極と、前記第１の電極よりも上層に設けられた第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜よりも上層に設けられた第２の電極とを有し、前記第１の絶縁膜は、第１のコンタクトホールを有し、前記第２の絶縁膜は、前記第１の電極と前記第２の電極との間と、前記第１のコンタクトホール内とに一体的に形成されており、前記第１のコンタクトホール内の前記第２の絶縁膜には、第２のコンタクトホールが形成されており、前記第２の絶縁膜は、第１の膜厚で形成した後、前記第２の電極を形成する前に前記第１の膜厚よりも薄い第２の膜厚まで薄膜化されて形成される。 （もっと読む）

【課題】少ない回数のレーザ光の照射で、確実に配線の不良部分を正確に修正することができる配線の修正装置を提供する。
【解決手段】基板２上の処理を要する被処理配線２９にレーザ光Ｌｔを出射することで処理を行う配線の修正装置Ｒｓであって、レーザ光Ｌｔの光軸と交差する方向のエネルギ分布を中心部が高く、辺縁部が低くなるように、レーザ光の透過率を調整する絞り部材５を備えている。 （もっと読む）

【課題】ソース配線とゲート配線とが製造工程中の静電気によるショートを防止すること
が可能な液晶表示装置の素子構造を提供することを目的とする。
【解決手段】ソース配線が第１の半導体層、第２の半導体層、及び導電層によって構成さ
れる。そして、ソース配線とゲート配線の交差部において、ソース配線の端部の導電層を
除去して、半導体層がはみ出した形状とする。なお、ゲート配線、第１の半導体層、第２
の半導体層、及び導電層の材料はＴＦＴを形成するために用いた材料と同一の材料からな
る。 （もっと読む）

【課題】映像信号線とコモン電極間が異物によってショートした場合に、レーザカットによってショートを解消する際の成功率を向上させる。
【解決手段】映像信号線２００と走査線３００によって囲まれた領域に間に画素電極１１０とコモン電極１０８が形成されている。コモン電極１０８はコモン電極スリット１０によって、細いストライプ部とコモン電極本体とに分けられる。映像信号線２００とコモン電極１０８とがショートした場合、コモン電極スリット１０の両端をレーザカット３０で開放することによってストライプ部をコモン電極本体と分離する。これによって映像信号線２００とコモン電極１０８とのショートの影響を無くす。 （もっと読む）

【課題】高いコストパフォーマンスを有する電気光学装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】表示領域の周辺部に引き廻される、画素のトランジスターを構成するゲート電極と同じ配線層に設けられた検査配線７１と、ゲート電極と第１層間絶縁膜４５を挟んで配置されたビデオ信号配線７２と、を有し、検査配線７１とビデオ信号配線７２とが平面的に交差する部分では、ビデオ信号配線７２が異なる配線層に設けられた中継配線７２ａを経由して接続されている。 （もっと読む）

【課題】簡易な工程で製造歩留まりを向上させることが可能なデバイスの製造方法および表示装置の製造方法等を提供する。
【解決手段】基板１１上にデバイス（ＴＦＴ層１２）を形成する工程は、薄膜を形成する工程（工程Ｓ１１）と、薄膜上にフォトレジスト膜を形成する工程（工程Ｓ１２）と、露光マスクＭ１を用いてフォトレジスト膜に対して露光を行う露光工程（工程Ｓ１３）と、露光がなされたフォトレジスト膜をエッチングする工程（工程Ｓ１５）とを含んでいる。露光工程では、フォトレジスト膜に対する露光を複数回連続して行う（工程Ｓ１３１，Ｓ１３２）。これにより、製造工程の増加を抑えつつ、異物の混入等に起因した薄膜パターンにおけるエッチング不良を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】表示画質を向上させることが可能な表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】表示装置１は、表示素子（液晶素子ＬＣ）を含む複数の画素１０と、互いに異なる階調電位を保持する複数種類の電位線（黒電位線ＬＢおよび白電位線ＬＷ）と、複数種類の電位線のうちの選択された１種の電位線の階調電位が表示素子に対して供給されるように、映像信号に基づいて各画素１０の表示駆動を行う駆動部とを備えている。表示素子への印加電圧または印加電流の変動量に対する表示輝度の変動量に対応する輝度勾配が相対的に急峻である階調電位（例えば黒階調電位）を保持する第１の電位線（例えば黒電位線ＬＢ）の抵抗値が、輝度勾配が相対的に緩やかである階調電位（例えば白階調電位）を保持する第２の電位線（例えば白電位線ＬＷ）の抵抗値と比べて低くなっている。 （もっと読む）

【課題】表示基板とその製造方法及びこれを有する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１領域と第２領域に区分された画素領域を有する基板上に第１及び第２領域にかけて形成されたストレージ電極、ストレージ電極上に形成される透明絶縁膜パターン、透明絶縁膜パターン上の第１及び第２領域にそれぞれ形成された第１及び第２画素電極を含む表示基板を構成し、第１及び第２画素電極のうちのいずれか１つに凹部が形成されるかまたは透明絶縁膜パターンはストレージ電極上の第１領域に形成された第１開口部と第２領域に形成された第２開口部を含む開口部が形成される。開口部及び凹部は、ストレージ電極が形成された領域上において互いに対応する位置にある。 （もっと読む）